一种CVD用陶瓷喷嘴烧结成型装置的制作方法

本技术涉及陶瓷喷嘴烧结成型，具体为一种cvd用陶瓷喷嘴烧结成型装置。

背景技术：

1、氮化硅陶瓷喷嘴，是一种烧结时不收缩的无机材料陶瓷喷嘴，一般是采用cvd烧结成型装置制成。

2、cvd烧结成型装置是将打磨好的硅粉与氮气通入到烧结箱中的烧结腔中，然后进行固相反应法高温加热烧结制成氮化硅陶瓷喷嘴。

3、目前，现有的氮化硅陶瓷喷嘴用cvd烧结成型装置，其硅粉颗粒体积大小需要保证，如果颗粒体积较大的硅粉直接进入到烧结腔中进行加热烧结，会造成烧结成型的氮化硅陶瓷喷嘴表面具有气孔，造成表面粗大，进而降低了氮化硅陶瓷喷嘴用cvd烧结成型装置的成型质量，另外，现有的氮化硅陶瓷喷嘴用cvd烧结成型装置，在烧结完成后还需要一个一个从烧结腔中取出，降低了烧结完成的氮化硅陶瓷喷嘴的导向出料效率。

4、上述问题是普遍存在的，急需改进。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种cvd用陶瓷喷嘴烧结成型装置，以解决现有技术中颗粒体积较大的硅粉直接进入到烧结腔中进行加热烧结造成烧结成型的氮化硅陶瓷喷嘴表面具有气孔而降低氮化硅陶瓷喷嘴用cvd烧结成型装置的成型质量、烧结完成的氮化硅陶瓷喷嘴的导向出料效率较低的问题。

2、为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种cvd用陶瓷喷嘴烧结成型装置，包括烧结箱，所述烧结箱的外端设有主支架，所述烧结箱上设有螺槽和烧结腔，所述烧结箱上连接有气管，所述主支架上设有侧板，所述烧结箱的上方设有震料滤箱，所述主支架上设有气缸和导向板。

3、优选的，所述侧板上设有固定块，所述震料滤箱的下端设有滑杆和震动电机，所述震料滤箱的下端与固定块之间设有缓冲弹簧，所述缓冲弹簧套设于滑杆上，所述滑杆滑动套接于固定块上。

4、优选的，所述震料滤箱的顶端设有主输料管，所述主输料管内设有过滤筒，所述主输料管上连接有伸缩料管。

5、优选的，所述侧板、滑杆、缓冲弹簧、固定块为一组，一共为左右对称的两组。

6、优选的，所述烧结箱上内嵌设置有密封套，所述气缸的伸缩杆上设有横滑板，所述导向板与横滑板滑接，所述横滑板上设有顶料杆。

7、优选的，所述顶料杆与密封套滑动套设，所述顶料杆的顶端设有密封板。

8、优选的，所述导向板为前后对称的两个，一共为左右对称的两组。

9、与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

10、1.本实用新型通过在烧结箱的上方设置震动式震荡过滤结构，实现对输入烧结腔中的硅粉进行有效震荡过滤，实现将符合过滤筒的滤孔体积大小的硅粉输入到相应的烧结腔中，避免了颗粒体积较大的硅粉直接进入到烧结腔中进行加热烧结造成烧结成型的氮化硅陶瓷喷嘴表面具有气孔，进而提高了氮化硅陶瓷喷嘴用cvd烧结成型装置的成型质量。

11、2.本实用新型通过在烧结箱底部设置导向出料结构，实现将烧结完成的氮化硅陶瓷喷嘴进行整体同时导向出料，提高了烧结完成的氮化硅陶瓷喷嘴的导向出料效率。

技术特征：

1.一种cvd用陶瓷喷嘴烧结成型装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的一种cvd用陶瓷喷嘴烧结成型装置，其特征在于：所述侧板(4)上设有固定块(41)，所述震料滤箱(6)的下端设有滑杆(5)和震动电机(62)，所述震料滤箱(6)的下端与固定块(41)之间设有缓冲弹簧(51)，所述缓冲弹簧(51)套设于滑杆(5)上，所述滑杆(5)滑动套接于固定块(41)上。

3.根据权利要求2所述的一种cvd用陶瓷喷嘴烧结成型装置，其特征在于：所述震料滤箱(6)的顶端设有主输料管(61)，所述主输料管(61)内设有过滤筒(611)，所述主输料管(61)上连接有伸缩料管(7)。

4.根据权利要求2所述的一种cvd用陶瓷喷嘴烧结成型装置，其特征在于：所述侧板(4)、滑杆(5)、缓冲弹簧(51)、固定块(41)为一组，一共为左右对称的两组。

5.根据权利要求1所述的一种cvd用陶瓷喷嘴烧结成型装置，其特征在于：所述烧结箱(1)上内嵌设置有密封套(10)，所述气缸(21)的伸缩杆上设有横滑板(3)，所述导向板(22)与横滑板(3)滑接，所述横滑板(3)上设有顶料杆(31)。

6.根据权利要求5所述的一种cvd用陶瓷喷嘴烧结成型装置，其特征在于：所述顶料杆(31)与密封套(10)滑动套设，所述顶料杆(31)的顶端设有密封板(32)。

7.根据权利要求5所述的一种cvd用陶瓷喷嘴烧结成型装置，其特征在于：所述导向板(22)为前后对称的两个，一共为左右对称的两组。

技术总结
本技术涉及陶瓷喷嘴烧结成型技术领域，具体为一种CVD用陶瓷喷嘴烧结成型装置，包括烧结箱，烧结箱的外端设有主支架，烧结箱上设有螺槽和烧结腔，主支架上设有侧板，烧结箱的上方设有震料滤箱，主支架上设有气缸和导向板。实现对输入烧结腔中的硅粉进行有效震荡过滤，实现将符合过滤筒的滤孔体积大小的硅粉输入到相应的烧结腔中，避免了颗粒体积较大的硅粉直接进入到烧结腔中进行加热烧结造成烧结成型的氮化硅陶瓷喷嘴表面具有气孔，提高了氮化硅陶瓷喷嘴用CVD烧结成型装置的成型质量，实现将烧结完成的氮化硅陶瓷喷嘴进行整体同时导向出料，提高了烧结完成的氮化硅陶瓷喷嘴的导向出料效率。

技术研发人员：贺婷婷,陶近翁,陶岳雨,邱立功,王凡
受保护的技术使用者：卡贝尼新材料科技（上海）有限公司
技术研发日：20230918
技术公布日：2024/5/10