本技术涉及水处理,特别是涉及一种用于高级氧化处理工艺的新型高级氧化反应器。
背景技术:
1、高级氧化法可高效降解有机物,主要包括化学氧化、光催化氧化、湿式氧化、超临界水氧化等方法。其中的uv/h2o2体系氧化方法是化学氧化的一种,因工艺相对简单,且处理过程中不产生任何固体废物,近年来被广泛应用于废水的深度处理中。
2、h2o2的氧化作用是因为h2o2在紫外光的作用下,可产生氧化性极强的·oh,使有机污染物被氧化而得以降解。但是在uv/h2o2工艺中,h2o2的光解效率较低,因此需要更大紫外光功率密度来分解h2o2。传统的方法是将uv灯管置于石英套管内,投入到容器或者管道内,从而获得跟高的紫外光功率密度;uv灯管在运行时,会产生大量的热,使得废液中离子态物质析出,附着在石英套管表面,影响uv灯管的穿透,降低·oh的发生,降低了处理效率,所以需要定期对外部的石英套管进行物理及化学清洗。
技术实现思路
1、本实用新型要解决的技术问题是提供一种用于光催化氧化工艺的单元处理模块,能够提高紫外光利用率、便于维护的用于高级氧化处理工艺的新型高级氧化反应器。
2、本实用新型用于高级氧化处理工艺的新型高级氧化反应器,包括水槽和uv灯管组件,uv灯管组件设置在水槽上端,水槽的两端分别设置有进水布水装置和收水装置,水槽内固定有多个挡片,多个挡片依次交错固定在水槽底部,且挡片之间的间距不同,uv灯管组件包括固定架,固定架上设置有灯管。
3、本实用新型用于高级氧化处理工艺的新型高级氧化反应器,其中所述进水布水装置连接在水槽的进水端,进水布水装置上设置有进水接头。
4、本实用新型用于高级氧化处理工艺的新型高级氧化反应器,其中所述进水布水装置包括相连通的进水腔体和布水腔体。
5、本实用新型用于高级氧化处理工艺的新型高级氧化反应器,其中所述进水腔体的侧壁上设置有第一挡板,第一挡板沿水平方向设置,第一挡板的高度低于进水接头且位于进水接头相对的一侧。
6、本实用新型用于高级氧化处理工艺的新型高级氧化反应器,其中所述布水腔体的顶部安装有竖直向下的第二挡板。
7、本实用新型用于高级氧化处理工艺的新型高级氧化反应器,其中所述收水装置上设置有收水接头。
8、本实用新型用于高级氧化处理工艺的新型高级氧化反应器,其中所述灯管连接有灯管电源。
9、本实用新型用于高级氧化处理工艺的新型高级氧化反应器,其中所述固定架通过机械架构固定在水槽上。
10、本实用新型用于高级氧化处理工艺的新型高级氧化反应器,其中所述灯管上部设置密封罩,密封罩上设置的排风口上连接有抽风机。
11、本实用新型用于高级氧化处理工艺的新型高级氧化反应器,其中所述固定架周围设置安全槽。
12、本实用新型用于高级氧化处理工艺的新型高级氧化反应器,其中所述水槽出水端的侧面开腰型孔。
13、本实用新型用于高级氧化处理工艺的新型高级氧化反应器与现有技术不同之处在于,本实用新型用于高级氧化处理工艺的新型高级氧化反应器能够在保证有机物能被有效去除的前提下,提高紫外光的利用率,同时取消石英套管,没有了石英套管的物理和化学清洗维护工作,减低了维护成本及管理成本。
14、下面结合附图对本实用新型的用于高级氧化处理工艺的新型高级氧化反应器作进一步说明。
1.一种用于高级氧化处理工艺的新型高级氧化反应器,其特征在于:包括水槽和uv灯管组件,uv灯管组件设置在水槽上端,水槽的两端分别设置有进水布水装置和收水装置,水槽内固定有多个挡片,多个挡片依次交错固定在水槽底部,uv灯管组件包括固定架,固定架上设置有灯管。
2.根据权利要求1所述的用于高级氧化处理工艺的新型高级氧化反应器,其特征在于:所述进水布水装置连接在水槽的进水端,进水布水装置上设置有进水接头。
3.根据权利要求2所述的用于高级氧化处理工艺的新型高级氧化反应器,其特征在于:所述进水布水装置包括进水腔体和布水腔体。
4.根据权利要求3所述的用于高级氧化处理工艺的新型高级氧化反应器,其特征在于:所述进水腔体的侧壁上设置有第一挡板,第一挡板沿水平方向设置,第一挡板的高度低于进水接头且位于进水接头相对的一侧。
5.根据权利要求3所述的用于高级氧化处理工艺的新型高级氧化反应器,其特征在于:所述布水腔体的顶部安装有竖直向下的第二挡板。
6.根据权利要求1所述的用于高级氧化处理工艺的新型高级氧化反应器,其特征在于:所述收水装置上设置有收水接头。
7.根据权利要求1所述的用于高级氧化处理工艺的新型高级氧化反应器,其特征在于:所述灯管连接有灯管电源。
8.根据权利要求1所述的用于高级氧化处理工艺的新型高级氧化反应器,其特征在于:所述固定架通过机械架构固定在水槽上。
9.根据权利要求1所述的用于高级氧化处理工艺的新型高级氧化反应器,其特征在于:所述灯管上部设置密封罩,密封罩上设置的排风口上连接有抽风机。