一种单晶硅片烘烤用烤箱的制作方法

1.本实用新型涉及单晶硅生产技术领域，具体为一种单晶硅片烘烤用烤箱。


背景技术：

2.单晶硅片在不同的方向具有不同的性质应用，是一种良好的半导材料。硅片在清洗完后需要对其表面进行烘干作业，由于硅片厚度较薄，现有技术的烤箱进行烘干时，由于热气体分散不均匀，导致单晶硅片因受热不均而造成裂片，提高了废品率，进而提高了生产成本，同时在烘烤过程中也会出现各种脏污，随着时间的积累烤箱变得越来越脏，烘烤后的硅片表面也不干净。


技术实现要素：

3.本实用新型的目的在于提供一种单晶硅片烘烤用烤箱，以解决上述背景技术中提出的问题。
4.为了解决上述技术问题，本实用新型提供如下技术方案：一种单晶硅片烘烤用烤箱，包括箱体，所述箱体顶部设置有加热箱，所述加热箱内设有蛇型气管，所述蛇型气管上安装有加热套，且一端穿过所述加热箱，另一端与所述箱体一侧的进气通道相连通，所述箱体中进气通道的一侧为硅片放置腔，所述硅片放置腔的一侧为设有排气管的排气通道，所述硅片放置腔由上至下分隔成若干隔层腔，所述隔层腔的下部设有硅片放置柜，且上部与所述箱体中的进气通道相连通，所述硅片放置柜的上部间隔开设有若干进气口，且一侧设有与所述排气通道相连通的出气口。
5.所述加热套包括第一加热套、第二加热套和第三加热套，所述蛇型气管的弯曲部分包裹有保温套。
6.所述箱体中进气通道由上至下内径大小交错不同。
7.所述隔层腔上部一侧的隔挡板底端部设有密封垫，且下部沿长度方向在所述箱体两内侧壁上开设有滑槽，且所述硅片放置柜沿长度方向的两侧固定有滑条，所述滑条与滑槽相匹配，且置于所述滑槽内。
8.位于所述排气通道一侧的所述箱体上安装有箱门。
9.与现有技术相比，本实用新型所达到的有益效果是：本实用新型加热的气体由箱体中进气通道进入隔层腔内，再通过硅片放置柜上部的进气口均匀分布的进入硅片放置柜内，进而可对硅片进行烘烤，使得硅片受热均匀，不会产生裂片，同时气体在隔层腔内循环流动可以带走粘附在硅片表面的脏污，保持隔层腔内的清洁。
附图说明
10.附图用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分。在附图中：
11.图1是本实用新型的结构示意图；
12.图2是图1中a
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a处的剖视图；
13.图中：1箱体；2加热箱；3蛇型气管；4加热套；41第一加热套；42第二加热套；43第三加热套；5进气通道；6硅片放置腔；7排气通道；8隔层腔；9硅片放置柜；10保温套；11滑槽；12滑条；13箱门。
具体实施方式
14.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
15.请参阅图1
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2，本实用新型提供技术方案：一种单晶硅片烘烤用烤箱，包括箱体1，箱体1顶部设置有加热箱2，加热箱2内设有蛇型气管3，蛇型气管3上安装有加热套4，且一端穿过加热箱2，另一端与箱体1一侧的进气通道5相连通，箱体1中进气通道5的一侧为硅片放置腔6，硅片放置腔6的一侧为设有排气管的排气通道7，硅片放置腔6由上至下分隔成若干隔层腔8，隔层腔8的下部设有硅片放置柜9，且上部与箱体1中的进气通道5相连通，硅片放置柜9的上部间隔开设有若干进气口，且一侧设有与排气通道7相连通的出气口。
16.加热套4包括第一加热套41、第二加热套42和第三加热套43，第一加热套41、第二加热套42和第三加热套43的加热温度逐渐升高，可逐步对气体进行加热，可使得气体快速的达到所需烘干的温度，同时可节约电能，蛇型气管3的弯曲部分包裹有保温套10，可对已加热的气体进行保温。
17.箱体1中进气通道5由上至下内径大小交错不同，大内径处与隔层腔8的上部相连通，大内径可保证加热的气体流动的稳定性，可使得加热的气体稳定的流入隔层腔8内，进而可保证加热的气体能够完全均匀的分布，而小内径可使得在同等气体流量下，提高气体的流速，使得气体快速的通过，可防止由于气压不足，气体向下流动困难且较慢。
18.隔层腔8上部一侧的隔挡板底端部设有密封垫，保证气体的密封性，且下部沿长度方向在箱体1两内侧壁上开设有滑槽11，且硅片放置柜9沿长度方向的两侧固定有滑条12，滑条12与滑槽11相匹配，且置于滑槽11内，可取出或安装硅片放置柜9，方便将单晶硅片放置在硅片放置柜9内。
19.位于排气通道7一侧的箱体1上安装有箱门13，方便取出或安装硅片放置柜9。
20.具体的，蛇型气管3的顶部可安装气泵，气泵可将气体输送至蛇型气管3内，同时蛇型气管3内设有过滤膜，可去除气体中的杂质，第一加热套41、第二加热套42和第三加热套43加热，气体温度逐渐上升至所需烘干的温度，热气体进入进气通道5，而后逐渐进入隔层腔8内，再通过硅片放置柜9的上部的若干进气口进入硅片放置柜9内，对单晶硅片进行烘干，而后由硅片放置柜9流出至排气通道7内，再由排气通道7上的排气管流出，排气管可与蛇型气管3的顶部安装的气泵连接，进而可使得气体循环使用，节约了能源。
21.需要说明的是，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要
素。
22.最后应说明的是：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。


技术特征：
1.一种单晶硅片烘烤用烤箱，包括箱体(1)，其特征在于：所述箱体(1)顶部设置有加热箱(2)，所述加热箱(2)内设有蛇型气管(3)，所述蛇型气管(3)上安装有加热套(4)，且一端穿过所述加热箱(2)，另一端与所述箱体(1)一侧的进气通道(5)相连通，所述箱体(1)中进气通道(5)的一侧为硅片放置腔(6)，所述硅片放置腔(6)的一侧为设有排气管的排气通道(7)，所述硅片放置腔(6)由上至下分隔成若干隔层腔(8)，所述隔层腔(8)的下部设有硅片放置柜(9)，且上部与所述箱体(1)中的进气通道(5)相连通，所述硅片放置柜(9)的上部间隔开设有若干进气口，且一侧设有与所述排气通道(7)相连通的出气口。2.根据权利要求1所述的一种单晶硅片烘烤用烤箱，其特征在于：所述加热套(4)包括第一加热套(41)、第二加热套(42)和第三加热套(43)，所述蛇型气管(3)的弯曲部分包裹有保温套(10)。3.根据权利要求1所述的一种单晶硅片烘烤用烤箱，其特征在于：所述箱体(1)中进气通道(5)由上至下内径大小交错不同。4.根据权利要求1所述的一种单晶硅片烘烤用烤箱，其特征在于：所述隔层腔(8)上部一侧的隔挡板底端部设有密封垫，且下部沿长度方向在所述箱体(1)两内侧壁上开设有滑槽(11)，且所述硅片放置柜(9)沿长度方向的两侧固定有滑条(12)，所述滑条(12)与滑槽(11)相匹配，且置于所述滑槽(11)内。5.根据权利要求1所述的一种单晶硅片烘烤用烤箱，其特征在于：位于所述排气通道(7)一侧的所述箱体(1)上安装有箱门(13)。

技术总结
本实用新型提一种单晶硅片烘烤用烤箱，包括箱体，箱体顶部设置有加热箱，加热箱内设有蛇型气管，蛇型气管上安装有加热套，且一端穿过加热箱，另一端与箱体一侧的进气通道相连通，箱体中进气通道的一侧为硅片放置腔，硅片放置腔的一侧为设有排气管的排气通道，硅片放置腔由上至下分隔成若干隔层腔，隔层腔的下部设有硅片放置柜，且上部与箱体中的进气通道相连通，硅片放置柜的上部间隔开设有若干进气口，且一侧设有与排气通道相连通的出气口。本实用新型硅片受热均匀，不会产生裂片，同时气体在隔层腔内循环流动可以带走粘附在硅片表面的脏污，保持隔层腔内的清洁。保持隔层腔内的清洁。保持隔层腔内的清洁。


技术研发人员：王初林
受保护的技术使用者：扬州善鸿新能源发展有限公司
技术研发日：2020.12.23
技术公布日：2021/9/24