涂胶前轨道风刀的制作方法

文档序号:37198135发布日期:2024-03-05 11:51阅读:12来源:国知局
涂胶前轨道风刀的制作方法

本技术涉及涂胶加工,具体为涂胶前轨道风刀。


背景技术:

1、目前,捲带封装设备常被应用于对电子元器件产品的涂胶封装,在实际使用过程中,电子元器件产品在捲带封装设备中的轨道上依次逐级前进,涂胶封装后被收集、打包。

2、然而,在使用现场中,捲带封装设备中的涂胶机台的涂胶前区上的电子元器件产品在运转的过程中,环境中的灰尘颗粒等杂志会落在电子元器件产品上,如果不加清洁,则会极大的影响电子元器件产品的最终产品品质,与此同时,捲带封装设备的使用环境不够洁净,是灰尘颗粒落在电子元器件产品上的根源。

3、为此,提出涂胶前轨道风刀,用于清洁电子元器件产品上的灰尘颗粒和保持捲带封装设备使用环境的洁净。


技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供涂胶前轨道风刀,以解决上述背景技术中提出的电子元器件产品在涂胶封装前被环境中灰尘颗粒污染而导致的产品品质下降的问题。

2、为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:涂胶前轨道风刀,安装于轨道的两侧,包括吸风盒体和吹风盒体,所述吸风盒体的侧壁开设有吸风窄口,所述吸风盒体上设置有风腔,所述吹风盒体的侧壁开设有吹风窄口,所述吹风盒体上设置有连接风管,所述吸风盒体的内部设置有清灰机构,用于清洁吸风盒体通过吸风窄口吸入的灰尘颗粒。

3、优选地,所述吸风盒体和吹风盒体形成一组轨道风刀,安装在轨道的两侧,所述轨道的两侧安装有若干组轨道风刀,且位于轨道同一侧的吸风盒体间隔有吹风盒体设置。

4、优选的,所述清灰机构包括设置在吸风盒体上的清洁腔,所述清洁腔内放置有屉滤网,所述屉滤网朝向吸风窄口的一侧开口。

5、优选的,所述风腔内设置有滤芯,所述屉滤网的顶部盖有遮板。

6、优选的,所述吹风窄口和连接风管联通,所述吸风盒体和吹风盒体上均设置有固定槽口。

7、与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:

8、1、通过吸风盒体、吹风盒体、吸风窄口等的设置和共同协作,利用了吸风盒体吹风和吹风盒体吸风,成功实现了将位于吸风盒体和吹风盒体之间的产品上的灰尘颗粒进行清洁,同时收集了灰尘,保障了轨道所在的涂胶台设备的洁净,极大提高了位于轨道上的产品的洁净度,进而使得涂胶后的产品品质得到显著提升。

9、2、通过若干组轨道风刀的设置,利用了轨道同一侧的吸风盒体间隔设置,成功实现了对产品两侧的灰尘颗粒进行清洁,极大提高了产品的清洁效率,且结构设置简洁、高效,适合推广使用。

10、3、通过清洁腔和屉滤网的设置和共同协作,利用了屉滤网可过滤掉进入清洁腔的灰尘颗粒,从而实现了对灰尘颗粒的滞留与收集,保持涂胶台设备清洁的同时,还便于一次性清洁灰尘颗粒,使得清洁本装置更加简便,结构设置简洁,便于操作。



技术特征:

1.涂胶前轨道风刀,安装于轨道(1)的两侧,其特征在于:包括吸风盒体(2)和吹风盒体(3),所述吸风盒体(2)的侧壁开设有吸风窄口(201),所述吸风盒体(2)上设置有风腔(204),所述吹风盒体(3)的侧壁开设有吹风窄口(301),所述吹风盒体(3)上设置有连接风管(302),所述吸风盒体(2)的内部设置有清灰机构,用于清洁吸风盒体(2)通过吸风窄口(201)吸入的灰尘颗粒。

2.根据权利要求1所述的涂胶前轨道风刀,其特征在于:所述吸风盒体(2)和吹风盒体(3)形成一组轨道风刀,安装在轨道(1)的两侧,所述轨道(1)的两侧安装有若干组轨道风刀,且位于轨道(1)同一侧的吸风盒体(2)间隔有吹风盒体(3)设置。

3.根据权利要求1所述的涂胶前轨道风刀,其特征在于:所述清灰机构包括设置在吸风盒体(2)上的清洁腔(202),所述清洁腔(202)内放置有屉滤网(203),所述屉滤网(203)朝向吸风窄口(201)的一侧开口。

4.根据权利要求3所述的涂胶前轨道风刀,其特征在于:所述风腔(204)内设置有滤芯,所述屉滤网(203)的顶部盖有遮板(205)。

5.根据权利要求1所述的涂胶前轨道风刀,其特征在于:所述吹风窄口(301)和连接风管(302)联通,所述吸风盒体(2)和吹风盒体(3)上均设置有固定槽口(4)。


技术总结
本技术公开了涂胶前轨道风刀,安装于轨道的两侧,包括吸风盒体和吹风盒体,吸风盒体的侧壁开设有吸风窄口,吸风盒体上设置有风腔,吹风盒体的侧壁开设有吹风窄口,吹风盒体上设置有连接风管,吸风盒体的内部设置有清灰机构,用于清洁吸风盒体通过吸风窄口吸入的灰尘颗粒,吸风盒体和吹风盒体形成一组轨道风刀,安装在轨道的两侧,本申请通过吸风盒体、吹风盒体、吸风窄口等的设置和共同协作,利用了吸风盒体吹风和吹风盒体吸风,成功实现了将位于吸风盒体和吹风盒体之间的产品上的灰尘颗粒进行清洁,同时收集了灰尘,保障了轨道所在的涂胶台设备的洁净,极大提高了位于轨道上的产品的洁净度,进而使得涂胶后的产品品质得到显著提升。

技术研发人员:刘涛,谢平,吴世茂,邱川益
受保护的技术使用者:合肥新汇成微电子股份有限公司
技术研发日:20230803
技术公布日:2024/3/4
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