基材加热烘干装置的制作方法

文档序号:30513511发布日期:2022-06-25 02:34阅读:44来源:国知局
基材加热烘干装置的制作方法

1.本实用新型涉及基材生产技术领域,尤其涉及一种基材加热烘干装置。


背景技术:

2.在基材200的生产过程中,胶液涂布载体层201之后需要进行热烘,以通过加热的方式除去胶液中各种溶剂,以及使胶层交联固化。然而,当胶液中含有高沸点溶剂时,采用现有的热风式烘箱对涂布的胶液进行热烘时,存在以下问题:如图1所示,涂布的胶液中的高沸点溶剂受热后会排出,但其表面会迅速凝结一层结膜层203,阻碍了胶层202内部溶剂和小分子的进一步排出,而且载体层201的结构致密(载体层201为树脂薄膜或金属薄膜,或者是表面有涂布树脂层的树脂薄膜或金属薄膜),也不利于溶剂的排除。因此,在现有的热风式烘箱结构中,无论是提升温度和降低车速都无法将掩埋在胶层202内部的溶剂完全挥发,胶层202内部仍然残留有溶剂,而胶层202内残留的溶剂会降低基材的耐热性。


技术实现要素:

3.本实用新型的目的在于提供一种使胶层内的溶剂充分挥发出来的基材加热烘干装置。
4.为实现上述目的,本实用新型提供了一种基材加热烘干装置,包括箱体、第一风嘴、第二风嘴、热辐射装置及反射板,所述箱体内具有一热烘空间,所述箱体的左侧设有与所述热烘空间连通的入口,所述箱体的右侧设有与所述热烘空间连通的出口,若干个所述第一风嘴沿左右方向呈间隔地设置于所述热烘空间内,若干个所述第二风嘴沿左右方向呈间隔地设置于所述热烘空间内并位于所述第一风嘴的下方,所述第一风嘴与所述第二风嘴之间形成供基材通过的气托浮动式通道,所述热辐射装置设置于所述热烘空间内并位于所述气托浮动式通道的下方,所述反射板设置于所述热烘空间内并位于所述气托浮动式通道的上方。
5.较佳地,所述第一风嘴和所述第二风嘴呈上下错开分布。
6.较佳地,两所述第二风嘴之间均设有所述热辐射装置。
7.较佳地,两所述第一风嘴之间均设有反射板。
8.较佳地,所述热辐射装置为红外辐射灯或太阳灯。
9.较佳地,所述基材加热烘干装置还包括放卷机构和收卷机构,所述基材可从所述放卷机构经所述入口进入所述气托浮动式通道、再从所述出口绕设于所述收卷机构上。
10.较佳地,所述基材加热烘干装置还包括涂胶机构,所述涂胶机构设置于所述箱体的左侧并紧靠所述入口,所述基材从所述放卷机构经过所述涂胶机构再进入所述入口。
11.较佳地,所述基材加热烘干装置还包括热油辐射板,若干个所述热油辐射板沿左右方向呈间隔地设置于所述第一风嘴与所述反射板之间的空隙处或所述第二风嘴与所述热辐射装置之间的空隙处。
12.与现有技术相比,本实用新型的基材加热烘干装置通过在气托浮动式通道的下方
设置热辐射装置,利用热辐射装置加热基材的下表面,在气托浮动式通道的上方设置反射板,将热辐射装置的热辐射反射回来,从而加强热辐射的穿透力,使得基材的胶层内的溶剂充分挥发出来,并减少基材表皮快干成膜;且热辐射装置仅设置于气托浮动式通道的下方,若热辐射装置发生爆炸,其爆炸碎片也不会散落到基材上,从而可防止因热辐射装置爆炸而导致爆炸碎片损伤基材。
附图说明
13.图1是对基材中的载体层上的胶层进行热风式烘干后的结构图。
14.图2是本实用新型的基材加热烘干装置的结构图。
具体实施方式
15.为了详细说明本实用新型的技术内容、构造特征,以下结合实施方式并配合附图作进一步说明。
16.请参阅图2,本实用新型的基材加热烘干装置100包括箱体1、第一风嘴2、第二风嘴3、热辐射装置4及反射板5,箱体1内具有一热烘空间11,箱体1的左侧设有与热烘空间11连通的入口12,箱体1的右侧设有与热烘空间11连通的出口13,若干个第一风嘴2沿左右方向呈间隔地设置于热烘空间11内,若干个第二风嘴3沿左右方向呈间隔地设置于热烘空间11内并位于第一风嘴2的下方,第一风嘴2与第二风嘴3之间形成供基材通过的气托浮动式通道14,热辐射装置4设置于热烘空间11内并位于气托浮动式通道14的下方,反射板5设置于热烘空间11内并位于气托浮动式通道14的上方。通过第一风嘴2和第二风嘴3往中间位置吹风,使得第一风嘴2和第二风嘴3之间形成的气托浮动式通道14可托住基材,可避免基材下垂刮到热辐射装置4或第二风嘴3。
17.请继续参阅图2,在本实施例中,第一风嘴2和第二风嘴3呈上下错开分布,但不以此为限,举例而言,第一风嘴2和第二风嘴3也可正对设置。具体地,两第二风嘴3之间均设有热辐射装置4,两第一风嘴2之间均设有反射板5。其中,热辐射装置4可采用红外辐射灯或太阳灯,但不以此为限。
18.再请参阅图2,本实用新型的基材加热烘干装置100还包括放卷机构6和收卷机构7,基材载体层201可从放卷机构6经入口12进入气托浮动式通道14、再从出口13绕设于收卷机构7上。其中,放卷机构6和收卷机构7为现有技术,故在此不赘述。进一步地,本实用新型的基材加热烘干装置100还包括涂胶机构8,涂胶机构8设置于箱体1的左侧并紧靠入口12,基材载体层201从放卷机构6经过涂胶机构8再进入入口12。通过将涂胶机构8设置紧靠箱体1的入口12的位置处,使得基材在涂胶机构8完成涂胶后可快速通过入口12进入箱体1的热烘空间11,一来可避免胶液中的溶剂因自然挥发带来其他表观缺陷,二来可利用热辐射装置4和反射板5快速对涂胶后的基材进行辐射加热,可更加充分地将基材的胶层内的溶剂充分挥发出来。涂胶机构8为现有技术,故在此不赘述。进一步地,本实用新型的基材加热烘干装置100还包括热油辐射板(图未示),若干个热油辐射板沿左右方向呈间隔地设置于第一风嘴2与反射板5之间的空隙处或第二风嘴3与热辐射装置4之间的空隙处,通过设置热油辐射板可以补充箱体1中的热量,在箱体1中形成梯度加热的效果,从而更有利于使得基材的胶层内的溶剂充分挥发出来。热油辐射板为现有技术,故在此不赘述。
19.综上,本实用新型的基材加热烘干装置100通过在气托浮动式通道14的下方设置热辐射装置4,利用热辐射装置4加热基材的下表面,在气托浮动式通道14的上方设置反射板5,将热辐射装置4的热辐射反射回来,从而加强热辐射的穿透力,使得基材的胶层内的溶剂充分挥发出来,并减少基材表皮快干成膜;且热辐射装置4仅设置于气托浮动式通道14的下方,若热辐射装置4发生爆炸,其爆炸碎片也不会散落到基材上,从而可防止因热辐射装置4爆炸而导致爆炸碎片损伤基材。
20.以上所揭露的仅为本实用新型的较佳实例而已,不能以此来限定本实用新型之权利范围,因此依本实用新型权利要求所作的等同变化,均属于本实用新型所涵盖的范围。


技术特征:
1.一种基材加热烘干装置,其特征在于,包括箱体、第一风嘴、第二风嘴、热辐射装置及反射板,所述箱体内具有一热烘空间,所述箱体的左侧设有与所述热烘空间连通的入口,所述箱体的右侧设有与所述热烘空间连通的出口,若干个所述第一风嘴沿左右方向呈间隔地设置于所述热烘空间内,若干个所述第二风嘴沿左右方向呈间隔地设置于所述热烘空间内并位于所述第一风嘴的下方,所述第一风嘴与所述第二风嘴之间形成供基材通过的气托浮动式通道,所述热辐射装置设置于所述热烘空间内并位于所述气托浮动式通道的下方,所述反射板设置于所述热烘空间内并位于所述气托浮动式通道的上方。2.根据权利要求1所述的基材加热烘干装置,其特征在于,所述第一风嘴和所述第二风嘴呈上下错开分布。3.根据权利要求1所述的基材加热烘干装置,其特征在于,两所述第二风嘴之间均设有所述热辐射装置。4.根据权利要求1所述的基材加热烘干装置,其特征在于,两所述第一风嘴之间均设有反射板。5.根据权利要求1所述的基材加热烘干装置,其特征在于,所述热辐射装置为红外辐射灯或太阳灯。6.根据权利要求1所述的基材加热烘干装置,其特征在于,还包括放卷机构和收卷机构,所述基材可从所述放卷机构经所述入口进入所述气托浮动式通道、再从所述出口绕设于所述收卷机构上。7.根据权利要求6所述的基材加热烘干装置,其特征在于,还包括涂胶机构,所述涂胶机构设置于所述箱体的左侧并紧靠所述入口,所述基材从所述放卷机构经过所述涂胶机构再进入所述入口。8.根据权利要求1所述的基材加热烘干装置,其特征在于,还包括热油辐射板,若干个所述热油辐射板沿左右方向呈间隔地设置于所述第一风嘴与所述反射板之间的空隙处或所述第二风嘴与所述热辐射装置之间的空隙处。

技术总结
本实用新型提供了一种基材加热烘干装置,包括箱体、第一风嘴、第二风嘴、热辐射装置及反射板,箱体内具有一热烘空间,箱体的左侧设有与热烘空间连通的入口,箱体的右侧设有与热烘空间连通的出口,若干个第一风嘴沿左右方向呈间隔地设置于热烘空间内,若干个第二风嘴沿左右方向呈间隔地设置于热烘空间内并位于第一风嘴的下方,第一风嘴与第二风嘴之间形成供基材通过的气托浮动式通道,热辐射装置设置于热烘空间内并位于气托浮动式通道的下方,反射板设置于热烘空间内并位于气托浮动式通道的上方。本实用新型可使得基材的胶层内的溶剂充分挥发出来,并减少基材表皮快干成膜,并可防止因热辐射装置爆炸而导致爆炸碎片损伤基材。因热辐射装置爆炸而导致爆炸碎片损伤基材。因热辐射装置爆炸而导致爆炸碎片损伤基材。


技术研发人员:刘淼涛 伍宏奎 付志强
受保护的技术使用者:广东生益科技股份有限公司
技术研发日:2021.12.29
技术公布日:2022/6/24
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