辅助膜的制作方法

本发明涉及一种辅助膜，尤其涉及一种表面设置有多个延伸至周边的微结构的辅助膜。

背景技术：

1、随着科技发展，电子产品朝向高度集成组合性组件与/或高度机械化自动生产，以求增加多任务性，高产出效率与降低产品整体工艺成本。但在这些需求前提下，要如何达到避免各工艺站点中的半成品组件受到污染，或者在机械化生产过程中半成品具备有足够的机械运作承受度，例如半成品在各站点间的移转、模切冲型，或者是卷对卷大量生产等，成为近代制造业面临的一大课题。

2、目前，常见的方式是在一半成品的预保护面上贴附一表面具有离型剂的辅助膜，来避免各工艺对半成品组件的污染，或者满足机械化生产过程对机械运作的承受度。但因为离型剂是一化学材料涂层，对半成品的预保护面上的组件会产生不同程度的污染。再者，在需求高集成集合性组件的情况下，半成品的预保护面上具有异材质组件，而异材质对辅助膜将产生不同的吸附程度，导致移除辅助膜时会造成组件的损伤。

3、鉴于上述熟知技术的问题，本发明提供一种崭新的辅助膜。

技术实现思路

1、本发明的目的在于提供一种辅助膜，其一表面设置有多个微结构，且该微结构的两端分别延伸至所述表面的周边。当本发明的辅助膜设置于一预保护基材的表面上时，该微结构与该预保护基材的表面形成数个开放式气体流道，流体得以通过开放式流道进入基材与辅助膜之间，以增加辅助膜与基材的分离性，进一步减少整体工艺时间。

2、为达到上述目的与功效，本发明提供一种辅助膜，其包含一本体以及多个设置于该本体的第一表面上的微结构，以形成一凹凸起伏表面，所述微结构的两端分别延伸至所述第一表面的周边，其中，当所述本体的所述第一表面贴附于一基材的预保护面时，所述微结构形成一开放式气体流道；利用此开放式气体流道增加辅助膜与基材分离的效率，以对应提升工艺的运转速度，进一步减少整体工艺时间。

3、本发明实施例提供的一种水平复合式电能供应结构，其中，所述基材的所述预保护面设置有至少一组件，该组件抵接所述第一表面。

4、本发明实施例提供的一种水平复合式电能供应结构，其中，所述基材的所述预保护面设置有至少二个相异材质的组件。

5、本发明实施例提供的一种水平复合式电能供应结构，其中，所述组件之一的材料是硅胶。

6、本发明实施例提供的一种水平复合式电能供应结构，其中，所述凹凸起伏表面的算术平均粗糙度为0.1微米至0.5微米之间。

7、本发明实施例提供的一种水平复合式电能供应结构，其中，所述微结构呈v字型结构。

8、本发明实施例提供的一种水平复合式电能供应结构，其中，所述微结构呈u字型结构。

9、本发明实施例提供的一种水平复合式电能供应结构，其中，所述微结构彼此图形相异。

10、本发明实施例提供的一种水平复合式电能供应结构，其中，所述基材是一金属基材。

11、本发明实施例提供的一种水平复合式电能供应结构，其中，所述基材是一片状锂电池的集电层。

12、本发明实施例提供的一种水平复合式电能供应结构，其中，所述微结构间的间距非一固定值。

技术特征：

1.一种辅助膜，其特征在于，包含有：

2.如权利要求1所述的辅助膜，其特征在于，所述基材的所述预保护面设置有至少一组件，该组件抵接所述第一表面。

3.如权利要求2所述的辅助膜，其特征在于，所述基材的所述预保护面设置有至少二个相异材质的组件。

4.如权利要求3所述的辅助膜，其特征在于，所述组件之一的材料是硅胶。

5.如权利要求1所述的辅助膜，其特征在于，所述凹凸起伏表面的算术平均粗糙度为0.1微米至0.5微米之间。

6.如权利要求1所述的辅助膜，其特征在于，所述微结构呈v字型结构。

7.如权利要求1所述的辅助膜，其特征在于，所述微结构呈u字型结构。

8.如权利要求1所述的辅助膜，其特征在于，所述微结构彼此图形相异。

9.如权利要求1所述的辅助膜，其特征在于，所述基材是一金属基材。

10.如权利要求9所述的辅助膜，其特征在于，所述基材是一片状锂电池的集电层。

11.如权利要求1所述的辅助膜，其特征在于，所述微结构间的间距非一固定值。

技术总结
本发明提供一种辅助膜，其包含一本体与多个位于该本体的第一表面上的微结构，所述微结构形成一凹凸起伏表面，且该微结构的两端分别延伸至所述第一表面的周边，使所述辅助膜贴附于一基材的一预保护面上时形成一开放式气体流道，以增加所述本体与基材脱离的效率，减少整体工艺时间。

技术研发人员：杨思枬,吴振旗,许宏良,林志远,萧智龙,徐铭岳
受保护的技术使用者：辉能科技股份有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/15