配备有泡沫去除单元的scc的制作方法
【专利摘要】本发明提供一种配备有泡沫去除单元的SCC（旋转锥体柱），其包括：具有旋转轴的外壳；形成在外壳内的至少一种反应物的供应部；至少两个旋转锥体，安装为从上部到下部相对于所述旋转轴具有恒定的斜度、使通过所述反应物供应部供应的反应物移动、并围绕所述旋转轴旋转；固定锥体，固定并形成于外壳的内侧，并且提供路径以使反应物依序从上部的旋转锥体移动到下部的旋转锥体；产物收集部，用于收集通过旋转锥体和固定锥体移动的反应物；以及驱动部，用于使旋转锥体旋转，其中，在外壳的一侧安装有泡沫去除单元。根据本发明的SCC解决了分离需去除材料时产生泡沫从而降低去除效率和降低产物稳定性的问题，并且可以改善去除效率和产物稳定性，因为安装了用于将所产生的泡沫去除的泡沫去除单元。
【专利说明】配备有泡沬去除单元的SCC
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种配备有泡沫去除单元的旋转锥体柱(spinning cone column,SCC)，更具体地讲，涉及一种配备有泡沫去除单元的SCC，该泡沫去除单元用于去除SCC中产生的泡沫。
【背景技术】
[0002]一般地说，为了通过化学反应获取产物，需要有反应设备。作为反应设备，一般使用间歇式反应器，其中，先将原料添加到一个反应器中，然后通过搅拌等来进行反应。但是，在这种方法中，对于要求快速的物料转移速度的反应来说，不能实现充分的反应，因而会产生大量的非原料产物，而如果使用催化剂的话，就需要催化剂分离工艺，因而，由于反应器容量很大，会增加成本。
[0003]因此，韩国注册专利N0.961，765提出一种高速转盘反应器(spinning discreactor)，但是它的问题在于原材料在盘上的停留时间较短，因为转盘是水平布置的，因此，优选使用了旋转锥体柱(SCC)，也就是所谓的“锥体”，SCC通过多级安装的倾斜转盘而改善了原材料的停留时间。
[0004]同时，SCC可以应用于气液接触分离工艺。在SCC用于气液接触分离工艺的情况中，在要通过接触去除的材料的去除过程中会产生泡沫，从而降低反应物的稳定性并降低产率，因此需要去除泡沫。
【发明内容】
[0005]技术问题
[0006]本发明的目的在于提供一种配备有泡沫去除单元的SCC，其具有改善的去除效率和操作性。
[0007]技术方案
[0008]本发明提供一种SCC (旋转锥体柱)，其包括:具有旋转轴的外壳；形成在所述外壳内的至少一种反应物的供应部；至少两个旋转锥体，该至少两个旋转锥体安装为从上部到下部相对于所述旋转轴具有恒定的斜度、使通过所述反应物供应部供应的反应物移动、并围绕所述旋转轴旋转；固定锥体，该固定锥体固定并形成于所述外壳的内侧，并且提供路径以使反应物依序从上部的旋转锥体移动到下部的旋转锥体；产物收集部，用于收集通过所述旋转锥体和所述固定锥体移动的反应物；以及驱动部，用于使所述旋转锥体旋转，其中，在所述外壳的一侧安装有泡沫去除单元。
[0009]其中，围绕所述旋转轴从上部到下部可以布置有2至40个旋转锥体。
[0010]并且，所述SCC可以用于聚合反应和醚化反应。
[0011]其中，所述聚合反应可以选自由液相聚合反应、气相聚合反应和自由基聚合反应组成的组。
[0012]并且，所述旋转锥体的表面可以涂布有催化剂层、弓丨发剂或其混合物。[0013]并且，所述旋转锥体可以围绕同一旋转轴以一定旋转速度旋转，其中，根据以下公式I的G变为I至100倍:
【权利要求】
1.一种配备有泡沫去除单元的SCC (旋转锥体柱),包括: 具有旋转轴的外壳； 形成在所述外壳内的至少一种反应物的供应部； 至少两个旋转锥体，该至少两个旋转锥体安装为从上部到下部相对于所述旋转轴具有恒定的斜度、使通过所述反应物供应部供应的反应物移动、并围绕所述旋转轴旋转； 固定锥体，该固定锥体固定并形成于所述外壳的内侧，并且提供路径以使反应物依序从上部的旋转锥体移动到下部的旋转锥体； 产物收集部，用于收集通过所述旋转锥体和所述固定锥体移动的反应物；以及 驱动部，用于使所述旋转锥体旋转， 其中，在所述外壳的一侧安装有泡沫去除单元。
2.根据权利要求1所述的SCC，其中，围绕所述旋转轴从上部到下部布置有2至40个旋转锥体。
3.根据权利要求1所述的SCC，其中，该SCC用于聚合反应和醚化反应。
4.根据权利要求1所述的SCC，其中，所述旋转锥体的表面涂布有催化剂层、引发剂或其混合物。
5.根据权利要求1所述的SCC，其中，所述旋转锥体围绕同一旋转轴以一定旋转速度旋转，其中，根据以下公式I的G变为I至100倍: [公式I]`
9.8 其中，G为重力加速度的倍数，r为锥体的半径(m)，RPM为转速(次/分钟)。
6.根据权利要求1所述的SCC，其中，所述旋转锥体在内部配备有加热器以及温度控制>j-U ρ?α装直。
7.根据权利要求1所述的SCC，其中，该SCC在所述外壳的外壁或内壁上配备有用于促进反应的加热器和温度控制装置。
8.根据权利要求1所述的SCC，进一步包括气体供应部以及余气排放部。
9.根据权利要求1所述的SCC，其中，所述泡沫去除单元去除在所述SCC中产生的泡沫。
10.根据权利要求1所述的SCC，其中，所述泡沫去除单元进一步包括真空部。
11.根据权利要求1所述的SCC，其中，所述泡沫去除单元通过至少一个收集管与所述外壳的内部相连接。
12.根据权利要求11所述的SCC，其中，每一收集管与一对所述旋转锥体和所述固定锥体所组成的每一级的流路相连接。
13.根据权利要求11所述的SCC，其中，所述收集管在所述固定锥体的下部与所述外壳的内部相连接。
14.根据权利要求1所述的SCC，其中，所述反应物为包含挥发性单体的聚合物。
15.根据权利要求1至14中任一项所述的SCC，其中，所述SCC用于去除聚合物中未反应的单体。
16.一种聚合物中的未反应单体的去除方法，使用根据权利要求1至14中任一项所述 的 SCC。
【文档编号】B01J19/18GK103561858SQ201280025800
【公开日】2014年2月5日 申请日期:2012年5月25日 优先权日:2011年5月27日
【发明者】周垠廷, 李东权, 申大荣, 李钟求 申请人:Lg化学株式会社