液处理装置的制作方法

本公开涉及一种液处理装置。

背景技术：

1、专利文献1公开有一种在基板上涂布涂布液的液处理装置。该液处理装置具备：基板保持部，其保持基板并使之旋转；涂布液供给部，其向被该基板保持部保持的基板涂布涂布液；杯部，其以能够包围被基板保持部保持的基板的方式配置于基板保持部的外侧；排气路径，其设于基板保持部与杯部的内周面之间；涂布液收集部，其在排气路径的上方以覆盖该排气路径的方式设置，并且具有在上下方向上连通的开口部；溶剂供给部，其向涂布液收集部供给涂布液的溶剂；以及中继部，其位于涂布液收集部的上方，自杯部的内周面朝向涂布液收集部突出。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1：日本特开2019-145561号公报

技术实现思路

1、发明要解决的问题

2、本公开的技术抑制由基板的旋转涂布处理时产生的异物导致的排气路径的堵塞。

3、用于解决问题的方案

4、本公开的一技术方案为一种液处理装置，其在基板上涂布涂布液，其中，该液处理装置具备：基板保持部，其保持所述基板并使之旋转；涂布液供给部，其向被该基板保持部保持的所述基板涂布所述涂布液；以及杯，其包围被所述基板保持部保持的所述基板，所述杯具有：外杯部，其配置于所述基板保持部的外侧；内杯部，其配置于所述外杯部的内周侧且是所述基板保持部的下方，具有向下方延伸的壁体；排气路径，其设于所述外杯部与所述内杯部之间；筒状壁部，其设于所述内杯部的下方，具有与所述排气路径连通的向上开口的排气口；以及涂布液收集部，其在所述内杯部的所述壁体的下方，在与该壁体的下端之间空开间隙地配置，该液处理装置具备溶剂供给部，该溶剂供给部向所述涂布液收集部供给所述涂布液的溶剂，所述涂布液收集部固定于所述筒状壁部。

5、发明的效果

6、根据本公开，能够抑制由基板的旋转涂布处理时产生的异物导致的排气路径的堵塞。

技术特征：

1.一种液处理装置，其在基板上涂布涂布液，其中，

2.根据权利要求1所述的液处理装置，其中，

3.根据权利要求2所述的液处理装置，其中，

4.根据权利要求3所述的液处理装置，其中，

5.根据权利要求1～3中任一项所述的液处理装置，其中，

6.根据权利要求1～3中任一项所述的液处理装置，其中，

技术总结
本发明涉及液处理装置。抑制由基板的旋转涂布处理时产生的异物导致的排气路径的堵塞。一种在基板上涂布涂布液的液处理装置，其具备：基板保持部，其保持基板并使之旋转；涂布液供给部，其向被保持的基板涂布涂布液；和杯，其包围被保持的基板，杯具有：外杯部，其配置于基板保持部的外侧；内杯部，其配置于外杯部的内周侧且是基板保持部的下方，具有向下延伸的壁体；排气路径，其设于外杯部与内杯部之间；筒状壁部，其设于内杯部之下，具有与排气路径连通的向上开口的排气口；和涂布液收集部，其在内杯部的壁体之下在与壁体的下端之间空开间隙地配置，该装置具备向涂布液收集部供给涂布液的溶剂的溶剂供给部，涂布液收集部固定于筒状壁部。

技术研发人员：金正显,牟田行志,高桥大树,川上浩平,新村聪,柴崎健太,上山昇太,宫本哲嗣
受保护的技术使用者：东京毅力科创株式会社
技术研发日：
技术公布日：2024/1/15