门体组件及制冷设备的制作方法

文档序号:36084647发布日期:2023-11-18 02:34阅读:41来源:国知局
门体组件及制冷设备的制作方法

本申请属于制冷装置,具体涉及门体组件及制冷设备。


背景技术:

1、现有取冰技术通常通过手动取冰或者利用重力实现在储冰盒下方位置自动取冰。为了提升便利性,一部分冰箱等制冷设备设计在冷冻室制冰,通过移冰通道将冰块从冷冻室运输至冷藏室,在冰箱上部的冷藏门体取冰,实现在合适的高度取冰。为了进一步减少使用空间的占用,本申请发明人考虑将冰块通过冷藏门体和冷冻门体运输,然而运冰通道置于发泡层里面,当取完后冰,运冰通道壁潮湿容易受到污染,清理不方便。


技术实现思路

1、本申请提供门体组件及制冷设备,以解决运冰通道清理不便的技术问题。

2、为解决上述技术问题,本申请采用的一个技术方案是:一种门体组件,所述门体组件包括:门体,所述门体的一端端部具有运冰口,所述门体内设置有安装腔;通道组件,可拆卸设置于所述安装腔,所述通道组件与所述运冰口连通。

3、根据本申请一实施方式,所述通道组件包括:运冰通道,与所述运冰口连通;保温层,包裹于所述运冰通道外侧。

4、根据本申请一实施方式,所述安装腔的一侧敞口形成安装口,所述通道组件通过所述安装口拆装于所述安装腔,在所述通道组件安装于所述安装腔内时,所述通道组件在所述安装口所在平面上的正投影位于所述安装口内。

5、根据本申请一实施方式,所述安装腔具有与所述安装口相对设置的内腔面,在所述内腔面至所述安装口的方向上,所述安装腔平行于所述安装口所在平面的截面的面积逐渐增大。

6、根据本申请一实施方式,所述安装口形成于所述门体内壁。

7、根据本申请一实施方式,所述安装腔的内顶面和内底面倾斜设置,且所述内顶面和所述内底面之间的距离由所述内腔面内至所述安装口的方向上逐渐增大。

8、根据本申请一实施方式,所述保温层朝向所述内腔面一侧设置有第一卡接部,所述内腔面设置有第二卡接部,所述第一卡接部和所述第二卡接部卡接。

9、根据本申请一实施方式,所述安装口形成于所述运冰口。

10、根据本申请一实施方式,所述门体组件包括管道安装盒,设置于所述门体内,所述管道安装盒内形成所述安装腔,所述管道安装盒一侧敞口形成所述安装口。

11、为解决上述技术问题,本申请采用的又一个技术方案是:一种制冷设备,包括上述任一所述的门体组件。

12、本申请的有益效果是:由于通道组件可拆卸设置于安装腔,通道组件可拆卸后单独清理,通过将通道组件设计为可拆卸结构,可方便通道组件内部的清理。待清理完成后再次安装于安装腔,不影响冰块的运输。由于通道组件与门体拆装便利,可定期将通道组件取下进行清洁,避免长期使用后通道组件内运输冰块的管道内壁产生污染。



技术特征:

1.一种门体组件,其特征在于,所述门体组件包括:

2.根据权利要求1所述的门体组件,其特征在于,所述通道组件包括:

3.根据权利要求2所述的门体组件,其特征在于,所述安装腔的一侧敞口形成安装口,所述通道组件通过所述安装口拆装于所述安装腔,在所述通道组件安装于所述安装腔内时,所述通道组件在所述安装口所在平面上的正投影位于所述安装口内。

4.根据权利要求3所述的门体组件,其特征在于,所述安装腔具有与所述安装口相对设置的内腔面,在所述内腔面至所述安装口的方向上,所述安装腔平行于所述安装口所在平面的截面的面积逐渐增大。

5.根据权利要求4所述的门体组件,其特征在于,所述安装口形成于所述门体内壁。

6.根据权利要求5所述的门体组件,其特征在于,所述安装腔的内顶面和内底面倾斜设置,且所述内顶面和所述内底面之间的距离由所述内腔面内至所述安装口的方向上逐渐增大。

7.根据权利要求6所述的门体组件,其特征在于,所述保温层朝向所述内腔面一侧设置有第一卡接部,所述内腔面设置有第二卡接部,所述第一卡接部和所述第二卡接部卡接。

8.根据权利要求3所述的门体组件,其特征在于,所述安装口形成于所述运冰口。

9.根据权利要求3所述的门体组件,其特征在于,所述门体组件包括管道安装盒,设置于所述门体内,所述管道安装盒内形成所述安装腔,所述管道安装盒一侧敞口形成所述安装口。

10.一种制冷设备,其特征在于,包括如权利要求1-9中任一项所述的门体组件。


技术总结
本申请公开门体组件及制冷设备,门体组件包括:门体,门体的一端端部具有运冰口,门体内设置有安装腔;取冰组件,设置于门体;通道组件,可拆卸设置于安装腔,通道组件一端与运冰口连通,另一端与取冰组件连通。由于通道组件可拆卸设置于安装腔,通道组件可拆卸后单独清理,通过将通道组件设计为可拆卸结构,可方便通道组件内部的清理。待清理完成后再次安装于安装腔,不影响冰块的运输。由于通道组件与门体拆装便利,可定期将通道组件取下进行清洁,避免长期使用后通道组件内运输冰块的管道内壁产生污染。

技术研发人员:全鑫,任志洁,林兆伟,朱志超
受保护的技术使用者:合肥华凌股份有限公司
技术研发日:20230428
技术公布日:2024/1/15
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1