本技术涉及oled生产设备的,具体涉及一种oled基板的紫外线清洗炉。
背景技术:
1、oled基板的生产加工过程中,需要进行药液浸泡、蚀刻、清洗等等步骤。oled基板的清洗主要是对表面的粘合剂进行剥离,一般采用的工艺为是直接通过uv(紫外线)对oled基板表面进行照射,从而对粘合剂进行分解,但是,部分粘合剂无法被紫外线完全分解,导致oled基板的清洗效果不够好。
2、因此,需要进一步改进。
技术实现思路
1、本实用新型的目的在于克服上述现有技术存在的不足,而提供一种oled基板的紫外线清洗炉,旨在至少在一定程度上解决现有技术中的上述技术问题之一。
2、本实用新型的目的是这样实现的:
3、一种oled基板的紫外线清洗炉,包括主体和面盖,面盖盖接在主体上形成清洗腔,清洗腔具有进料口和出料口,进料口与出料口之间设有用于移动oled基板的传动机构,清洗腔内设有uv发生装置和氮气出气通道,氮气出气通道的出气端设置于进料口与uv发生装置之间和/或出料口与uv发生装置之间。
4、所述氮气出气通道分布在面盖的内侧位置,氮气出气通道对应进料口和出料口上方的位置形成若干个出气孔,出气孔沿垂直于oled基板移动的方向分布。
5、所述传动机构包括若干个沿oled基板移动的方向分布的转动轴,转动轴上分别设有若干个沿周向分布的滚动轮。
6、所述面盖上朝向清洗腔的一侧设有用于安装uv发生装置和氮气出气通道的上凹腔。
7、所述主体上朝向清洗腔的一侧设有用于安装传动机构的下凹腔。
8、所述主体与面盖活动连接,主体的后侧与面盖的后侧连接位置设有铰接机构。
9、本实用新型的有益效果是:
10、通过设置氮气出气通道,使oled基板在刚从进料口进入清洗腔时,可以通过氮气进行预清洗,由于氮气不容易与紫外线以及粘合剂发生反应,因此即可起到预清洗oled基板,提升清洗效果的作用,又可以避免气体与紫外线或者粘合剂发生反应。而oled基板经过紫外线的作用后温度会升高,氮气还可以在oled基板将要从出料口离开清洗腔时对其进行降温。
11、本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述部分中变得明显,或通过本实用新型的实践了解到。
1.一种oled基板的紫外线清洗炉,其特征在于,包括主体(1)和面盖(2),所述面盖(2)盖接在主体(1)上形成清洗腔(3),所述清洗腔(3)具有进料口(31)和出料口(32),进料口(31)与出料口(32)之间设有用于移动oled基板的传动机构,清洗腔(3)内设有uv发生装置(5)和氮气出气通道(4),所述氮气出气通道(4)的出气端设置于进料口(31)与uv发生装置(5)之间和/或出料口(32)与uv发生装置(5)之间。
2.根据权利要求1所述oled基板的紫外线清洗炉,其特征在于:所述氮气出气通道(4)分布在面盖(2)的内侧位置,氮气出气通道(4)对应进料口(31)和出料口(32)上方的位置形成若干个出气孔(41),所述出气孔(41)沿垂直于oled基板移动的方向分布。
3.根据权利要求1所述oled基板的紫外线清洗炉,其特征在于:所述传动机构包括若干个沿oled基板移动的方向分布的转动轴(6),所述转动轴(6)上分别设有若干个沿周向分布的滚动轮(61)。
4.根据权利要求1所述oled基板的紫外线清洗炉,其特征在于:所述面盖(2)上朝向清洗腔(3)的一侧设有用于安装uv发生装置(5)和氮气出气通道(4)的上凹腔(21)。
5.根据权利要求1所述oled基板的紫外线清洗炉,其特征在于:所述主体(1)上朝向清洗腔(3)的一侧设有用于安装传动机构的下凹腔(11)。
6.根据权利要求1-5任一项所述oled基板的紫外线清洗炉,其特征在于:所述主体(1)与面盖(2)活动连接,主体(1)的后侧与面盖(2)的后侧连接位置设有铰接机构(7)。