一种脱硫石膏β粉制备晒干机的制作方法

本发明属于脱硫石膏β粉制备，尤其涉及一种脱硫石膏β粉制备晒干机。

背景技术：

1、晒干机是一种脱硫石膏β粉在制备过程中，将较湿的材料均匀摆放并随之晾晒晒干来去除水分的器械装置，在传统的脱硫石膏β粉制备过程中，均是将湿润的材料铺在晾晒的场地处，来进行晾晒的工作，但这样在收集回收过程中较为麻烦且部分无法回收造成浪费而且在均匀铺设材料过程中使用者需要在场地处循环走动且较为费时费力。

技术实现思路

1、为了解决上述技术问题，本发明提供一种脱硫石膏β粉制备晒干机，实现材料铺设处进行旋转，从而避免使用者循环走动将材料铺均以及对晾晒晒干处进行角度调节从而方便的收集避免部分浪费。

2、其技术方案是这样的：一种脱硫石膏β粉制备晒干机，包括支板座，支板座内部右侧的前后两部均穿插有定位座，且定位座和支板座连接处穿插有定位销轴；支板座下端的前侧螺栓安装有plc；支板座下端左侧的前后两部均焊接有吊座；吊座内侧轴接有活动座；支板座上侧的左方设置有晒干盘；支板座下端安装有旋转带动座结构，且旋转带动座结构对晒干盘支撑；晒干盘内侧支撑有清理拖座结构；支板座内部的右侧支撑有支撑倾斜调控座结构，其特征在于，所述的支撑倾斜调控座结构包括倾斜座，倾斜座内部螺纹连接有升降螺杆；升降螺杆下端活动镶嵌有防滑板；升降螺杆上端焊接有调节头。

3、优选的，所述的倾斜座轴接在支板座内部的右侧，所述的支板座内部右侧的前后两部和中间部位均开设有凹槽。

4、优选的，所述的晒干盘内部的右侧穿插有挡板，且挡板设置为t型。

5、优选的，所述的升降螺杆配合防滑板对倾斜座以及支板座进行支撑。

6、与现有技术相比，本发明的有益效果为：

7、本发明中，所述的倾斜座和支板座的设置，配合升降螺杆带动支板座右侧的倾斜。

8、本发明中，所述的升降螺杆和调节头的设置，方便的操作，从而在支板座倾斜后方便的收集晾晒的材料，避免材料残留杂物以及部分浪费。

9、本发明中，所述的防滑板的设置，配合升降螺杆对支板座进行支撑使用。

技术特征：

1.一种脱硫石膏β粉制备晒干机，该脱硫石膏β粉制备晒干机，包括支板座(1)，支板座(1)内部右侧的前后两部均穿插有定位座(2)，且定位座(2)和支板座(1)连接处穿插有定位销轴(8)；支板座(1)下端的前侧螺栓安装有plc(3)；支板座(1)下端左侧的前后两部均焊接有吊座(4)；吊座(4)内侧轴接有活动座(5)；支板座(1)上侧的左方设置有晒干盘(6)；支板座(1)下端安装有旋转带动座结构(7)，且旋转带动座结构(7)对晒干盘(6)支撑；晒干盘(6)内侧支撑有清理拖座结构(9)；支板座(1)内部的右侧支撑有支撑倾斜调控座结构(10)，其特征在于，所述的支撑倾斜调控座结构(10)包括倾斜座(101)，倾斜座(101)内部螺纹连接有升降螺杆(102)；升降螺杆(102)下端活动镶嵌有防滑板(103)；升降螺杆(102)上端焊接有调节头(104)。

2.如权利要求1所述的脱硫石膏β粉制备晒干机，其特征在于，所述的清理拖座结构(9)包括活动板(91)，活动板(91)上端焊接有操作端头(92)；活动板(91)前后两端均焊接有侧滑板(93)；活动板(91)下端螺栓安装有清理条(94)。

3.如权利要求1所述的脱硫石膏β粉制备晒干机，其特征在于，所述的旋转带动座结构(7)包括减速器(71)，减速器(71)上端的前部镶嵌有旋转轴头(72)；减速器(71)下端的后侧螺栓安装有步进电机(73)。

4.如权利要求1所述的脱硫石膏β粉制备晒干机，其特征在于，所述的倾斜座(101)轴接在支板座(1)内部的右侧，所述的支板座(1)内部右侧的前后两部和中间部位均开设有凹槽，所述的晒干盘(6)内部的右侧穿插有挡板，且挡板设置为t型。

5.如权利要求1所述的脱硫石膏β粉制备晒干机，其特征在于，所述的升降螺杆(102)配合防滑板(103)对倾斜座(101)以及支板座(1)进行支撑。

6.如权利要求2所述的脱硫石膏β粉制备晒干机，其特征在于，所述的活动板(91)和侧滑板(93)穿插在晒干盘(6)内部的左侧。

7.如权利要求3所述的脱硫石膏β粉制备晒干机，其特征在于，所述的减速器(71)螺栓安装在支板座(1)的下端，且上端的旋转轴头(72)与晒干盘(6)螺栓连接。

技术总结
本发明提供一种脱硫石膏β粉制备晒干机，包括支板座，支板座内部右侧的前后两部均穿插有定位座，且定位座和支板座连接处穿插有定位销轴；支板座下端的前侧螺栓安装有PLC；支板座下端左侧的前后两部均焊接有吊座；吊座内侧轴接有活动座；支板座上侧的左方设置有晒干盘；支板座下端安装有旋转带动座结构，且旋转带动座结构对晒干盘支撑；晒干盘内侧支撑有清理拖座结构；支板座内部的右侧支撑有支撑倾斜调控座结构。本发明通过支撑倾斜调控座结构的设置，方便的操作，从而在支板座倾斜后方便的收集晾晒的材料，避免材料残留杂物以及部分浪费。

技术研发人员：姜学辉,李硕,王庆明
受保护的技术使用者：滨州达通环保科技有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/16