一种晶圆清洗装置的制作方法

本技术属于晶圆后处理，具体而言，涉及一种晶圆清洗装置。

背景技术：

1、化学机械抛光(chemical mechanical planarization,cmp)属于晶圆制造工序，其是一种全局平坦化的超精密表面加工技术。完成化学机械抛光的晶圆需要进行清洗、干燥等后处理，以避免微量离子和金属颗粒对半导体器件的污染，保障半导体器件的性能和合格率。晶圆清洗方式有：滚刷清洗、兆声清洗等，其中，滚刷清洗应用较为广泛，但也存在一些问题。

2、晶圆在滚刷清洗过程中，使用一对主动轮和从动轮形成支撑装置，以竖向支撑并带动晶圆旋转，其中，从动轮设置于一对主动轮之间，并且，主动轮和从动轮设置于清洗壳体的安装座。

3、由于加工和装配误差，主动轮和从动轮上的凹槽可能不在同一平面内，使得放置于支撑装置的晶圆发生倾斜或移位，即无法保证刷洗的晶圆处于竖直状态。晶圆清洗过程中至少存在以下问题：倾斜的晶圆受到的夹持状态不一致，致使清洗刷配置的电机的扭矩发生波动而影响晶圆清洗的均匀性；倾斜的晶圆无法放置于从动轮的washer中，使得晶圆发生打滑而发出掉速的误报；倾斜的晶圆也不利于机械手的取片，容易取片失败或碎片而中断生产。

技术实现思路

1、本实用新型实施例提供了一种晶圆清洗装置，旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。

2、本实用新型的实施例提供了一种晶圆清洗装置，包括：

3、壳体；

4、支撑组件，设置于壳体中，其包括主动轮和从动轮，以竖向支撑并带动晶圆转动；

5、清洗刷，水平设置于壳体中并能够绕轴线转动，以对晶圆进行刷洗；

6、位置校核组件，以测量和调整主动轮和/或从动轮的水平位置，使得主动轮和从动轮位于同一平面中。

7、在一个实施例中，所述位置校核组件包括位置检测部和位置调节部；所述位置检测部朝向主动轮和从动轮设置并位于所述壳体的外部，所述位置调节部与所述主动轮和/或从动轮连接，以调节其水平位置。

8、在一个实施例中，所述壳体配置有透明窗体，所述透明窗体的设置位置与所述主动轮和从动轮的位置相对应；所述位置检测部设置于所述透明窗体的外侧。

9、在一个实施例中，所述位置检测部包括测距传感器，所述测距传感器为激光测距传感器。

10、在一个实施例中，所述测距传感器朝向主动轮和从动轮的端面发射激光，所述激光的波长大于1000nm。

11、在一个实施例中，所述位置调节部设置于壳体的下部，位置调节部包括滑块，所述滑块能够沿水平方向移动；所述滑块与所述主动轮或从动轮的安装座连接，以调节主动轮或从动轮的水平位置。

12、在一个实施例中，所述位置调节部还包括伺服电机和丝杠，所述伺服电机的输出轴与丝杠连接，所述滑块连接于所述丝杠；旋转的丝杠能够带动滑块及其连接的安装座移动，以调节主动轮或从动轮的位置。

13、在一个实施例中，所述主动轮和从动轮的内部设置有支撑垫，所述支撑垫的外周侧配置有安装槽；所述位置校核组件调节主动轮和/或从动轮的位置，使得支撑垫的安装槽位于同一平面中。

14、在一个实施例中，所述位置调节部设置于所述主动轮的下方，所述位置校核组件以所述从动轮为基准，通过位置调节部调整所述主动轮的位置。

15、在一个实施例中，所述位置调节部设置于主动轮和从动轮的下方，以调整主动轮和从动轮的位置。

16、本实用新型的有益效果包括：

17、a.配置的位置校核组件能够测量主动轮和从动轮的水平位置，并根据测量结果进行调整，使得主动轮和从动轮位于同一水平位置，保证待刷洗晶圆处于垂直状态；

18、b.位置检测部包括测距传感器，其设置于壳体的外部，以经由透明窗体朝向主动轮和从动轮发射特定波长的激光，以减少和控制光致腐蚀的条件下，测量主动轮和从动轮的水平位置。

技术特征：

1.一种晶圆清洗装置，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述位置校核组件包括位置检测部和位置调节部；所述位置检测部朝向主动轮和从动轮设置并位于所述壳体的外部，所述位置调节部与所述主动轮和/或从动轮连接，以调节其水平位置。

3.如权利要求2所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述壳体配置有透明窗体，所述透明窗体的设置位置与所述主动轮和从动轮的位置相对应；所述位置检测部设置于所述透明窗体的外侧。

4.如权利要求3所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述位置检测部包括测距传感器，所述测距传感器为激光测距传感器。

5.如权利要求4所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述测距传感器朝向主动轮和从动轮的端面发射激光，所述激光的波长大于1000nm。

6.如权利要求2所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述位置调节部设置于壳体的下部，位置调节部包括滑块，所述滑块能够沿水平方向移动；所述滑块与所述主动轮或从动轮的安装座连接，以调节主动轮或从动轮的水平位置。

7.如权利要求6所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述位置调节部还包括伺服电机和丝杠，所述伺服电机的输出轴与丝杠连接，所述滑块连接于所述丝杠；旋转的丝杠能够带动滑块及其连接的安装座移动，以调节主动轮或从动轮的位置。

8.如权利要求1所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述主动轮和从动轮的内部设置有支撑垫，所述支撑垫的外周侧配置有安装槽；所述位置校核组件调节主动轮和/或从动轮的位置，使得支撑垫的安装槽位于同一平面中。

9.如权利要求2所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述位置调节部设置于所述主动轮的下方，所述位置校核组件以所述从动轮为基准，通过位置调节部调整所述主动轮的位置。

10.如权利要求2所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述位置调节部设置于主动轮和从动轮的下方，以调整主动轮和从动轮的位置。

技术总结
本技术公开了一种晶圆清洗装置，其包括：壳体；支撑组件，设置于壳体中，其包括主动轮和从动轮，以竖向支撑并带动晶圆转动；清洗刷，水平设置于壳体中并能够绕轴线转动，以对晶圆进行刷洗；位置校核组件，以测量和调整主动轮和/或从动轮的水平位置，使得主动轮和从动轮位于同一平面中。

技术研发人员：睢英照,请求不公布姓名,赵德文,路新春
受保护的技术使用者：华海清科股份有限公司
技术研发日：20221230
技术公布日：2024/1/11