一种匀胶硅片清洁装置的制作方法

本技术涉及硅片清洗，尤其涉及一种匀胶硅片清洁装置。

背景技术：

1、高分子材料是当今世界发展最迅速的产业之一，高分子材料已广泛应用到电子信息、生物医药、航天航空、汽车工业、包装、建筑等各个领域。在集成电路领域光刻胶发挥着举足轻重的作用。在光刻胶开发过程中，匀胶工艺过程必不可少，而作为衬底的硅片自然发挥着巨大的作用。众所周知，硅片制造成本高，所以硅片的重复利用具有很重要的意义。匀胶之后，粘度较大的胶液会残留在硅片上。因此，对硅片进行清洗是硅片重复利用的一个重要工序。

2、目前，硅片清洗主要通过人工清洗的方式进行，但是人工清洗时难以控制硅片清洗洁净程度，且清洗过程中硅片容易出现损坏。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于：针对上述现有技术中存在的不足，提供一种匀胶硅片清洁装置，其可实现硅片的半自动清洗，能够有效节约人工成本，同时还可有效控制硅片的清洗洁净程度并减少清洗过程中的硅片损坏数量。

2、为实现上述目的，本实用新型采用以下技术方案：

3、一种匀胶硅片清洁装置，包括：

4、硅片装载装置，所述硅片装载装置包括硅片托，所述硅片托上具有装载位，所述装载位侧壁具有若干装载槽，所述硅片托顶端和底端分别具有滚托，所述滚托通过转动杆连接于所述硅片托上，所述滚托可转动至与所述硅片装载装置上的硅片的上下两端相抵接；

5、超声清洗装置，所述超声清洗装置适于容纳所述硅片装载装置，所述超声清洗装置内具有与所述滚托两端对应设置的第一驱动件，所述硅片装载装置置于所述超声清洗装置内时，所述第一驱动件适于驱动所述滚托转动；

6、冲洗装置，所述冲洗装置适于容纳所述硅片装载装置，所述冲洗装置内具有与所述滚托两端对应设置的第二驱动件，所述硅片装载装置置于所述冲洗装置内时，所述第二驱动件适于驱动所述滚托转动。

7、优选的，所述硅片托顶端和底端分别设置有两个所述滚托。

8、优选的，所述滚托上具有若干与所述装载槽对应设置的凹槽。

9、优选的，所述超声清洗装置包括清洗箱，所述清洗箱底壁上具有用于固定所述硅片装载装置的第一卡位，所述第一驱动件设置于所述清洗箱侧壁上，所述硅片装载装置置于所述清洗箱内时，所述第一驱动件适于与所述滚托对接。

10、优选的，所述清洗箱还设置有箱盖，所述清洗箱由耐溶剂的中空双层材料制成。

11、优选的，所述清洗箱还连接有过滤组件。

12、优选的，所述过滤组件包括洗液储罐、过滤器、滤液储罐，所述洗液储罐的出入口分别连接所述清洗箱和所述过滤器，所述洗液储罐与所述清洗箱之间设置有第一阀门，所述清洗箱与所述过滤器之间设置有第一输送泵，所述滤液储罐的出入口分别连接所述过滤器和所述清洗箱，所述过滤器与所述滤液储罐之间设置有第二阀门，所述滤液储罐与所述清洗箱之间分别设置有第三阀门和第二输送泵。

13、优选的，所述冲洗装置包括冲洗箱，所述冲洗箱内设置有冲洗组件，所述冲洗箱底壁上具有用于固定所述硅片装载装置的第二卡位，所述第二驱动件设置于所述冲洗箱侧壁上，所述硅片装载装置置于所述冲洗箱内时，所述第二驱动件适于与所述滚托对接。

14、优选的，所述冲洗组件包括转动设置于所述冲洗箱顶端的主管，所述主管上具有若干间隔设置的支管，所述支管上具有若干冲洗孔。

15、优选的，所述支管上还设置有清洗刷。

16、与现有技术相比，本实用新型的有益效果在于：

17、(1)本实用新型能够实现硅片的半自动清洗，可以有效的节约人工成本；

18、(2)本实用新型能够同时清洗多个硅片，并尽量避免人为清洗造成的硅片破碎问题及清洗不干净问题，可进一步提高对硅片的清洁效率；

19、(3)本实用新型的结构简单，操作方便且制造成本低。

技术特征：

1.一种匀胶硅片清洁装置，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的匀胶硅片清洁装置，其特征在于，所述硅片托(11)顶端和底端分别设置有两个所述滚托(14)。

3.如权利要求1所述的匀胶硅片清洁装置，其特征在于，所述滚托(14)上具有若干与所述装载槽(13)对应设置的凹槽(16)。

4.如权利要求1所述的匀胶硅片清洁装置，其特征在于，所述超声清洗装置包括清洗箱(22)，所述清洗箱(22)底壁上具有用于固定所述硅片装载装置的第一卡位(23)，所述第一驱动件(21)设置于所述清洗箱(22)侧壁上，所述硅片装载装置置于所述清洗箱(22)内时，所述第一驱动件(21)适于与所述滚托(14)对接。

5.如权利要求4所述的匀胶硅片清洁装置，其特征在于，所述清洗箱(22)还设置有箱盖，所述清洗箱(22)由耐溶剂的中空双层材料制成。

6.如权利要求4所述的匀胶硅片清洁装置，其特征在于，所述清洗箱(22)还连接有过滤组件(24)。

7.如权利要求6所述的匀胶硅片清洁装置，其特征在于，所述过滤组件(24)包括洗液储罐(241)、过滤器(242)、滤液储罐(243)，所述洗液储罐(241)的出入口分别连接所述清洗箱(22)和所述过滤器(242)，所述洗液储罐(241)与所述清洗箱(22)之间设置有第一阀门(244)，所述清洗箱(22)与所述过滤器(242)之间设置有第一输送泵(245)，所述滤液储罐(243)的出入口分别连接所述过滤器(242)和所述清洗箱(22)，所述过滤器(242)与所述滤液储罐(243)之间设置有第二阀门(246)，所述滤液储罐(243)与所述清洗箱(22)之间分别设置有第三阀门(247)和第二输送泵(248)。

8.如权利要求1所述的匀胶硅片清洁装置，其特征在于，所述冲洗装置包括冲洗箱(32)，所述冲洗箱(32)内设置有冲洗组件(33)，所述冲洗箱(32)底壁上具有用于固定所述硅片装载装置的第二卡位(36)，所述第二驱动件(31)设置于所述冲洗箱(32)侧壁上，所述硅片装载装置置于所述冲洗箱(32)内时，所述第二驱动件(31)适于与所述滚托(14)对接。

9.如权利要求8所述的匀胶硅片清洁装置，其特征在于，所述冲洗组件(33)包括转动设置于所述冲洗箱(32)顶端的主管(331)，所述主管(331)上具有若干间隔设置的支管(332)，所述支管(332)上具有若干冲洗孔。

10.如权利要求9所述的匀胶硅片清洁装置，其特征在于，所述支管(332)上还设置有清洗刷(333)。

技术总结
本技术公开了一种匀胶硅片清洁装置，包括硅片装载装置、超声清洗装置和冲洗装置，硅片装载装置包括硅片托，硅片托上具有装载位，装载位侧壁具有若干装载槽，硅片托具有滚托，滚托通过转动杆连接于硅片托上，滚托转动至与硅片装载装置上的硅片的上下两端相抵接，超声清洗装置和冲洗装置适于容纳硅片装载装置，超声清洗装置和冲洗装置内分别具有与滚托两端对应设置的第一驱动件和第二驱动件，硅片装载装置置于超声清洗装置或冲洗装置内时，第一驱动件或第二驱动件适于驱动滚托转动。与现有技术相比，本技术可实现硅片的半自动清洗，能够有效节约人工成本，同时还可有效控制硅片的清洗洁净程度并减少清洗过程中的硅片损坏数量。

技术研发人员：常唯淑,贾斌,豆秀丽,王奇
受保护的技术使用者：明士（北京）新材料开发有限公司
技术研发日：20230801
技术公布日：2024/3/24