一种纱线固定纱筒及带有冷却系统的充磁设备的制作方法

本申请属于纺织用新材料纱线的充磁，特别涉及一种纱线固定纱筒及容纳该纱筒的充磁设备。

背景技术：

1、织物由于其良好的拉伸性、柔韧性以及穿戴舒适性，是材料科学和电子技术等跨学科领域研究中非常热门的器件基底材料，是极佳的技术载体。

2、在现有技术中，具有公开号为cn111501149a的公开文件中公开了一种磁性纱线，所述磁性纱线包括：

3、纱线基材，所述纱线基材包括一根、两根或多根纱线单丝；和

4、磁性颗粒，所述磁性颗粒分散在所述纱线基材中，所述磁性颗粒充磁后具有一定的剩磁场朝向，所述磁性颗粒在所述磁性纱线中所占的质量百分数为1-75％。

5、在现有技术中，对纱线的充磁采用单根纱线经过脉冲强磁场进行充磁，这种充磁方法效率低下，而且容易在充磁的过程中将磁性颗粒带走。

技术实现思路

1、本实用新型的目的是针对现有技术中对单根纱线进行充磁的问题，提供了一种能对一纱筒的纱进行充磁的存放用纱筒以及充磁设备。

2、为解决上述技术问题，现提供如下技术方案，第一方面，一种纱线固定纱筒，包括集成底座，集成底座上设置有放置区域，和与放置区域配合的若干纱筒安置单元，

3、纱筒安置单元包括固定多个纱筒的底座单元，底座单元包括底板、设置在底板中央的存放杆、设置在底板四周且将存放杆包围的至少六个固定杆，

4、纱筒套设在存放杆上或固定杆上。

5、在可实施的方式中，纱筒包括纱层厚度在3cm-5cm的大型纱筒和纱层厚度在3cm以下的小型纱筒；

6、大型纱筒套设在存放杆上且被固定杆支撑，

7、小型纱筒套设在固定杆上。

8、在可实施的方式中，集成底座呈圆形；

9、放置区域包括四个均匀分布的圆形凹槽，凹槽内切在圆形的集成底座侧边内。

10、在可实施的方式中，放置区域包括挡边和分隔凹槽的立柱。

11、第二方面，一种带有冷却系统的充磁设备，包括第一方面中任意一种纱线固定纱筒。

12、在可实施的方式中，具有容纳纱线固定纱筒的充磁腔体，充磁腔体为一个带有圆柱形凹腔的圆柱体。

13、在可实施的方式中，充磁腔体包括内腔、外腔、连接内腔和外腔的连接孔；

14、内腔内设置有将凹腔包围的线圈；

15、充磁腔体内填充有用于冷却线圈的冷却液。

16、在可实施的方式中，冷却液通过设置在外腔上的循环泵和连接孔实现循环。

17、本实用新型相比现有技术具有以下有益效果：

18、本申请对缠绕在纱筒上磁性纱线整体充磁，相比现有技术中对单根纱线的充磁其整体效率更高，且能对单根纱线上附着的磁性颗粒起到很好的防护作用，有效的防止了其掉落。

19、纱筒的结构能适应多种规格和厚度的纱线充磁，结构简单适应性好。

20、充磁设备也方便纱筒的取放，存放杆还可以与自动机械手配合确保了操作人员的安全；其上设置的冷却机构简单，安全性高。

技术特征：

1.一种纱线固定纱筒，其特征在于，包括集成底座(1)，所述集成底座(1)上设置有放置区域(2)，和与所述放置区域(2)配合的若干纱筒安置单元(3)，所述纱筒安置单元(3)包括固定多个纱筒(4)的底座单元(5)，所述底座单元(5)包括底板(51)、设置在所述底板(51)中央的存放杆(52)、设置在所述底板(51)四周且将所述存放杆(52)包围的至少六个固定杆(53)，

2.根据权利要求1所述的纱线固定纱筒，其特征在于，所述纱筒(4)包括纱层厚度在3cm-5cm的大型纱筒(41)和纱层厚度在3cm以下的小型纱筒(42)；

3.根据权利要求1或2所述的纱线固定纱筒，其特征在于，所述集成底座(1)呈圆形；

4.根据权利要求3所述的纱线固定纱筒，其特征在于，所述放置区域(2)包括挡边(21)和分隔所述凹槽的立柱。

5.一种带有冷却系统的充磁设备，其特征在于，包括权利要求1至3中任意一种纱线固定纱筒。

6.根据权利要求5所述的带有冷却系统的充磁设备，其特征在于，具有容纳所述纱线固定纱筒的充磁腔体(6)，所述充磁腔体(6)为一个带有圆柱形凹腔的圆柱体。

7.根据权利要求6所述的带有冷却系统的充磁设备，其特征在于，所述充磁腔体(6)包括内腔(61)、外腔(62)、连接所述内腔(61)和所述外腔(62)的连接孔(63)；

8.根据权利要求7所述的带有冷却系统的充磁设备，其特征在于，所述冷却液通过设置在所述外腔(62)上的循环泵和所述连接孔(63)实现循环。

技术总结
一种纱线固定纱筒及带有冷却系统的充磁设备，属于纺织用新材料纱线的充磁技术领域，包括集成底座，集成底座上设置有放置区域，和与放置区域配合的若干纱筒安置单元，纱筒安置单元包括固定多个纱筒的底座单元，底座单元包括底板、设置在底板中央的存放杆、设置在底板四周且将存放杆包围的至少六个固定杆，纱筒套设在存放杆上或固定杆上。针对现有技术中对单根纱线进行充磁的问题，提供了一种能对一纱筒的纱进行充磁的存放用纱筒以及充磁设备。

技术研发人员：董波,刘林,刘伟
受保护的技术使用者：湖州草本源新材料有限公司
技术研发日：20230518
技术公布日：2024/1/22