一种基于纳米压印的精确擦胶设备及方法与流程

本发明涉及纳米压印领域，尤其涉及一种基于纳米压印的精确擦胶设备及方法。

背景技术：

1、基片传统通过匀胶机旋涂的基片胶面为整面状态，借助掩膜将所需部分压印固化，被遮挡部分为液态胶水，需要利用化学试剂对残余胶进行清洗。

2、其存在以下两个问题：采用化学试剂的清洗，使其压印的微结构内容易残留余胶或清洗不彻底导致后续光学性能下降或达不到设计要求。为了保证边缘清晰度更好，故在压印曝光时，曝光能量较小，可能造成所压印的结构附着力差等因素。

技术实现思路

1、针对背景技术中存在的传统通过匀胶机旋涂的基片胶面为整面状态，在压印完成后，需要利用化学试剂对残余胶进行清洗。其存在以下两个问题：采用化学试剂的清洗，容易对压印的微结构进行破坏。为了保证后续残余胶能够被化学试剂清洗，故在压印曝光时，曝光能量较小，可能造成压印结构的边缘清晰度差问题，提出一种精确擦拭余胶的设备及方法，便于后续实现拼接式压印。

2、一方面，本发明公开一种基于纳米压印的精确擦胶设备，包括：

3、卷放料组件，包括：出料卷、收料卷以及用于驱动出料卷和收料卷滚动的第一驱动电机，出料卷用于将洁净的无尘布进行出料，收料卷用于将使用后的无尘布进行回收，出料卷卷出的洁净无尘布用于为基片上的胶擦拭，预留出精确的微结构区域；

4、升降组件，升降组件与卷放料组件传动连接，用于驱动卷放料组件升降；

5、承载组件，承载组件与第二驱动电机传动连接，承载组件用于承载基片，第二驱动电机驱动基片旋转一定角度。

6、优选的，升降组件包括：

7、固定框架、电动推杆、推板以及支持架；

8、在固定框架的顶端设置有电动推杆，电动推杆的驱动端与推板传动连接，推板的两侧分别设置有支持架，出料卷和收料卷分别安装于对应的支持架上。

9、优选的，推板的一侧设置有滑动板，固定框架的内部对称设置有竖向滑轨，滑动板滑动安装在竖向滑轨的内部。

10、优选的，在承载组件包括：凹型架、安装于凹型架上的转动杆以及与转动的顶端连接的固定吸盘，转动杆与第二驱动电机传动连接，固定吸盘的顶端吸入安装有基片。

11、优选的，转动杆的底端设置有四分板，第二驱动电机与转动盘传动连接，转动盘的一侧设置有主动拨杆，四分板内部开设有四组凹槽，第二驱动电机用于驱动主动拨杆卡入到四分板的凹槽中，带动四分板进行转动。

12、优选的，转动杆的一侧连接有吸气管，吸气管的一侧设置有真空泵。

13、优选的，精确擦胶设备还包括：图像识别装置，图像识别装置用于识别基片上余胶情况。

14、另一方面，本发明还公开一种基于纳米压印的精确擦胶方法，利用上述任一种精确擦胶设备进行擦胶，具体包括以下步骤：

15、s1:升降组件将卷放料组件下降至合适位置；

16、s2:第一驱动电机驱动出料卷将洁净的无尘布进行出料，洁净的无尘布为基片上的胶擦拭，收料卷将使用后的无尘布进行回收；

17、s3:升降组件将卷放料组件上升至合适位置；

18、s4:第二驱动电机驱动基片旋转一定角度；

19、s5:重复s1-s4，直至无尘布为基片预留出精确的微结构区域。

20、优选的，还包括以下步骤；

21、当第一次擦拭完成后，利用图像识别装置识别基片上余胶情况，判断其是否清理干净；

22、若干净，则进入下一个压印曝光环节；

23、若不干净，则重复s1-s4，直至用图像识别装置识别基片上余胶清理干净。

24、与现有技术相比，本发明一种基于纳米压印的精确擦胶设备及方法的有益效果如下：

25、第一，本发明采用无尘布将基片上的余胶进行擦拭，可以重复擦拭多次，精确预留压印区域，省去了后续清洗的步骤。因为不再考虑清洗余胶的问题，压印后曝光的能量可以更高，使得微结构的质量更好。

26、第二，本发明结构巧妙，第二驱动电机启动，转动盘旋转，使得主动拨杆卡入到四分板的凹槽中，带动四分板进行转动，四分板转动带动上方固定吸盘旋转九十度，第二驱动电机每转动一周，四分板带动固定吸盘旋转九十度，使得转动角度准确，便于清理余料，真空泵启动，使得吸气管将气体抽走，使得固定吸盘保持真空状态吸紧基片，使得基片能够被定位。

技术特征：

1.一种基于纳米压印的精确擦胶设备，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的精确擦胶设备，其特征在于，所述升降组件包括：

3.根据权利要求2所述的精确擦胶设备，其特征在于，所述推板(121)的一侧设置有滑动板(122)，所述固定框架(110)的内部对称设置有竖向滑轨(123)，所述滑动板(122)滑动安装在竖向滑轨(123)的内部。

4.根据权利要求1所述的精确擦胶设备，其特征在于，在所述承载组件包括：凹型架(130)、安装于所述凹型架(130)上的转动杆(135)以及与所述转动杆(135)的顶端连接的固定吸盘(134)，所述转动杆(135)与第二驱动电机(137)传动连接，所述固定吸盘(134)的顶端吸入安装有基片(140)。

5.根据权利要求4所述的精确擦胶设备，其特征在于，所述转动杆(135)的底端设置有四分板(136)，所述第二驱动电机(137)与转动盘(133)传动连接，所述转动盘(133)的一侧设置有主动拨杆(138)，所述四分板(136)内部开设有四组凹槽，所述第二驱动电机(137)用于驱动主动拨杆(138)卡入到四分板(136)的凹槽中，带动四分板(136)进行转动。

6.根据权利要求4所述的精确擦胶设备，其特征在于，所述转动杆(135)的一侧连接有吸气管(132)，所述吸气管(132)的一侧设置有真空泵(131)。

7.根据权利要求1-6任一项所述的精确擦胶设备，其特征在于，所述精确擦胶设备还包括：图像识别装置，所述图像识别装置用于识别基片(140)上余胶情况。

8.一种基于纳米压印的精确擦胶方法，其特征在于，利用如权利要求1-7任一项所述的精确擦胶设备进行擦胶，具体包括以下步骤：

9.根据权利要求8所述的精确擦胶方法，其特征在于，还包括以下步骤；

技术总结
本发明公开一种基于纳米压印的精确擦胶设备及方法，包括：卷放料组件、升降组件和承载组件，卷放料组件包括：出料卷、收料卷以及用于驱动出料卷和收料卷滚动的第一驱动电机，出料卷用于将洁净的无尘布进行出料，收料卷用于将使用后的无尘布进行回收，出料卷卷出的洁净无尘布用于为基片上的胶擦拭，预留出精确的微结构区域；升降组件与卷放料组件传动连接，用于驱动卷放料组件升降；承载组件与第二驱动电机传动连接，承载组件用于承载基片，第二驱动电机驱动基片旋转一定角度。本发明采用无尘布将基片上的余胶进行擦拭，精确预留压印区域，省去了后续清洗的步骤。因为不再考虑清洗余胶的问题，压印后曝光的能量可以更高，使得微结构的质量更好。

技术研发人员：马腾飞,史晓华
受保护的技术使用者：苏州光越微纳科技有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/13