本技术涉及冷却装置,特别涉及一种用于加热催化分解设备的水冷顶盖。
背景技术:
1、电气工业中有时候会用到很多氟化物,如三氟化氮nf3、四氟化碳cf4、六氟化硫sf6等,在微电子行业它们都可以用作电子蚀刻剂。然而它们都属于温室气体,因此在排放前需要收集起来做去氟处理。为了完成以上处理,本公司开发了一种加热催化分解设备,它具有同轴设置的顶盖、加热管和外壳,顶盖处有进气口和出气口,加热管中间用来给含氟气体预热,加热管与外壳之间有热催化剂。含氟气体从进气口进气,向下通过加热管时升温,热气从加热管下部流出,然后再向上穿过热催化剂进行分解,最后从出气口排出。因为这个处理过程必须用到加热,所以设备内部很热,顶盖同样也会因热而变形,严重会导致气体泄漏;且流出设备的气体初始温度也很高,更容易导致烫伤。
2、因此有必要改进顶盖结构,使气体得到冷却并降低顶盖温度。
技术实现思路
1、本实用新型的主要目的在于提供一种用于加热催化分解设备的水冷顶盖,能够利用水冷结构帮助降低顶盖的表面温度,又对离开设备的气体进行了预冷,充分利用了顶盖的空间,提高了处理的安全性。
2、本实用新型通过如下技术方案实现上述目的:一种用于加热催化分解设备的水冷顶盖,包括盘形的本体,所述本体的中部设有进气管口,所述本体的偏心位置设有出气管口,所述本体内设有环绕所述进气管口和所述出气管口的走水腔,所述走水腔包括环绕所述出气管口的上出口的进水管,所述进水管上设有进水口,所述本体的上表面还设有一个连通所述走水腔的出水管。
3、具体的,所述进水管与所述出水管位于穿过所述本体轴线的同一直径的两侧。
4、具体的,所述本体包括与所述进气管口同轴焊接的上部和下部,所述上部和所述下部均被所述进气管口穿过,所述进水管与所述出水管均设于所述上部的上表面。
5、进一步的,所述上部的底面设有圆槽,所述下部的外径大于所述圆槽的内径,所述进气管口的外壁、所述下部的上表面及所述圆槽围成所述走水腔。
6、进一步的,所述上部的上表面上设有一对对称设于所述进气管口两侧的把手。
7、进一步的,所述上部的边缘具有用来与加热催化分解设备的外壳固定的法兰边。
8、具体的,所述本体上还设有用来安装测温装置的安装孔,所述安装孔穿透所述本体的上下表面。
9、本实用新型技术方案的有益效果是:
10、本实用新型通过在顶盖内设置水冷结构,既降低了顶盖的外表面温度,又对离开设备的气体做了预冷,充分利用了顶盖的空间,提高了处理的安全性。
1.一种用于加热催化分解设备的水冷顶盖,其特征在于:包括盘形的本体,所述本体的中部设有进气管口,所述本体的偏心位置设有出气管口,所述本体内设有环绕所述进气管口和所述出气管口的走水腔,所述走水腔包括环绕所述出气管口的上出口的进水管,所述进水管上设有进水口,所述本体的上表面还设有一个连通所述走水腔的出水管。
2.根据权利要求1所述的用于加热催化分解设备的水冷顶盖,其特征在于:所述进水管与所述出水管位于穿过所述本体轴线的同一直径的两侧。
3.根据权利要求1所述的用于加热催化分解设备的水冷顶盖,其特征在于:所述本体包括与所述进气管口同轴焊接的上部和下部,所述上部和所述下部均被所述进气管口穿过,所述进水管与所述出水管均设于所述上部的上表面。
4.根据权利要求3所述的用于加热催化分解设备的水冷顶盖,其特征在于:所述上部的底面设有圆槽,所述下部的外径大于所述圆槽的内径,所述进气管口的外壁、所述下部的上表面及所述圆槽围成所述走水腔。
5.根据权利要求3所述的用于加热催化分解设备的水冷顶盖,其特征在于:所述上部的边缘具有用来与加热催化分解设备的外壳固定的法兰边。
6.根据权利要求3所述的用于加热催化分解设备的水冷顶盖,其特征在于:所述上部的上表面上设有一对对称设于所述进气管口两侧的把手。
7.根据权利要求1所述的用于加热催化分解设备的水冷顶盖,其特征在于:所述本体上还设有用来安装测温装置的安装孔,所述安装孔穿透所述本体的上下表面。