制程废弃物处理再利用系统、制程废弃物处理再利用的方法、以及光学膜材的制造方法与流程

本揭露是有关于一种制程废弃物处理再利用系统、一种制程废弃物处理再利用的方法、一种光学膜材的制造方法、一种储能系统、以及一种制程系统。

背景技术：

1、在光学膜材的制程中，常需要将光学膜材浸泡于各种浴槽中以进行各种制程，例如染色制程及交联制程等。然而，上述制程需要使用大量含碘及碘化钾溶液，需要定期进行制程液体的更换并且直接将制程废液丢弃，这导致生产成本大幅增高。

技术实现思路

1、在一些实施例中，本揭露提供一种制程废弃物处理再利用系统，其包含电解装置。电解装置包含电解槽、正极电极与负极电极。电解槽填充有电解液。正极电极与负极电极浸设于电解液中，其中正极电极用以将具有杂质的吸附剂容置于正极电极中。电解装置用以进行电解反应将杂质自吸附剂脱附，以回收吸附剂。

2、在一些实施例中，本揭露提供一种制程废弃物处理再利用的方法，其包含：将具有杂质的吸附剂从制程废弃物中分离；将正极电极与负极电极浸设于电解槽的电解液中，其中正极电极用以将具有杂质的吸附剂容置于正极电极中；以及进行电解反应将杂质自吸附剂脱附，以回收吸附剂。

3、在一些实施例中，本揭露提供一种光学膜材的制造方法，其包含：提供制程设备，其包含输送系统及至少一制程浴槽；使光学膜材藉由输送系统沿着输送方向经过前述至少一制程浴槽；以及以前述方法处理再利用前述至少一制程浴槽中的至少一制程废弃物。

4、在一些实施例中，本揭露提供一种储能系统，其包含至少一电池模块。电池模块包含至少一电解装置，电解装置包含电解液及浸设于电解液中的正极电极与负极电极。正极电极包含具有杂质的吸附剂，且电池模块具有充电模式及至少一放电模式。

5、在一些实施例中，本揭露提供一种储能系统，其包含至少一电池模块。电池模块包含至少一电解装置，电解装置包含电解液及浸设于电解液中的正极电极与负极电极。电解液包含来自制程设备的制程液体，且电池模块具有充电模式及至少一放电模式。

6、在一些实施例中，本揭露提供一种制程系统，其包含制程设备以及储能系统。制程设备包含输送系统及至少一制程浴槽。储能系统包含至少一电池模块，电池模块具有充电模式及至少一放电模式，且电池模块包含至少一电解装置，用以回收再处理来自制程设备的制程废弃物。

技术特征：

1.一种制程废弃物处理再利用系统，其包括：

2.根据权利要求1所述的制程废弃物处理再利用系统，其中所述正极电极包括导电载体及可拆式导电罩层包覆所述导电载体，且具有所述杂质的所述吸附剂封置于所述导电载体与所述可拆式导电罩层之间。

3.根据权利要求2所述的制程废弃物处理再利用系统，其中所述正极电极进一步包括导电黏着剂，用以将具有所述杂质的所述吸附剂黏附至所述导电载体上。

4.根据权利要求1所述的制程废弃物处理再利用系统，其中所述杂质以离子态自所述吸附剂脱附，且所述电解液用以溶解所述离子态的所述杂质。

5.根据权利要求1所述的制程废弃物处理再利用系统，更包括电透析装置，用以纯化所述制程废弃物以得到所述电解液。

6.根据权利要求1所述的制程废弃物处理再利用系统，更包括电透析装置，用以纯化进行所述电解反应后的所述电解液，以回收所述电解液。

7.根据权利要求6所述的制程废弃物处理再利用系统，其中所述电解液更包括光学调整剂，所述制程液体包括具有离子态的所述杂质，且所述电透析装置用以分离所述制程液体与所述光学调整剂。

8.根据权利要求1所述的制程废弃物处理再利用系统，更包括废弃物分离机构，用以将具有所述杂质的所述吸附剂及所述制程液体从所述制程废弃物中分离。

9.根据权利要求1所述的制程废弃物处理再利用系统，其中所述吸附剂包括活性碳材料，及/或所述杂质包括活性物质碘，及/或所述电解液包括所述活性物质碘及硫酸锌。

10.一种制程废弃物处理再利用的方法，包括：

11.根据权利要求10所述的方法，更包括形成所述正极电极，其包括将具有所述杂质的所述吸附剂封置于导电载体及可拆式导电罩层之间。

12.根据权利要求11所述的方法，其中形成所述正极电极进一步包括将具有所述杂质的所述吸附剂藉由导电黏着剂黏附至所述导电载体上。

13.根据权利要求12所述的方法，其中具有所述杂质的所述吸附剂占所述正极电极的总重量约30～70wt％或表面积约30～70％。

14.根据权利要求12所述的方法，其中所述导电载体及所述可拆式导电罩层各自包括乙炔黑、炭黑、科琴黑、奈米碳管、石墨烯、碳纤维、碳布、或上述的组合，及/或所述导电黏着剂包括含碳双面胶带、含碳胶层、或上述的组合。

15.根据权利要求10所述的方法，进一步包括：

16.根据权利要求15所述的方法，进一步包括：

17.根据权利要求10所述的方法，其中所述电解液包括从所述制程废弃物中分离的所述制程液体，所述方法进一步包括：

18.一种光学膜材的制造方法，包括：

19.根据权利要求18所述的方法，其中所述至少一制程浴槽选自由染色槽、交联槽及洗净槽所组成的群组。

技术总结
本揭露提供一种制程废弃物处理再利用系统、一种制程废弃物处理再利用的方法、一种光学膜材的制造方法、一种储能系统、以及一种制程系统。制程废弃物处理再利用系统包含电解装置。电解装置包含电解槽、正极电极与负极电极。电解槽填充有电解液。正极电极与负极电极浸设于电解液中，其中正极电极用以将具有杂质的吸附剂容置于正极电极中。电解装置用以进行电解反应将杂质自吸附剂脱附，以回收吸附剂。电解液包括制程废弃物的制程液体，且吸附剂的杂质来自制程废弃物。

技术研发人员：黄呈加,陈志添,许盛翔,薛各良,陈彦年,周承毅
受保护的技术使用者：住华科技股份有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/13