一种比色皿晾干架的制作方法

本实用新型属涉及光谱分析设备仪器领域，具体涉及一种比色皿晾干架。

背景技术：

比色皿是一种用于光谱分析的装备仪器。其主要是由石英粉烧制的石英比色皿，也有微量、半微量、荧光等比色皿出现。

比色皿在光谱分析后需要进行清洗以便后续使用，在清洗过后都放置在晾干架上晾干，现有晾干架由左右侧板加上带孔的中间连接板组成，一般采用乙醚和无水乙醇清洗，再把清洗后带液体的比色皿开口处朝下放置在中间带孔的连接板上自然晾干，但在实际测量时，有时候测量的是酸或碱性溶液，甚至是有机溶液，这些测量液在清洗时需要用反向溶液进行，如测量酸需要用弱碱性溶液进行清洗中和，测量碱需要用弱酸性溶液进行清洗中和，清洗后溶液多多少少会残留在底部板面上，如没有及时的进行清理收集，会直接影响后续的测试，造成数据不准确。

技术实现要素：

本实用新型要解决的技术问题是提供一种结构简单、晾干效果好，清洗后残留液体便于收集的比色皿晾干架。

为解决上述问题，本实用新型采用如下技术方案：

一种比色皿晾干架，包括两侧竖立放置的侧板以及上支撑板和下支撑板，所述上支撑板和下支撑板横向分别固定在两侧侧板的上下位置上，所述上支撑板上均匀分布有供比色皿放置的放置孔，所述下支撑板均匀分布有导流孔，所述导流孔为圆形或矩形，且导流孔最大孔径为5-8mm。

进一步的技术方案为，所述下支撑板下方、且位于两侧侧板之间还固定有斜板，所述斜板呈倾斜固定在两侧侧板上，主要是为了导流孔导流下来的溶液可滴落在斜板上并随着斜板可从高往低处导流收集。

进一步的技术方案为，所述斜板靠近下支撑板端的宽度大于远离下支撑板端宽度，节约材料，导流更加顺畅。

进一步的技术方案为，所述侧板相对于另一侧侧板端面底端侧还设有滑槽，所述斜板下方，且位于两侧侧板之间还放置有储液板，所述储液板左右两端分别卡入到滑槽内与滑槽前后滑动连接，液体经过斜板后从底端处滴落到储液板上存储，当储液板存储满时可从滑槽处抽离出收集，滑槽的设计主要是使储液板不与侧板底端贴合，防止溶液从斜板滴落时溅出并残留在储液板和侧板间隙中，滑槽涉及可防止此类问题发生。

进一步的技术方案为，所述储液板内设有储液槽，用于存放清洗后的液体。

本实用新型的有益效果是：

本实用新型一种比色皿晾干架，该比色皿晾干架通过在下支撑板上分布有多个导流孔，在比色皿倒放在晾干架上时，通过导流孔可以使比色皿内残留的溶液从导流孔处滴落，使空气可以穿过下支撑板进入到比色皿内部增加其晾干的速度。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型一种比色皿晾干架的主视图；

图2为本实用新型图1中a-a方向的剖视图；

图3为本实用新型一种比色皿晾干架中下支撑板的示意图；

图4为本实用新型一种比色皿晾干架中储液板的示意图。

图1-4中：1－侧板、2－上支撑板、3－下支撑板、4－斜板、5－滑槽、6－储液板、7－放置孔、8－导流孔、9－储液槽。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的优选实施例进行详细阐述，以使本实用新型的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本实用新型的保护范围做出更为清楚明确的界定。

参阅图1至图4示，一种比色皿晾干架，包括两侧竖立放置的侧板1以及上支撑板2和下支撑板3，上支撑板2和下支撑板3横向分别固定在两侧侧板1的上下位置上，上支撑板2上均匀分布有供比色皿放置的放置孔7，下支撑板3均匀分布有导流孔8，导流孔8为圆形或矩形，且导流孔8最大孔径为5-8mm。

下支撑板3下方、且位于两侧侧板1之间还固定有斜板4，斜板4呈倾斜固定在两侧侧板1上，主要是为了导流孔8导流下来的溶液可滴落在斜板4上并随着斜板可从高往低处导流收集。斜板4靠近下支撑板3端的宽度大于远离下支撑板3端宽度，节约材料，导流更加顺畅。侧板1相对于另一侧侧板1端面底端侧还设有滑槽5，斜板4下方，且位于两侧侧板1之间还放置有储液板6，储液板6左右两端分别卡入到滑槽5内与滑槽5前后滑动连接，液体经过斜板4后从底端处滴落到储液板6上存储，当储液板6存储满时可从滑槽5处抽离出收集，滑槽5的设计主要是使储液板6不与侧板1底端贴合，防止溶液从斜板4滴落时溅出并残留在储液板6和侧板1间隙中，滑槽5涉及可防止此类问题发生。储液板6内设有储液槽9，用于存放清洗后的液体。

在本实施例中，把清洗后的比色皿开口朝下倒放入放置孔7内，其开口处抵触在下支撑板3上端面上，然后剩余残留清洗溶液从下支撑板3处的导流孔8内导流并从下支撑板3下端面滴落，滴落后从斜板4由高往低导流并最终从低处滴落在储液板6内储液槽9处收集。

其中，大多数比色皿架材质和比色皿一致，为石英粉烧制，也可以是塑料或者金属材质，斜板4设计也是为了防止溶液飞溅到外面，虽然是弱酸弱碱性溶液但也会影响周围环境。

以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何不经过创造性劳动想到的变化或替换，都应涵盖在本实用新型保护范围为准。

技术特征：

1.一种比色皿晾干架，包括两侧竖立放置的侧板以及上支撑板和下支撑板，所述上支撑板和下支撑板横向分别固定在两侧侧板的上下位置上，所述上支撑板上均匀分布有供比色皿放置的放置孔，其特征在于：所述下支撑板均匀分布有导流孔，所述导流孔为圆形或矩形，且导流孔最大孔径为5-8mm。

2.根据权利要求1所述的一种比色皿晾干架，其特征在于：所述下支撑板下方、且位于两侧侧板之间还固定有斜板，所述斜板呈倾斜固定在两侧侧板上。

3.根据权利要求2所述的一种比色皿晾干架，其特征在于：所述斜板靠近下支撑板端的宽度大于远离下支撑板端宽度。

4.根据权利要求3所述的一种比色皿晾干架，其特征在于：所述侧板相对于另一侧侧板端面底端侧还设有滑槽，所述斜板下方，且位于两侧侧板之间还放置有储液板，所述储液板左右两端分别卡入到滑槽内与滑槽前后滑动连接。

5.根据权利要求4所述的一种比色皿晾干架，其特征在于：所述储液板内设有储液槽。

技术总结
本实用新型公开了一种结构简单、晾干效果好，清洗后残留液体便于收集的比色皿晾干架，其包括两侧竖立放置的侧板以及上支撑板和下支撑板，所述上支撑板和下支撑板横向分别固定在两侧侧板的上下位置上，所述上支撑板上均匀分布有供比色皿放置的放置孔，所述下支撑板均匀分布有导流孔，所述导流孔为圆形或矩形，且导流孔最大孔径为5‑8mm。

技术研发人员：徐峥
受保护的技术使用者：杭州医学院
技术研发日：2020.01.15
技术公布日：2020.10.13