本技术属于多晶硅生产领域,具体涉及一种多晶硅围板箱的围板清洗装置及围板清洗系统。
背景技术:
1、在多晶硅生产过程中,需对多晶硅块装料装入到包装袋中,再将包装装入围板箱中,此流程完成后即完成了多晶硅成品的包装工作。
2、围板箱做为日常生产中的消耗品,为降低生产成本、保护环境,所以目前围板箱为可回收再次使用物品,具体包括天盖板、地盖板、底板和围板组成。
3、为保证包装产品外观的美观性,需对回收后的围板箱进行清洗,但由于围板箱具有质量重、体积大、数量多和难清洗特点,若采用人工分别对底板、围板、天盖板和地盖板进行清洗,工作难度较大,清洗效率慢。
技术实现思路
1、鉴于现有采用人工清洗围板箱的方式存在工作难度大和清洗效率慢的问题,本实用新型的目的之一在于提供一种多晶硅围板箱的围板清洗装置及围板箱清洗系统,以降低工作人员的劳动强度,提高清洗效率。
2、为实现上述目的,本实用新型采用下列技术方案:
3、一种多晶硅围板箱的围板清洗装置,包括自动上料机、拉分机、支撑组件、第一线性导轨、清扫组件、风刀清洗组件、第一机器人吸盘和收料框。
4、其中,所述支撑组件可滑动安装在第一线性导轨上;所述自动上料机、拉分机、清扫组件、风刀清洗组件、第一机器人吸盘和收料框沿第一线性导轨的传输方向依次设置。
5、所述拉分机具有第二线性导轨,和所述第一线性导轨呈“l”型布置;下吸盘,可滑动设置在所述第二线性导轨上;上吸盘,可上下移动安装在所述下吸盘的正上方,并随所述下吸盘沿第二线性导轨同步移动。
6、所述支撑组件具有支撑座,可滑动设置在所述第一线性导轨上;旋转盘,可转动设置在所述支撑座的顶部;至少四个伸张杆,呈中心对称安装在所述旋转盘上,并能同步作相向或背向运动。
7、在本实用新型公开的其中一个技术方案中,所述清扫组件包括床身座;x向移动机构,设置在所述床身座上;z向移动机构,设置在所述x向移动机构上,并能在所述x向移动机构的作用下沿水平垂直所述第一线性导轨的方向移动;安装座,设置在所述z向移动机构上,并能在,并能在所述z向移动机构的作用下沿竖直垂直所述第一线性导轨的方向移动;两组清扫轮组,对称设置在所述安装座的两侧;且每组所述清扫轮组均由两个水平间隔设置的清扫轮构成,从而对所述围板的内外两侧进行清扫。
8、在本实用新型公开的其中一个技术方案中,所述风刀清洗组件包括床身座;x向移动机构,设置在所述床身座上;z向移动机构,设置在所述x向移动机构上,并能在所述x向移动机构的作用下沿水平垂直所述第一线性导轨的方向移动;安装座,设置在所述z向移动机构上,并能在,并能在所述z向移动机构的作用下沿竖直垂直所述第一线性导轨的方向移动;两组风刀机构,对称设置在所述安装座的两侧;且每组所述风刀机构均由两组水平间隔设置的风刀组构成,从而对所述围板的内外两侧进行清洗。
9、本实用新型还公开了一种多晶硅围板箱清洗系统,包括如上述任一项技术方案所述的多晶硅围板箱的围板清洗装置;盖板清洗装置,用于清洗所述围板箱的天盖板和地盖板;底板清洗装置,用于清洗所述围板箱的底板。
10、在本实用新型公开的其中一个技术方案中,所述盖板清洗装置包括自动提升机、第二机器人吸盘、第一输送机、第一清洗组件、角度翻转装置和第一码垛机。
11、其中,所述自动提升机、第二机器人吸盘、第一清洗组件、角度翻转装置和第一码垛机沿所述第一输送机的输送方向依次设置。所述角度翻转装置能旋转一定角度至所述第一码垛机的输送线上。
12、在本实用新型公开的其中一个技术方案中,所述第一输送机具有两条输送通道。
13、在本实用新型公开的其中一个技术方案中,所述第一清洗组件包括依次设置的预洗室、主洗室和风刀室。
14、在本实用新型公开的其中一个技术方案中,所述预洗室、主洗室和风刀室的下方均设置有集水槽。
15、在本实用新型公开的其中一个技术方案中,所述预洗室下方的集水槽的进水口设有过滤网。
16、在本实用新型公开的其中一个技术方案中,所述底板清洗装置包括自动送料机、第二输送机、第二清洗组件和第二码垛机。
17、其中,所述自动送料机、第二清洗组件和第二码垛机沿所述第二输送机的输送方向依次设置;所述第二清洗组件包括依次设置的滚扫室和风刀清洗室。
18、通过以上说明可知,本实用新型的有益效果是:
19、通过自动化清洗流程实现围板箱的各部分的清洗,从而有利于提高清洗效率,降低工作人员的劳动强度和生产成本。
1.一种多晶硅围板箱的围板清洗装置,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的多晶硅围板箱的围板清洗装置,其特征在于,所述清扫组件包括:
3.根据权利要求1所述的围板清洗装置,其特征在于,所述风刀清洗组件包括:
4.一种多晶硅围板箱清洗系统,其特征在于,包括:
5.根据权利要求4所述的多晶硅围板箱清洗系统,其特征在于,所述盖板清洗装置包括:
6.根据权利要求5所述的多晶硅围板箱清洗系统,其特征在于,所述第一输送机具有两条输送通道。
7.根据权利要求5所述的多晶硅围板箱清洗系统,其特征在于,所述第一清洗组件包括依次设置的预洗室、主洗室和风刀室。
8.根据权利要求7所述的多晶硅围板箱清洗系统,其特征在于,所述预洗室、主洗室和风刀室的下方均设置有集水槽。
9.根据权利要求8所述多晶硅围板箱清洗系统,其特征在于,所述预洗室下方的集水槽的进水口设有过滤网。
10.根据权利要求4所述的多晶硅围板箱清洗系统,其特征在于,所述底板清洗装置包括: