本实用新型涉及有机清洗设备技术领域,尤其是涉及一种nmp洗液循环系统。
背景技术:
采用蒸镀方式制作oled(有机发光二极管)面板时,为了防止有机物沉积在蒸镀机的内腔,需要使用防着板对蒸镀机的内腔进行保护,防着板无法避免的也被溅射有机膜层,被溅射有机膜层的防着板需要被清洗干净,否则无法重复使用。
nmp(n-甲基吡咯烷酮溶液)作为一种优秀的有机清洗液,常用于清洗防着板上的有机膜层,为了达到较好的清洗效果,nmp清洗系统通常至少设置三个nmp池,第一个nmp池内装有相对较低浓度的nmp洗液,对防着板进行初步清洗,第二个nmp池内装有相对中等浓度的nmp洗液,对防着板进行清洗,第三个nmp池内装有相对最高浓度的nmp洗液,对防着板进行深度清洗。
nmp洗液对于浓度要求极高,一旦nmp洗液的浓度降低至95%,就无法使用了,这就造成了nmp洗液大部分都被浪费了。
如果能够在nmp清洗系统中增加nmp洗液回收系统,形成nmp洗液循环系统,就可以大幅度提高nmp洗液的利用率。
技术实现要素:
基于此,有必要提供一种可以大幅度提高nmp洗液的利用率的nmp洗液循环系统。
一种nmp洗液循环系统,包括依次设置的上料位、深度清洗槽、初步清洗槽和下料位,还包括沉淀槽、水箱和蒸发除水槽;
所述沉淀槽和所述初步清洗槽连通,并且所述沉淀槽和所述初步清洗槽之间设有第一阀门,所述沉淀槽和所述水箱连通,所述水箱用于向所述沉淀槽注水,并且所述沉淀槽和所述水箱之间设有第二阀门,所述沉淀槽和所述蒸发除水槽连通,所述沉淀槽的底部设有与所述蒸发除水槽连通的过滤件,所述过滤件上设有滤网,并且所述沉淀槽和所述蒸发除水槽之间设有第三阀门,所述蒸发除水槽与所述深度清洗槽连通,所述蒸发除水槽用于加热除水,并且所述蒸发除水槽与所述深度清洗槽之间设有第四阀门。
这种nmp洗液循环系统的初步清洗槽内的nmp洗液流入沉淀槽后,水箱将水注入沉淀槽内和nmp洗液混合,产生的有机物沉淀经过过滤后,水和nmp洗液的混合物进入蒸发除水槽,蒸发除水槽将水去除后,得到回收后的nmp洗液,回收后的nmp洗液流入深度清洗槽,从而实现了nmp洗液的循环利用。这种nmp洗液循环系统可以大幅度提高nmp洗液的利用率。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
其中:
图1为一实施方式的nmp洗液循环系统的示意图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
如图1所示的一实施方式的nmp洗液循环系统100,包括依次设置的上料位110、初步清洗槽120、深度清洗槽130、下料位140、沉淀槽150、水箱160和蒸发除水槽170。
沉淀槽150和初步清洗槽120连通,并且沉淀槽150和初步清洗槽120之间设有第一阀门151。
沉淀槽150和水箱160连通,水箱160用于向沉淀槽150注水,并且沉淀槽150和水箱160之间设有第二阀门161。
沉淀槽150和蒸发除水槽170连通,沉淀槽150的底部设有与蒸发除水槽170连通的过滤件153,过滤件153上设有滤网155,并且沉淀槽150和蒸发除水槽170之间设有第三阀门171。
蒸发除水槽170与深度清洗槽130连通,蒸发除水槽170用于加热除水,并且蒸发除水槽170与深度清洗槽130之间设有第四阀门173。
深度清洗槽130内装有相对低浓度的nmp洗液,对防着板之类的器件进行初步清洗。
初步清洗槽120内装有相对最高浓度的nmp洗液,对防着板之类的器件进行深度清洗。
水箱160用于向沉淀槽150内注入水,水和nmp洗液混合后,nmp洗液内的有机杂质会形成沉淀。
蒸发除水槽170可以通过加热除水,将水和nmp洗液分离。
这种nmp洗液循环系统100的初步清洗槽120内的nmp洗液流入沉淀槽150后,水箱160将水注入沉淀槽150内和nmp洗液混合,产生的有机物沉淀经过过滤后,水和nmp洗液的混合物进入蒸发除水槽170,蒸发除水槽170将水去除后,得到回收后的nmp洗液,回收后的nmp洗液流入深度清洗槽130,从而实现了nmp洗液的循环利用。这种nmp洗液循环系统100可以大幅度提高nmp洗液的利用率。
优选的,本实施方式中,沉淀槽150内还设有搅拌器157。
结合附图,本实施方式中,过滤件153为漏斗状。
优选的,沉淀槽150内还设有用于对沉淀槽150进行加压的加压装置(图中未显示)。
优选的,本实施方式的nmp洗液循环系统100还包括蒸汽吸收装置(图中未显示),蒸汽吸收装置与蒸发除水槽170连接,并且蒸汽吸收装置用于吸收蒸发除水槽170产生的水汽。
由于蒸发除水槽170产生的水汽中含有一定的nmp,为了避免污染环境,可以设置蒸汽吸收装置将水汽吸收。
更优选的,蒸汽吸收装置与水箱160连通,蒸汽吸收装置还用于将吸收到的水汽液化后转移到水箱160内。蒸汽吸收装置吸收的水汽转移到水箱160内,可以实现循环利用的效果。
本实施方式中,第一阀门151、第二阀门161、第三阀门171和第四阀门173均可以为电阀门。
优选的,深度清洗槽130和初步清洗槽120还可以设置中间清洗槽。
优选的,初步清洗槽120和下料位140之间还可以设置下料清洗槽。
以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对申请专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本实用新型的保护范围。因此,本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。
1.一种nmp洗液循环系统,包括依次设置的上料位、深度清洗槽、初步清洗槽和下料位,其特征在于,还包括沉淀槽、水箱和蒸发除水槽;
所述沉淀槽和所述初步清洗槽连通,并且所述沉淀槽和所述初步清洗槽之间设有第一阀门,所述沉淀槽和所述水箱连通,所述水箱用于向所述沉淀槽注水,并且所述沉淀槽和所述水箱之间设有第二阀门,所述沉淀槽和所述蒸发除水槽连通,所述沉淀槽的底部设有与所述蒸发除水槽连通的过滤件,所述过滤件上设有滤网,并且所述沉淀槽和所述蒸发除水槽之间设有第三阀门,所述蒸发除水槽与所述深度清洗槽连通,所述蒸发除水槽用于加热除水,并且所述蒸发除水槽与所述深度清洗槽之间设有第四阀门。
2.根据权利要求1所述的nmp洗液循环系统,其特征在于,所述沉淀槽内还设有搅拌器。
3.根据权利要求2所述的nmp洗液循环系统,其特征在于,所述过滤件为漏斗状。
4.根据权利要求2所述的nmp洗液循环系统,其特征在于,所述沉淀槽内还设有用于对所述沉淀槽进行加压的加压装置。
5.根据权利要求1~4中任意一项所述的nmp洗液循环系统,其特征在于,还包括蒸汽吸收装置,所述蒸汽吸收装置与所述蒸发除水槽连接,并且所述蒸汽吸收装置用于吸收所述蒸发除水槽产生的水汽。
6.根据权利要求5所述的nmp洗液循环系统,其特征在于,所述蒸汽吸收装置与所述水箱连通,所述蒸汽吸收装置还用于将吸收到的水汽液化后转移到所述水箱内。
7.根据权利要求5所述的nmp洗液循环系统,其特征在于,所述nmp洗液循环系统还包括设置在所述深度清洗槽和所述初步清洗槽之间的中间清洗槽。
8.根据权利要求5所述的nmp洗液循环系统,其特征在于,所述nmp洗液循环系统还包括设置在所述初步清洗槽和所述下料位之间的下料清洗槽。
9.根据权利要求5所述的nmp洗液循环系统,其特征在于,所述第一阀门、所述第二阀门、所述第三阀门和所述第四阀门均为电阀门。