一种九蒸九制熟地黄炮制用干燥设备的制作方法

文档序号:34514060发布日期:2023-06-21 11:27阅读:19来源:国知局
一种九蒸九制熟地黄炮制用干燥设备的制作方法

本技术是一种九蒸九制熟地黄炮制用干燥设备,属于干燥设备。


背景技术:

1、地黄作为一种药材原料被普遍使用在各种药物的制造中,为了增强地黄的药效需要对地黄进行九蒸九制的流程,而且间隔的过程中还要对地黄进行干燥处理,现有技术采用干燥设备对地黄快速的进行干燥作业。

2、但设备在使用时,由于地黄在干燥过程中,会随热气与气流散出一定的粉末,在干燥完毕后还需林外对粉末进行清理,容易降低设备作业效率与仓内清洁性。


技术实现思路

1、针对现有技术存在的不足,本实用新型目的是提供一种九蒸九制熟地黄炮制用干燥设备,以解决设备在使用时,由于地黄在干燥过程中,会随热气与气流散出一定的粉末,在干燥完毕后还需林外对粉末进行清理,容易降低设备作业效率与仓内清洁性的问题。

2、为了实现上述目的,本实用新型是通过如下的技术方案来实现:一种九蒸九制熟地黄炮制用干燥设备,其结构包括控制台、观察口、余料收集器、移料台、机架、封闭门、干燥仓、设备主体、操作板,所述设备主体上安装有水平结构的移料台,所述封闭门铰设在设备主体表面凹槽位置上,所述控制台上嵌设有导线相连的操作板,所述干燥仓由设备主体上部腔室一体构成,所述设备主体与机架焊接相连固定,所述设备主体上设有观察口,所述设备主体内凹槽位置设有余料收集器。

3、进一步地,所述余料收集器包括安装件、平衡架、储料槽、防漏框、加固件、防溢腔、进料口、分流层,所述安装件对称配设在平衡架两边孔位上,所述平衡架安装在防漏框表面凹槽上,所述防漏框外表面带有多个间隔排列的加固件,所述防溢腔与储料槽由防漏框内凹槽一体构成,表面形成进料口,所述分流层配设在进料口隔圈位置处,所述平衡架两端箍设在设备主体内凹槽位置上。

4、进一步地,所述干燥仓空间可由封闭门启闭。

5、进一步地,所述移料台内一端对应连通封闭门。

6、进一步地,所述操作板内一端接线相连干燥仓。

7、进一步地,所述设备主体上配设有一体安装的使用的控制台。

8、进一步地,所述进料口顶层对应干燥仓内凹槽板位置。

9、进一步地,所述分流层内通防溢腔。

10、有益效果

11、本实用新型一种九蒸九制熟地黄炮制用干燥设备,设备主体内凹槽位置设有余料收集器,干燥仓作业时,由安装件稳定其结构的平衡架固定于凹槽壁之中,防漏框顶部进料口正对内凹槽中点位置,防漏框设计成一种上窄下宽的结构,顶部开口形成进料口,特殊的导流结构使得分流层内通储料槽,可直接对干燥散出的余料进行收集,存入防漏框内的防溢腔之中,能够有效提高存料使用效率与仓内清洁性。



技术特征:

1.一种九蒸九制熟地黄炮制用干燥设备,其结构包括控制台(1)、观察口(2)、余料收集器(3)、移料台(4)、机架(5)、封闭门(6)、干燥仓(7)、设备主体(8)、操作板(9),其特征在于:

2.根据权利要求1所述的一种九蒸九制熟地黄炮制用干燥设备,其特征在于:所述余料收集器(3)包括安装件(820)、平衡架(821)、储料槽(822)、防漏框(823)、加固件(824)、防溢腔(825)、进料口(826)、分流层(827),所述安装件(820)对称配设在平衡架(821)两边孔位上,所述平衡架(821)安装在防漏框(823)表面凹槽上,所述防漏框(823)外表面带有多个间隔排列的加固件(824),所述防溢腔(825)与储料槽(822)由防漏框(823)内凹槽一体构成,表面形成进料口(826),所述分流层(827)配设在进料口(826)隔圈位置处,所述平衡架(821)两端箍设在设备主体(8)内凹槽位置上。

3.根据权利要求1所述的一种九蒸九制熟地黄炮制用干燥设备,其特征在于:所述干燥仓(7)空间可由封闭门(6)启闭。

4.根据权利要求1所述的一种九蒸九制熟地黄炮制用干燥设备,其特征在于:所述移料台(4)内一端对应连通封闭门(6)。

5.根据权利要求1所述的一种九蒸九制熟地黄炮制用干燥设备,其特征在于:所述操作板(9)内一端接线相连干燥仓(7)。

6.根据权利要求1所述的一种九蒸九制熟地黄炮制用干燥设备,其特征在于:所述设备主体(8)上配设有一体安装的使用的控制台(1)。


技术总结
本技术公开了一种九蒸九制熟地黄炮制用干燥设备,其结构包括控制台、观察口、余料收集器、移料台、机架、封闭门、干燥仓、设备主体、操作板,本技术的设备主体内凹槽位置设有余料收集器,干燥仓作业时,由安装件稳定其结构的平衡架固定于凹槽壁之中,防漏框顶部进料口正对内凹槽中点位置,防漏框设计成一种上窄下宽的结构,顶部开口形成进料口,特殊的导流结构使得分流层内通储料槽,可直接对干燥散出的余料进行收集,存入防漏框内的防溢腔之中,能够有效提高存料使用效率与仓内清洁性。

技术研发人员:郭金树,周金铁,郭远望,李景瑶,陈佳妍
受保护的技术使用者:郭金树
技术研发日:20230408
技术公布日:2024/1/12
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