一种光学镀膜工艺的制作方法

1.本发明涉及光学镀膜技术领域，具体为一种光学镀膜工艺。


背景技术：

2.光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层或多层薄膜的工艺过程，其中薄膜的材料可为金属或其余介质，在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求，常用的镀膜法有真空镀膜和化学镀膜。
3.现有的光学镀膜往往只能完成单面且颜色单调的镀膜，从而影响到镀膜涂漆的质量及速度，无法呈现更美观的状态，故在此提出一种光学镀膜工艺。


技术实现要素：

4.为了克服现有技术方案的不足，本发明提供一种光学镀膜工艺，能有效的解决背景技术提出的问题。
5.本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：
6.一种光学镀膜工艺，包括以下步骤：
7.s1.喷涂底涂剂：对基材的外表面喷涂上底涂剂；
8.s2.喷涂第一底漆：在底涂剂上喷涂第一层底漆，第一层底漆选用白色底漆；
9.s3.喷涂uv底漆：在第一层底漆上喷涂无色的uv底漆；
10.s4.光学镀膜：利用光学镀膜在uv底漆的上层镀上带有颜色的膜层，在光学镀膜的过程中，利用夹持机构控制基材进行自转；
11.s5.喷涂处理剂：在镀膜上喷涂处理剂；
12.s6.喷涂uv面漆：在基材的最外层上喷涂无色的uv面漆。
13.进一步的，所述步骤s1及s5中，底涂剂及处理剂均为能够改善油漆或胶水与基材之间附着力的附着力处理剂；
14.进一步的，所述步骤s4中，光学镀膜具体为真空溅射方式；
15.进一步的，所述步骤s3及s6中均要对uv底漆及uv面漆进行紫外线照射；
16.进一步的，所述步骤s1、s2及s5中，完成喷涂后均需要放置在烤箱内；
17.进一步的，所述步骤s2放置在烤箱的时间为30分钟。
18.与现有技术相比，本发明的有益效果是：
19.本发明的一种光学镀膜工艺，分别在光学镀膜前后进行附着力处理剂以及uv油漆的喷涂，从而能够在镀膜的外层及内层进行保护，保证了镀膜的光学色彩效果以及稳定性；在光学镀膜的过程采用独特的夹持机构控制基材进行自转，保证了基材的各个面都能在光学镀膜的过程中与靶材接触，从而提高了光学镀膜的均匀度。
附图说明
20.图1为本发明的一种光学镀膜工艺流程图。
具体实施方式
21.下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
22.下面结合图1对本发明的一种光学镀膜工艺作详细的描述：
23.一种光学镀膜工艺，包括以下步骤：
24.s1.喷涂底涂剂：对基材的外表面喷涂上底涂剂，使得随后喷涂的第一底漆能够更好的附着在基材表面，完成喷涂后均需要放置在烤箱内；
25.s2.喷涂第一底漆：在底涂剂上喷涂第一层底漆，第一层底漆选用白色底漆，选用白色底漆能够有助于呈现出光学镀膜的色彩，完成喷涂后均需要放置在烤箱内30分钟；
26.s3.喷涂uv底漆：在第一层底漆上喷涂无色的uv底漆，随后固化成膜起到保护底层底漆的作用；
27.s4.光学镀膜：利用光学镀膜具体为真空溅射的方式在uv底漆的上层镀上带有颜色的膜层，在光学镀膜的过程中，利用夹持机构控制基材进行自转，保证了基材的各个面都能在光学镀膜的过程中与靶材接触；
28.s5.喷涂处理剂：在镀膜上喷涂处理剂，使得光学镀膜得到的膜能够更好地与前后两层材料进行附着，完成喷涂后均需要放置在烤箱内；
29.s6.喷涂uv面漆：在基材的最外层上喷涂无色的uv面漆，起到保护的作用。
30.优选地，所述步骤s1及s5中，底涂剂及处理剂均为能够改善油漆或胶水与基材之间附着力的附着力处理剂；
31.优选地，所述步骤s3及s6中均要对uv底漆及uv面漆进行紫外线照射，在紫外线的照射下，uv底漆及uv面漆能够在几秒钟内迅速固化成透明的保护膜。
32.综上所述，本发明的一种光学镀膜工艺，分别在光学镀膜前后进行附着力处理剂以及uv油漆的喷涂，从而能够在镀膜的外层及内层进行保护，保证了镀膜的光学色彩效果以及稳定性；在光学镀膜的过程采用独特的夹持机构控制基材进行自转，保证了基材的各个面都能在光学镀膜的过程中与靶材接触，从而提高了光学镀膜的均匀度。
33.对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。


技术特征：
1.一种光学镀膜工艺，其特征在于,包括以下步骤：s1.喷涂底涂剂：对基材的外表面喷涂上底涂剂；s2.喷涂第一底漆：在底涂剂上喷涂第一层底漆，第一层底漆选用白色底漆；s3.喷涂uv底漆：在第一层底漆上喷涂无色的uv底漆；s4.光学镀膜：利用光学镀膜在uv底漆的上层镀上带有颜色的膜层，在光学镀膜的过程中，利用夹持机构控制基材进行自转；s5.喷涂处理剂：在镀膜上喷涂处理剂；s6.喷涂uv面漆：在基材的最外层上喷涂无色的uv面漆。2.根据权利要求1所述的一种光学镀膜工艺，其特征在于：所述步骤s1及s5中，底涂剂及处理剂均为能够改善油漆或胶水与基材之间附着力的附着力处理剂。3.根据权利要求1所述的一种光学镀膜工艺，其特征在于：所述步骤s4中，光学镀膜具体为真空溅射方式。4.根据权利要求1所述的一种光学镀膜工艺，其特征在于：所述步骤s3及s6中均要对uv底漆及uv面漆进行紫外线照射。5.根据权利要求1所述的一种光学镀膜工艺，其特征在于：所述步骤s1、s2及s5中，完成喷涂后均需要放置在烤箱内。6.根据权利要求5所述的一种光学镀膜工艺，其特征在于：所述步骤s2放置在烤箱的时间为30分钟。

技术总结
本发明公开了一种光学镀膜工艺，包括以下步骤：S1.喷涂底涂剂：对基材的外表面喷涂上底涂剂；S2.喷涂第一底漆：在底涂剂上喷涂第一层底漆，第一层底漆选用白色底漆；S3.喷涂UV底漆：在第一层底漆上喷涂无色的UV底漆；S4.光学镀膜：利用光学镀膜在UV底漆的上层镀上带有颜色的膜层，在光学镀膜的过程中，利用夹持机构控制基材进行自转；分别在光学镀膜前后进行附着力处理剂以及UV油漆的喷涂，从而能够在镀膜的外层及内层进行保护，保证了镀膜的光学色彩效果以及稳定性；在光学镀膜的过程采用独特的夹持机构控制基材进行自转，保证了基材的各个面都能在光学镀膜的过程中与靶材接触，从而提高了光学镀膜的均匀度。高了光学镀膜的均匀度。高了光学镀膜的均匀度。


技术研发人员：陈昇
受保护的技术使用者：东莞市美尚美电子科技有限公司
技术研发日：2022.03.28
技术公布日：2022/6/28