一种用于微波旋磁铁氧体材料制备用研磨装置及研磨方法与流程

文档序号:33954801发布日期:2023-04-26 14:36阅读:47来源:国知局
一种用于微波旋磁铁氧体材料制备用研磨装置及研磨方法与流程

本发明涉及铁氧体制备研磨,具体为一种用于微波旋磁铁氧体材料制备用研磨装置及研磨方法。


背景技术:

1、微波铁氧体器件在微波技术中占有非常重要的地位,在航空航天、卫星通信、电子对抗以及移动通信等领域都有着非常广泛的应用,近年来,随着国防及民用无线通信技术的快速发展,小型化、宽频带和多功能的发展趋势在各种通信电子产品中体现得越来越明显。这就对其中采用的各种微波铁氧体器件小型化和集成度提出了越来越高的要求。

2、公开号为cn111841770a的中国专利,公开了一种用于微波旋磁铁氧体材料制备的球磨装置,包括一具有容置空间的动力仓,所述动力仓内设置一可调速的驱动电机,所述动力仓一侧对接有一具有容置空间的球磨仓,由于采用了合理配比球墨罐中钢球、铁氧体原材料、去离子水的比例,合理设定球磨工艺的转速和时间,采用正反转球磨,从而缩短球磨时间,该专利虽然对微波旋磁铁氧体材料制备的工艺以及球磨效率进行了改进,但是针对现有的研磨装置,对经过研磨的粉末容易吸附固定在研磨头或者研磨球上不易脱离,存在物料不易取出,且影响持续研磨的现象,并且不能对研磨的微波旋磁铁氧体材料进行分级研磨,从而导致成品材料中会混杂大量的颗粒和未完全研磨的材料,进而影响磁体的制作进度。


技术实现思路

1、(一)解决的技术问题

2、针对现有技术的不足,本发明提供了一种用于微波旋磁铁氧体材料制备用研磨装置及研磨方法,解决了传统的研磨装置不具备清理研磨头表面的结块以及研磨效率低不能进行分级研磨的问题。

3、(二)技术方案

4、为实现以上目的,本发明通过以下技术方案予以实现:一种用于微波旋磁铁氧体材料制备用研磨装置,包括支架,所述支架的内侧固定安装有粉碎筒,所述粉碎筒的顶部固定安装有进料斗,所述粉碎筒的顶部固定安装有电机架,所述电机架的顶部固定安装有研磨电机,所述研磨电机的输出端固定安装有驱动轴,所述进料斗的顶部开设有进料口;

5、所述粉碎筒的中部开设有内腔,所述内腔的内壁设置有粉碎组件,所述粉碎组件主要将直径较大的磁铁氧体材料进行初步粉碎,所述内腔的内壁固定安装有研磨组件,所述研磨组件主要用来对粉碎的磁铁氧体材料进行初步研磨,所述驱动轴的底部设置有精磨组件,所述精磨组件主要对初步研磨的氧体材料进行进一步的粉碎。

6、进一步地,所述粉碎组件包括粉碎内筒、粉碎腔、漏孔,所述粉碎内筒固定安装在内腔的内侧壁,所述粉碎腔开设在粉碎内筒的中部,所述漏孔开设在粉碎腔的内底壁。

7、进一步地,所述粉碎组件还包括粉碎刀一、粉碎刀二、粉碎锥,所述粉碎刀一活动安装在驱动轴的外侧,所述粉碎刀二固定安装在驱动轴的外侧,所述粉碎锥固定安装在粉碎锥的外侧.

8、进一步地,所述研磨组件包括研磨圈、研磨石圈、复位弹簧,所述研磨圈固定安装在内腔的内侧壁,所述研磨石圈固定安装在研磨圈的内侧壁,所述研磨圈的内侧壁开设有伸缩槽,所述复位弹簧固定安装在伸缩槽内壁。

9、进一步地,所述研磨组件还包括清理刷片、磁块一、研磨斜锥,所述清理刷片活动安装在伸缩槽的内壁,所述磁块一固定安装在清理刷片的中部,所述研磨斜锥套接在研磨圈的内侧。

10、进一步地,所述研磨组件还包括研磨凸起、磁块二,所述研磨凸起固定安装在研磨斜锥的外侧,所述研磨斜锥的内侧壁开设有插槽,所述磁块二插接在插槽内壁。

11、进一步地,所述精磨组件包括滤斗、滤孔、研磨锥,所述滤斗固定安装在驱动轴的底部,所述滤孔开设在滤斗的外侧表面,所述研磨锥固定安装在滤斗的底部。

12、进一步地,所述研磨石圈的形状呈圆环形且研磨石圈的外侧表面设有研磨砂层。所述研磨石圈的数量为三组分布于研磨圈的内侧,所述研磨圈的形状为圆台形。

13、进一步地,所述研磨斜锥外侧的研磨凸起数量为若干组且沿着研磨斜锥的斜面均匀分布,其中研磨凸起的形状为球形且表面设置有研磨砂层。

14、一种用于微波旋磁铁氧体材料制备用研磨装置的研磨方法,包括以下步骤:

15、s1:以bi2o3、y2o3、gd2o3、caco3、v2o5、zro2和fe2o3为初始原料,进行一定的配比,然后将配比后的混合原料放入搅拌机中进行搅拌混合;

16、s2:在s1的基础上,将混合后的原料放入煅烧炉中进行烧结,随炉冷却到室温得到预烧料;

17、s3:在s2的基础上,将烧结后的混合原料预烧料放入粉碎机进初步粉碎;

18、s4:在s3的基础上,将初步粉碎的微波旋磁铁氧体材料原料通过进料斗顶部的进料口进行投放,来对原料进行多级研磨,得到研磨粉粒。

19、(三)有益效果

20、本发明具有以下有益效果:

21、1、该用于微波旋磁铁氧体材料制备用研磨装置,通过驱动轴带动运动,使研磨斜锥沿着研磨圈的内侧壁转动,由于研磨斜锥外侧的研磨凸起会与研磨石圈的内侧紧密接触,进而来对落入研磨圈内侧的磁铁氧体材料进行研磨,其中由于研磨斜锥做圆周运动,进而会带动磁块二转动,由于研磨圈和清理刷片处于静置状态,此时当研磨斜锥转动至与磁块一平行的时候会对磁块一进行吸引,进而带动清理刷片向研磨斜锥和研磨凸起的外侧与运动,来对结块的磁铁氧体材料进行刮除清理,从而达到清理研磨头上结块的磁铁氧体材料。

22、2、该用于微波旋磁铁氧体材料制备用研磨装置,通过设置粉碎刀一主要用来对块状的磁铁氧体材料进行撞击粉碎,其中粉碎刀一在驱动轴的带动下转动快速转动,利用粉碎刀一的撞击力来将材料击碎,其中粉碎刀二主要起到辅助撞击粉碎的效果,其中粉碎锥在粉碎刀二的带动下对磁铁氧体材料进行横向撞击击碎,通过对磁铁氧体材料进行初级粉碎,进而来提高整体的研磨效率。

23、当然,实施本发明的任一产品并不一定需要同时达到以上所述的所有优点。



技术特征:

1.一种用于微波旋磁铁氧体材料制备用研磨装置,包括支架(1),其特征在于:所述支架(1)的内侧固定安装有粉碎筒(2),所述粉碎筒(2)的顶部固定安装有进料斗(3),所述粉碎筒(2)的顶部固定安装有电机架(4),所述电机架(4)的顶部固定安装有研磨电机(5),所述研磨电机(5)的输出端固定安装有驱动轴(8),所述进料斗(3)的顶部开设有进料口(6);

2.根据权利要求1所述的一种用于微波旋磁铁氧体材料制备用研磨装置,其特征在于:所述粉碎组件包括粉碎内筒(7)、粉碎腔(17)、漏孔(19),所述粉碎内筒(7)固定安装在内腔(14)的内侧壁,所述粉碎腔(17)开设在粉碎内筒(7)的中部,所述漏孔(19)开设在粉碎腔(17)的内底壁。

3.根据权利要求1所述的一种用于微波旋磁铁氧体材料制备用研磨装置,其特征在于:所述粉碎组件还包括粉碎刀一(18)、粉碎刀二(20)、粉碎锥(21),所述粉碎刀一(18)活动安装在驱动轴(8)的外侧,所述粉碎刀二(20)固定安装在驱动轴(8)的外侧,所述粉碎锥(21)固定安装在粉碎锥(21)的外侧。

4.根据权利要求1所述的一种用于微波旋磁铁氧体材料制备用研磨装置,其特征在于:所述研磨组件包括研磨圈(9)、研磨石圈(13)、复位弹簧(22),所述研磨圈(9)固定安装在内腔(14)的内侧壁,所述研磨石圈(13)固定安装在研磨圈(9)的内侧壁,所述研磨圈(9)的内侧壁开设有伸缩槽,所述复位弹簧(22)固定安装在伸缩槽内壁。

5.根据权利要求4所述的一种用于微波旋磁铁氧体材料制备用研磨装置,其特征在于:所述研磨组件还包括清理刷片(23)、磁块一(24)、研磨斜锥(10),所述清理刷片(23)活动安装在伸缩槽的内壁,所述磁块一(24)固定安装在清理刷片(23)的中部,所述研磨斜锥(10)套接在研磨圈(9)的内侧。

6.根据权利要求5所述的一种用于微波旋磁铁氧体材料制备用研磨装置,其特征在于:所述研磨组件还包括研磨凸起(15)、磁块二(25),所述研磨凸起(15)固定安装在研磨斜锥(10)的外侧,所述研磨斜锥(10)的内侧壁开设有插槽,所述磁块二(25)插接在插槽内壁。

7.根据权利要求1所述的一种用于微波旋磁铁氧体材料制备用研磨装置,其特征在于:所述精磨组件包括滤斗(11)、滤孔(16)、研磨锥(12),所述滤斗(11)固定安装在驱动轴(8)的底部,所述滤孔(16)开设在滤斗(11)的外侧表面,所述研磨锥(12)固定安装在滤斗(11)的底部。

8.根据权利要求4所述的一种用于微波旋磁铁氧体材料制备用研磨装置,其特征在于:所述研磨石圈(13)的形状呈圆环形且研磨石圈(13)的外侧表面设有研磨砂层,所述研磨石圈(13)的数量为三组分布于研磨圈(9)的内侧,所述研磨圈(9)的形状为圆台形。

9.根据权利要求5所述的一种用于微波旋磁铁氧体材料制备用研磨装置,其特征在于:所述研磨斜锥(10)外侧的研磨凸起(15)数量为若干组且沿着研磨斜锥(10)的斜面均匀分布,其中研磨凸起(15)的形状为球形且表面设置有研磨砂层。

10.一种用于微波旋磁铁氧体材料制备用研磨装置的研磨方法,其特征在于,包括以下步骤:


技术总结
本发明公开了一种用于微波旋磁铁氧体材料制备用研磨装置及研磨方法,涉及铁氧体制备研磨技术领域。该用于微波旋磁铁氧体材料制备用研磨装置,包括支架,所述支架的内侧固定安装有粉碎筒,所述粉碎筒的顶部固定安装有进料斗,所述粉碎筒的顶部固定安装有电机架。该用于微波旋磁铁氧体材料制备用研磨装置,通过驱动轴带动运动,使研磨斜锥沿着研磨圈的内侧壁转动,研磨斜锥外侧的研磨凸起会与研磨石圈的内侧紧密接触,由于研磨圈和清理刷片处于静置状态,当研磨斜锥转动至与磁块一平行的时候会对磁块一进行吸引,带动清理刷片向研磨斜锥和研磨凸起的外侧与运动,来对结块的磁铁氧体材料进行刮除清理,从而达到清理研磨头上结块的磁铁氧体材料。

技术研发人员:钟进科,黄云霞,龚则明
受保护的技术使用者:南京彼奥电子科技有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/1/11
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