一种用于沉淀反应的水浴锅置的制作方法

本技术涉及化工领域，具体涉及一种用于沉淀反应的水浴锅置。

背景技术：

1、目前市面上的水浴锅虽然可以起到加热的功能，但是不够简便，操作过程较为繁琐，在加热完成后，必须取出加热液体才可进行下一次的加热，浪费大量时间，如一种改良结构水浴锅(cn201510046125.2)该发明提供了一种改良结构水浴锅，属于水浴锅技术领域。该改良结构水浴锅，水浴锅包括内部为空腔的该体，该体上端具有与其内腔相通的定位孔，该体内具有加热件，该体外侧还具有用于控制加热件的控制面板，该定位机构设置与定位孔的外端口处，它包括呈环形的固定环一和固定环二，该体上靠近于定位孔处具有铰接处，固定环一边沿铰接在铰接处且固定环一搭接在定位孔的外端口处，固定环二边沿铰接在铰接处且固定环二搭接在固定环一的侧部，固定环一外径大于定位孔内径，固定环一内径小于定位孔内径，固定环二外径大于固定环二内径，固定环二内径小于固定环一内径。该发明将固定环一和固定环二边沿被铰接在铰接处，通过对其限制来提高器皿的稳定性，该产品虽然可以对液体进行加热，但在加热完成后需要取出被加热液体，才能进行下一个液体的加热，浪费了大量时间。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于针对现有技术的缺陷和不足，提供一种用于沉淀反应的水浴锅置，它包括壳体，壳体内部设置有容器，容器内设置有过滤装置；

2、所述壳体包括壳体底板，壳体底板上设置有加热板，加热板上方设置有隔板，隔板安装在壳体环形侧壁中，壳体环形侧壁上设置有侧壁开口，侧壁开口与废液导流管连通，壳体环形侧壁内侧设置有用于加注水的壳体空腔，壳体顶部设置有顶板；

3、所述容器包括容器底板，容器底板上设置有容器底板凹槽，底板中开有一个与底板同心的容器底板开口，容器底板开口与废液导流管连通；

4、所述过滤装置包括纱网，纱网下方设置有一个挡板，纱网设置在连杆底部，连杆顶部设置有握手。

5、进一步的，所述容器底板凹槽外底边处设置有容器底板滑轨，挡板底部设置有可与容器底板滑轨卡接的环形凸块。

6、进一步的，所述顶板上设置有注水口。

7、进一步的，所述握手为比热容大于850j/(kg℃)的材质构成。

8、采用上述结构后，本实用新型有益效果为：本实用新型所述的一种用于沉淀反应的水浴锅置，它采用在容器下方设置一个废液导流管，在完成使用后可以直接将废液放出，大大减少了更换液体所需要的时间，提高了效率。

技术特征：

1.一种用于沉淀反应的水浴锅置，它包括壳体，壳体内部设置有容器，容器内设置有过滤装置；

2.根据权利要求1所述的一种用于沉淀反应的水浴锅置，其特征在于：所述容器底板凹槽(2011)外底边处设置有容器底板滑轨(2012)，挡板(203)底部设置有可与容器底板滑轨(2012)卡接的环形凸块(2031)。

3.根据权利要求1所述的一种用于沉淀反应的水浴锅置，其特征在于：所述顶板(107)上设置有注水口(1071)。

4.根据权利要求1所述的一种用于沉淀反应的水浴锅置，其特征在于：所述握手(206)为比热容大于850j/(kg℃)的材质构成。

技术总结
本技术涉及化工领域，具体涉及一种用于沉淀反应的水浴锅置，它包括壳体，壳体内部设置有容器，容器内设置有过滤装置；所述壳体包括壳体底板，壳体底板上设置有加热板，加热板上方设置有隔板，隔板安装在壳体环形侧壁中，壳体环形侧壁上设置有侧壁开口，侧壁开口与废液导流管连通，壳体环形侧壁内侧设置有用于加注水的壳体空腔，壳体顶部设置有顶板；所述容器包括容器底板，容器底板上设置有容器底板凹槽，底板中开有一个与底板同心的容器底板开口，容器底板开口与废液导流管连通；它采用在容器下方设置一个废液导流管，在完成使用后可以直接将废液放出，大大减少了更换液体所需要的时间，提高了效率。

技术研发人员：王利祥,刘轻,谢雨玲,王文忠,徐姜炎
受保护的技术使用者：浙江赛特膜技术有限公司
技术研发日：20221206
技术公布日：2024/1/13