一种脱胶插片清洗一体机的制作方法

本技术涉及硅片领域，尤其涉及一种脱胶插片清洗一体机。

背景技术：

1、由于一种脱胶插片清洗一体机设备较长，且多个设备平行布置，一个操作人员需要控制多个设备，从一设备到另一设备需要绕行，为了操作人员能穿梭在不同设备之间，所以脱胶槽和插片机构之间设置人工通道。当机械手从脱胶槽取料、再放到插片机构处，期间料框和机械手会滴落残液，造成脱胶插片清洗一体机内部积累污水，腐蚀设备，同时操作人员穿过时会打滑，有安全风险。

技术实现思路

1、本实用新型的目的是提供一种脱胶插片清洗一体机。

2、本实用新型的创新点在于人工通道上加入接液盘接残液，可以避免设备积累污水。

3、为实现上述实用新型目的，本实用新型的技术方案是：

4、一种脱胶插片清洗一体机，包括依次布置的脱胶槽和插片机构、清洗机构，其特征在于，脱胶槽和插片机构之间存在间距，间距行形成人工通道，人工通道上布置有一接液盘。

5、人工通道上加入接液盘接残液，可以避免设备积累污水。

6、作为优选，所述接液盘包括支架、支架上的固定盘、与固定盘铰链的旋转盘，支架上设有驱动旋转盘向上转动的驱动装置。旋转盘可以在操作人员穿过人工通道时上折，给操作人员留下较大的通行空间；在接液时放下，增大接液盘的布设面积。

7、作为优选，所述驱动装置包括铰连在支架上的伺服气缸，伺服气缸伸出有活塞杆，活塞杆与旋转盘底面铰连。当机械手将料框脱胶槽内拿出时，伺服气缸可以同步放下旋转盘，控制精准。

8、作为优选，固定盘倾斜布置，固定盘上设有出水管，出水管位于固定盘低处。旋转盘上的水下流至固定盘，固定盘上的水从出水管流出。

9、作为优选，脱胶槽后端设有缓存槽，所述人工通道位于缓存槽和插片机构之间，缓存槽上布置有进水口和溢流口，缓存槽内设有用于限位料框的支撑杆。缓存槽可以先清理硅片上的硅泥和残液，影响插片工序，而且硅片不能长时间放置在脱胶槽内，容易氧化，当插片机构发生故障时，没有缓存槽的话会导致硅片滞留在脱胶槽内。

10、作为优选，缓存槽内设有加热管。水温保持在30度左右可以时硅泥更容易溶解。

11、本实用新型的有益效果是：

12、1、本实用新型中人工通道上加入接液盘接残液，可以避免设备积累污水。

13、2、本实用新型中旋转盘可以在操作人员穿过人工通道时上折，给操作人员留下较大的通行空间；在接液时放下，增大接液盘的布设面积。

14、3、本实用新型中加入缓存槽可以清理硅片上的污泥，同时可以避免硅片滞留在脱胶槽内

技术特征：

1.一种脱胶插片清洗一体机，包括依次布置的脱胶槽和插片机构、清洗机构，脱胶槽和插片机构之间存在间距，间距行形成人工通道，其特征在于，人工通道上布置有一接液盘。

2.根据权利要求1所述的脱胶插片清洗一体机，其特征在于，所述接液盘包括支架、支架上的固定盘、与固定盘铰链的旋转盘，支架上设有驱动旋转盘向上转动的驱动装置。

3.根据权利要求2所述的脱胶插片清洗一体机，其特征在于，所述驱动装置包括铰连在支架上的伺服气缸，伺服气缸伸出有活塞杆，活塞杆与旋转盘底面铰连。

4.根据权利要求1所述的脱胶插片清洗一体机，其特征在于，固定盘倾斜布置，固定盘上设有出水管，出水管位于固定盘低处。

5.根据权利要求1所述的脱胶插片清洗一体机，其特征在于，脱胶槽后端设有缓存槽，所述人工通道位于缓存槽和插片机构之间，缓存槽上布置有进水口和溢流口，缓存槽内设有用于限位料框的支撑杆。

6.根据权利要求5所述的脱胶插片清洗一体机，其特征在于， 缓存槽内设有加热管。

技术总结
本技术公开了一种脱胶插片清洗一体机，包括依次布置的脱胶槽和插片机构、清洗机构，脱胶槽和插片机构之间存在间距，间距行形成人工通道，人工通道上布置有一接液盘。本技术中人工通道上加入接液盘接残液，可以避免设备积累污水。

技术研发人员：瞿梦成,白大伟,武治军,曹政民,王大伟,万遥,李瑞鹏,张昌银,崔伟
受保护的技术使用者：无锡中环应用材料有限公司
技术研发日：20230227
技术公布日：2024/1/13