本技术涉及硅片清洗设备,尤其涉及一种溢流槽流量控制装置。
背景技术:
1、硅片加工需要将单晶硅棒切成片,厚度在180微米~220微米之间,硅片经过磨边机抛磨、清洗机清洗等工序,制成待加工的原料硅片。
2、现有技术中,清洗机的溢流槽中加液控制装置都是凭工人的经验对溢流槽内的ph值进行调整,例如人工观察硅片装篮片数,达到一定片数进行加药操作,通过打开阀门使出药箱内的碱液经连通管进入溢流槽内,但是人工操作无法做到精准加液,可能导致溢流槽内清洗液溢出,并且操作繁琐,工作效率低。
技术实现思路
1、针对上述现有技术的缺点,本实用新型的目的是提供一种溢流槽流量控制装置,以解决现有技术中的一个或多个问题。
2、为实现上述目的,本实用新型的技术方案如下:
3、一种溢流槽流量控制装置,所述溢流槽流量控制装置包括溢流槽,所述溢流槽内并排开设若干槽体,所述槽体内设置清洗机构,相邻槽体之间具有溢流口且从左到右的溢流口高度依次降低,位于最左边的所述槽体远端还设置加液机构,所述加液机构用于向槽体内加液,位于最左边的槽体与最右边的槽体之间连接有回流管,所述回流管上设置回流泵,所述溢流槽流量控制装置还包括控制机构,所述控制机构包括设置在所述溢流槽远端两侧的l型支架、轴承座,所述l型支架固定连接传感器,所述传感器的输出端与轴承座之间连接第一转轴,所述第一转轴近端设置挡板,所述挡板近端与溢流口表面接触,溢流口溢出的清洗液推动挡板旋转,所述传感器用于检测挡板旋转角度。
4、进一步的,所述加液机构包括储液箱、连接在储液箱近端的管道,所述管道出口位于所述槽体内,所述管道上还设置电磁阀。
5、进一步的,所述溢流槽流量控制装置还包括控制器,所述控制器与传感器、回流泵、电磁阀电连接,所述控制器用于接收传感器检测信号并控制电磁阀开闭以及控制回流泵流速。
6、进一步的,所述l型支架近端通过螺钉固定连接溢流槽,所述l型支架远端开设有供第一转轴穿过的通孔,所述l型支架远端与传感器通过螺钉连接。
7、进一步的,所述l型支架远端开设有四个固定孔。
8、进一步的,所述传感器为角度传感器。
9、进一步的,所述槽体近端开设出水口。
10、进一步的,所述清洗机构包括电机,所述电机的输出端连接第二转轴可旋转地穿过槽体,所述第二转轴上设置摆动架,所述摆动架上设置用于放置花篮的限位框。
11、进一步的,所述溢流槽外壁还设置显示屏。
12、与现有技术相比,本实用新型的有益技术效果如下:
13、本实用新型提供的溢流槽流量控制装置,通过在溢流口上方设置控制机构,溢流清洗液推动控制机构的挡板旋转,传感器检测挡板的旋转角度可以判断清洗液溢流流量,通过控制器控制加液机构的电磁阀打开进行加液,直至挡板恢复清洗液足量时的角度后,控制器关闭电磁阀停止加液,结构简单,操作方便,加液精准。
1.一种溢流槽流量控制装置,其特征在于:所述溢流槽流量控制装置包括溢流槽,所述溢流槽内并排开设若干槽体,所述槽体内设置清洗机构,相邻槽体之间具有溢流口且从左到右的溢流口高度依次降低,位于最左边的所述槽体远端还设置加液机构,所述加液机构用于向槽体内加液,位于最左边的槽体与最右边的槽体之间连接有回流管,所述回流管上设置回流泵,所述溢流槽流量控制装置还包括控制机构,所述控制机构包括设置在所述溢流槽远端两侧的l型支架、轴承座,所述l型支架固定连接传感器,所述传感器的输出端与轴承座之间连接第一转轴,所述第一转轴近端设置挡板,所述挡板近端与溢流口表面接触,溢流口溢出的清洗液推动挡板旋转,所述传感器用于检测挡板旋转角度。
2.如权利要求1所述的一种溢流槽流量控制装置,其特征在于:所述加液机构包括储液箱、连接在储液箱近端的管道,所述管道出口位于所述槽体内,所述管道上还设置电磁阀。
3.如权利要求2所述的一种溢流槽流量控制装置,其特征在于:所述溢流槽流量控制装置还包括控制器,所述控制器与传感器、回流泵、电磁阀电连接,所述控制器用于接收传感器检测信号并控制电磁阀开闭以及控制回流泵流速。
4.如权利要求1所述的一种溢流槽流量控制装置,其特征在于:所述l型支架近端通过螺钉固定连接溢流槽,所述l型支架远端开设有供第一转轴穿过的通孔,所述l型支架远端与传感器通过螺钉连接。
5.如权利要求4所述的一种溢流槽流量控制装置,其特征在于:所述l型支架远端开设有四个固定孔。
6.如权利要求1所述的一种溢流槽流量控制装置,其特征在于:所述传感器为角度传感器。
7.如权利要求1所述的一种溢流槽流量控制装置,其特征在于:所述槽体近端开设出水口。
8.如权利要求1所述的一种溢流槽流量控制装置,其特征在于:所述清洗机构包括电机,所述电机的输出端连接第二转轴可旋转地穿过槽体,所述第二转轴上设置摆动架,所述摆动架上设置用于放置花篮的限位框。
9.如权利要求1所述的一种溢流槽流量控制装置,其特征在于:所述溢流槽外壁还设置显示屏。