酸性水处理的渗水过滤系统的制作方法

文档序号:11094350阅读:455来源:国知局
酸性水处理的渗水过滤系统的制造方法与工艺

本发明涉及一种过滤系统,尤其涉及一种酸性水处理的渗水过滤系统。



背景技术:

现有的酸性水处理的渗水过滤系统只要一滤水区,当水流量过大时,虽然可以通过漫水口流出储水区,但是滤水区的渗水能力有限,水流量过大会导致水流溢出;并且随着滤水区的使用,其中的处理层会逐渐老化,处理水的能力逐渐下降,但是储水区中的水会源源不断的进入滤水区,更换维修滤水区中的处理层难度较大。



技术实现要素:

有鉴于此,本发明的目的是提供酸性水处理的渗水过滤系统,从而解决了现有渗水过滤系统面对水流量大时渗水能力有限,并且水处理层更换维修不便的问题。

本发明通过以下技术手段解决上述技术问题:

酸性水处理的渗水过滤系统,包括与进水沟连通的储水区,还包括有底部与透水管连通的滤水区,所述储水区经出水管与滤水区顶面连通;所述滤水区设有四层滤水结构,由下至上依次为支撑与排水层、酸性水处理层、氧化性水处理层和过水层,还包括第二滤水区,所述第二滤水区与滤水区的结构相同,所述滤水区与第二滤水区之间通过隔板分为两个独立的滤水部分;所述隔板顶部设有过水槽;所述透水管连通滤水区和第二滤水区;所述出水管的出水口高于隔板的顶面;所述出水管的出水口处还铰接有二级出水管,所述二级出水管在与出水管扣合后可将水流引导至第二滤水区。

这样,当水流量过大超过滤水区的滤水能力时,滤水区端面上水位会逐渐上升,当水位超过隔板上的过水槽底部时,水流即越过过水槽流入第二滤水区,进而增加滤水面积,提高滤水能力;而当需要更换和维修滤水区时,将二级出水管扣合在出水管的出水口处,此时水流只流入第二滤水区,方便更换;当需要更换维修第二滤水区时,可拆下第二出水管即可。

进一步的,所述支撑与排水层为中砾和碎石层,所述酸性水处理层为熟石灰和石灰粉层,氧化性水处理层为有机质层,所述过水层为小卵石层。

进一步的,所述储水区设有死水线,所述死水线以上设为活动库容,死水线以下设为死库容,所述出水管的进水口位于死水线处。

进一步的,所述滤水区与储水区经漫水挡墙相隔,所述漫水挡墙上端设有垂直高度不高于进水沟的漫水口。

进一步的,所述储水区底部设有与所述出水管连接的抽水泵。

进一步的,所述死水线处还设有水位计,所述水位计的输出端经控制器与抽水泵连接。

本发明的有益效果:结构简单,使用方便,水流量大时可以适应对滤水能力的要求,并且易于对滤水区及第二滤水区中的处理层进行维护更换,易于推广。

附图说明

图1是本发明的结构示意图。

具体实施方式

以下将结合附图对本发明进行详细说明:

如图所示:

酸性水处理的渗水过滤系统,包括与进水沟1连通的储水区2,还包括有底部与透水管3连通的滤水区4,所述储水区2经出水管5与滤水区4顶面连通;所述滤水区4设有四层滤水结构,由下至上依次为支撑与排水层6、酸性水处理层7、氧化性水处理层8和过水层9,还包括第二滤水区10,所述第二滤水区10与滤水区4的结构相同,所述滤水区4与第二滤水区10之间通过隔板11分为两个独立的滤水部分;所述隔板11顶部设有过水槽12;所述透水管3连通滤水区4和第二滤水区10;所述出水管5的出水口高于隔板11的顶面;所述出水管5的出水口处还铰接有二级出水管13,所述二级出水管13在与出水管5扣合后可将水流引导至第二滤水区10。

这样,当水流量过大超过滤水区4的滤水能力时,滤水区4端面上水位会逐渐上升,当水位超过隔板11上的过水槽12底部时,水流即越过过水槽12流入第二滤水区10,进而增加滤水面积,提高滤水能力;而当需要更换和维修滤水区4时,将二级出水管13扣合在出水管5的出水口处,此时水流只流入第二滤水区10,方便更换;当需要更换维修第二滤水区10时,可拆下第二出水管13即可。

所述支撑与排水层6为中砾和碎石层,所述酸性水处理层7为熟石灰和石灰粉层,氧化性水处理层8为有机质层,所述过水层9为小卵石层。

所述储水区2设有死水线,所述死水线以上设为活动库容14,死水线以下设为死库容15,所述出水管5的进水口位于死水线处。

所述滤水区4与储水区2经漫水挡墙16相隔,所述漫水挡墙16上端设有垂直高度不高于进水沟1的漫水口17。

所述储水区2底部设有与所述出水管5连接的抽水泵18。

所述死水线处还设有水位计19,所述水位计19的输出端经控制器20与抽水泵18连接。

本发明的有益效果:结构简单,使用方便,水流量大时可以适应对滤水能力的要求,并且易于对滤水区及第二滤水区中的处理层进行维护更换,易于推广。

以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非限制,尽管参照较佳实施例对本发明进行了详细说明,本领域的普通技术人员应当理解,可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换,而不脱离本发明技术方案的宗旨和范围,其均应涵盖在本发明的权利要求范围当中。

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