本技术涉及靶材熔炼,具体为一种靶材熔炼炉。
背景技术:
1、靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源,通过薄膜沉积设备使用高能的粒子轰击靶材然后在硅片上形成特定功能的金属层,例如导电层,阻挡层等。靶材在制造过程中需要进行熔炼锻造,现有技术在熔炼过程中难以控制燃烧速度以及燃烧效率。
技术实现思路
1、本实用新型的目的在于提供一种靶材熔炼炉,以解决上述背景技术中提出的问题。为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种靶材熔炼炉,包括炉体,所述炉体内设有燃烧机构,所述燃烧机构包括熔炼腔,所述熔炼腔下端设有加热腔,所述加热腔上端设有燃烧芯块,所述加热腔的底部设有控制棒束,所述控制棒束由多个控制棒组成,所述控制棒束的端部设有驱动机构。
2、优选的,所述驱动机构包括连杆,所述连杆的两端各设有一个升降杆,两个所述升降杆之间连接有同步器。
3、优选的,所述控制棒为上细下粗状。
4、优选的,所述炉体上设有炉盖,所述炉体的一侧设有氧气进口,另一侧设有出料口,所述出料口上连接有出料管道,所述出料管道连接至熔炼腔。
5、优选的,所述炉盖上设有抽气泵。
6、与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:本实用新型设计新颖,利用合理的机械结构,巧妙发挥各要素内在潜力,通过驱动结构带动控制棒束在燃烧腔内上下移动,上细下粗的控制棒可控制燃烧腔内的氧气进量,从而控制燃烧的速率。
1.一种靶材熔炼炉,包括炉体(1),其特征在于:所述炉体(1)内设有燃烧机构,所述燃烧机构包括熔炼腔(21),所述熔炼腔(21)下端设有加热腔(22),所述加热腔(22)上端设有燃烧芯块(23),所述加热腔(22)的底部设有控制棒束(24),所述控制棒束(24)由多个控制棒(25)组成,所述控制棒束(24)的端部设有驱动机构(3)。
2.根据权利要求1所述的一种靶材熔炼炉,其特征在于:所述驱动机构(3)包括连杆(31),所述连杆(31)的两端各设有一个升降杆(32),两个所述升降杆(32)之间连接有同步器。
3.根据权利要求1所述的一种靶材熔炼炉,其特征在于:所述控制棒(25)为上细下粗状。
4.根据权利要求1所述的一种靶材熔炼炉,其特征在于:所述炉体(1)上设有炉盖(4),所述炉体(1)的一侧设有氧气进口(11),另一侧设有出料口(12),所述出料口(12)上连接有出料管道(13),所述出料管道(13)连接至熔炼腔(21)。
5.根据权利要求4所述的一种靶材熔炼炉,其特征在于:所述炉盖(4)上设有抽气泵(41)。