表面处理剂、亲水化无机基材及其制造方法与流程

本发明涉及表面处理剂、亲水化无机基材及其制造方法。

背景技术：

1、以往，对便器、洗面台等设置在涉水空间的陶器类等进行各种表面处理以易于洗涤表面的污垢。

2、例如，专利文献1和2中教导：对含有无机化合物的表面层用硅烷偶联剂进行处理后，赋予亲水性化合物。

3、现有技术文献

4、专利文献

5、专利文献1：日本特开2016-20461号公报；

6、专利文献2：日本特开2016-20462号公报。

技术实现思路

1、发明所要解决的课题

2、近年来，随着清洁意向的提高，对陶器类要求进一步提高防污性。

3、本发明解决上述课题，其目的在于提供表面处理剂，该表面处理剂例如可对陶器类等的无机基材同时赋予良好且具耐久性的亲水性和优异的防污性。

4、用于解决课题的手段

5、为了解决上述课题，本发明提供下述方案。

6、表面处理剂，其是赋予给无机基材的表面处理剂，

7、上述表面处理剂包含亲水化处理剂和预处理剂，

8、上述预处理剂包含：

9、具有反应性甲硅烷基和有机官能团的硅烷化合物；以及

10、多官能单体，

11、上述多官能单体具有：

12、1个以上的与上述有机官能团反应的第1反应性基团；以及

13、1个以上的与上述亲水化处理剂反应的第2反应性基团。

14、上述[1]所述的表面处理剂，其中，上述多官能单体的掺混量为上述预处理剂的固体成分的1质量％以上且99质量％以下。

15、上述[1]或[2]所述的表面处理剂，其中，上述第1反应性基团为选自丙烯酰胺基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、烯丙基、乙烯基、苯乙烯基和巯基的至少1种。

16、上述[1]～[3]中任一项所述的表面处理剂，其中，上述第2反应性基团为选自丙烯酰胺基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、烯丙基、乙烯基、苯乙烯基和巯基的至少1种。

17、上述[1]～[4]中任一项所述的表面处理剂，其中，上述亲水化处理剂包含亲水性化合物，

18、上述亲水性化合物具有磺酸基和磺酸基的碱金属盐的至少1种。

19、上述[1]～[4]中任一项所述的表面处理剂，其中，

20、上述亲水化处理剂包含亲水性化合物，

21、上述亲水性化合物具有季铵基。

22、亲水化无机基材，其是被依次赋予了预处理剂和亲水化处理剂的亲水化无机基材，

23、上述预处理剂包含具有反应性甲硅烷基和有机官能团的硅烷化合物、和多官能单体，

24、上述多官能单体具有1个以上的与上述有机官能团反应的第1反应性基团和1个以上的与上述亲水化处理剂反应的第2反应性基团，

25、该亲水化无机基材具备：

26、无机基材；

27、上述硅烷化合物，其经由上述反应性甲硅烷基被固定于上述无机基材；

28、上述多官能单体，其通过上述有机官能团与上述第1反应性基团的反应被固定于上述硅烷化合物；以及

29、上述亲水化处理剂，其通过上述第2反应性基团与上述亲水化处理剂的反应被固定于上述多官能单体。

30、亲水化无机基材的制造方法，其具备以下工序：

31、对无机基材的表面赋予预处理剂的工序；

32、对赋予了上述预处理剂的上述无机基材的表面赋予亲水化处理剂的工序；以及

33、将上述亲水化处理剂固定于上述预处理剂的工序，

34、上述预处理剂包含具有反应性甲硅烷基和有机官能团的硅烷化合物、和多官能单体，

35、上述多官能单体具有1个以上的与上述有机官能团反应的第1反应性基团和1个以上的与上述亲水化处理剂反应的第2反应性基团，

36、在上述固定工序中，上述第1反应性基团与上述有机官能团反应，上述亲水化处理剂与上述第2反应性基团反应。

37、发明效果

38、根据本发明，可提供表面处理剂，该表面处理剂可对无机基材同时赋予良好且具耐久性的亲水性和优异的防污性。

技术特征：

1.表面处理剂，其是包含预处理剂和亲水化处理剂并依次赋予给无机基材的表面处理剂，

2.权利要求1所述的表面处理剂，其中，上述多官能单体的掺混量为上述预处理剂的固体成分的1质量％以上且99质量％以下。

3.权利要求1或2所述的表面处理剂，其中，上述第1反应性基团为选自丙烯酰胺基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、烯丙基、乙烯基、苯乙烯基和巯基的至少1种。

4.权利要求1～3中任一项所述的表面处理剂，其中，上述第2反应性基团为选自丙烯酰胺基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、烯丙基、乙烯基、苯乙烯基和巯基的至少1种。

5.权利要求1～4中任一项所述的表面处理剂，其中，上述亲水化处理剂包含亲水性化合物，

6.权利要求1～4中任一项所述的表面处理剂，其中，

7.亲水化无机基材，其是被依次赋予了预处理剂和亲水化处理剂的亲水化无机基材，

8.亲水化无机基材的制造方法，其具备以下工序：

技术总结
本发明提供表面处理剂，该表面处理剂可对无机基材同时赋予良好且具耐久性的亲水性和优异的防污性。一种表面处理剂，其是包含预处理剂和亲水化处理剂并依次赋予给无机基材的表面处理剂，上述预处理剂包含具有反应性甲硅烷基和有机官能团的硅烷化合物、和多官能单体，上述多官能单体具有1个以上的与上述有机官能团反应的第1反应性基团和1个以上的与上述亲水化处理剂反应的第2反应性基团。

技术研发人员：奥村承士,中岛佑介,吉冈一辉,中濑敬仁,佐藤有亮,竹本优吾,前岛希代江
受保护的技术使用者：骊住株式会社
技术研发日：
技术公布日：2024/1/16