一种清洗设备的制作方法

本技术涉及清洗设备，具体涉及一种清洗设备。

背景技术：

1、当前对于物品的清洗，按照方式方法来区分的话，分为普通清洗和超声波清洗，普通清洗一般为喷射液体对物品外表进行冲击，以求达到清洗的目的；超色波清洗一般为利用超声波使得液体震动进而将物品表面污渍洗去，就当前市场上存在的设备来说，无论采用普通清洗还是超声波清洗，均会加入清洗液这一操作，理论上清洗液加入的越多，清洗时清洗效果越好，但考虑到清洗液为化学物质，过多使用会造成污染，本申请拟定设计一款清洗设备，其可以在较少使用清洗液的情况下，达到正常的清洁效果。

技术实现思路

1、本实用新型为了实现上述目的具体采用以下技术方案：

2、一种清洗设备，包括气液混合仓，所述气液混合仓内至少设置有一个转轴，所述转轴外同心固定有叶轮，所述气液混合仓的外壁处设置至少一个进液孔、进气孔、喷口，还包括对进入气液混合仓内的气体、液体进行加速的气加单元、液加单元。

3、进一步地，所述气加单元包括与进气孔通过管道连通的气体罐、和气体罐连通的气体增压泵，所述气体增压泵的进气口连接有气体法兰管。

4、进一步地，所述液加单元的包括与进液孔通过管道连通的液体增压泵，所述液体增压泵的进液口连通有液体法兰管，还包括与液体增压泵动力轴连接的转速器。

5、进一步地，还包括控制单元，所述控制单元包括plc控制板、继电器、稳压器，所述plc控制板与继电器、稳压器、气体增压泵、液体增压泵均电性连接。

6、进一步地，还包括装置壳，所述装置壳与气液混合仓连接固定，所述plc控制板安装在装置壳外表面，且继电器、稳压器、气体增压泵、液体增压泵、气体罐、均安装在装置壳内部，所述装置壳上还安装有电源插口。

7、本实用新型的有益效果如下：

8、本实用新型在气加单元、液加单元的作用下，进入进液孔与进气孔的气体与液体被加压或分解成微米颗粒，同时高速运动的微米颗粒驱动叶轮转动将气液混合，形成极小的气泡和带电离子团通过喷口喷出，对待清洁物品进行清洁，该设计方案，通过将液体含有清洗液，气体进行加压分解，得到更为细小的颗粒，来作用于待清洁物表面，进而达到细微清洗的目的，如此设计无论待清洁物便面是否凹凸不平，均可以被更为细小的颗粒冲击到，以此提高清洁效果，进而达到少用或不用清洗液的目的，避免了过多使用清洗液对生态造成污染的问题。

9、本实用新型当电源打开时，plc控制板开始工作，经过稳压器及继电器的协作达到输出功率稳定的通电环境，并且plc控制板可以控制各个工作电器的工作参数，以达到调试至最佳使用状态的作用。

技术特征：

1.一种清洗设备，其特征在于，包括气液混合仓（1），所述气液混合仓（1）内至少设置有一个转轴（2），所述转轴（2）外同心固定有叶轮（3），所述气液混合仓（1）的外壁处设置至少一个进液孔（4）、进气孔（5）、喷口（10），还包括对进入气液混合仓（1）内的气体、液体进行加速的气加单元（6）、液加单元（7）。

2.根据权利要求1所述的一种清洗设备，其特征在于，所述气加单元（6）包括与进气孔（5）通过管道连通的气体罐（601）、和气体罐（601）连通的气体增压泵（602），所述气体增压泵（602）的进气口连接有气体法兰管（603）。

3.根据权利要求2所述的一种清洗设备，其特征在于，所述液加单元（7）的包括与进液孔（4）通过管道连通的液体增压泵（701），所述液体增压泵（701）的进液口连通有液体法兰管（702），还包括与液体增压泵（701）动力轴连接的转速器（703）。

4.根据权利要求3所述的一种清洗设备，其特征在于，还包括控制单元（8），所述控制单元（8）包括plc控制板（801）、继电器（802）、稳压器（803），所述plc控制板（801）与继电器（802）、稳压器（803）、气体增压泵（602）、液体增压泵（701）均电性连接。

5.根据权利要求4所述的一种清洗设备，其特征在于，还包括装置壳（9），所述装置壳（9）与气液混合仓（1）连接固定，所述plc控制板（801）安装在装置壳（9）外表面，且继电器（802）、稳压器（803）、气体增压泵（602）、液体增压泵（701）、气体罐（601）、均安装在装置壳（9）内部，所述装置壳（9）上还安装有电源插口。

技术总结
本技术公开了一种清洗设备，涉及清洗设备技术领域。本技术在气加单元、液加单元的作用下，进入进液孔与进气孔的气体与液体被加压或分解成微米颗粒，同时高速运动的微米颗粒驱动叶轮转动将气液混合，形成极小的气泡和带电离子团通过喷口喷出，对待清洁物品进行清洁，该设计方案，通过将液体含有清洗液，气体进行加压分解，得到更为细小的颗粒，来作用于待清洁物表面，进而达到细微清洗的目的，如此设计无论待清洁物便面是否凹凸不平，均可以被更为细小的颗粒冲击到，以此提高清洁效果，进而达到少用或不用清洗液的目的，避免了过多使用清洗液对生态造成污染的问题。

技术研发人员：霍亮,霍光
受保护的技术使用者：昆山瀚元电子科技有限公司
技术研发日：20230614
技术公布日：2024/1/15