一种自适应温差的化工反应釜的制作方法

文档序号:35403001发布日期:2023-09-09 18:41阅读:22来源:国知局
一种自适应温差的化工反应釜的制作方法

本发明涉及化工反应,具体为一种自适应温差的化工反应釜。


背景技术:

1、如公开号为cn215464389u的一种化工反应釜,其设置的支撑板上端右部安装有第二控制箱,第二控制箱内部安装有第二转动电机杆;本实用新型中,通过第一转动电机转动,带动转轴转动,转轴带动第二搅拌叶片转动,对物料进行混合作业,第一搅拌叶片在固定环上进行活动,使物料混合均匀,降低了作业的时间;

2、又如公开号为cn206008717u的一种化工反应釜,所述排气管上设有排气风机和排气电磁阀;所述进气管上设有进气电磁阀;所述控制器电联控制所述传感器、电机、电热丝、排气风机、排气电磁阀和进气电磁阀。本实用新型能够实时、精准的根据工艺需要进行反应温度变化控制;

3、上述现有的化工反应釜还存在一定的局限性,就比如:

4、上述现有的化工反应釜大多通过电器结构实现温度的控制调整,但是首先其需要使用者的人工观察操作,还需要进行实时人工巡检等,其无法根据反应釜内部因物料数量或反应程度的温度变化,自适应的进行温差的控制,从而根据温差的改变对设备的反应效率进行自调整,进而存在一定的使用局限性。

5、针对上述问题,急需在原有反应釜结构的基础上进行创新设计。


技术实现思路

1、本发明的目的在于提供一种自适应温差的化工反应釜,以解决上述背景技术中提出的大多通过电器结构实现温度的控制调整,但是首先其需要使用者的人工观察操作,还需要进行实时人工巡检等,其无法根据反应釜内部因物料数量或反应程度的温度变化,自适应的进行温差的控制,从而根据温差的改变对设备的反应效率进行自调整的问题。

2、为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种自适应温差的化工反应釜,包括反应釜本体、预留盖体、驱动电机和供给管道,所述反应釜本体的上端安装有预留盖体,且预留盖体的上端安装有驱动电机,且预留盖体的外侧开设有供给管道;

3、其特征在于:所述驱动电机的输出端固定连接有输出对接轴,且输出对接轴的内侧开设有预留滑槽,并且输出对接轴的内侧通过预留滑槽对接有支撑连接杆,所述支撑连接杆的上端固定连接有第一磁铁块,且第一磁铁块的上端固定连接有复位弹簧,并且复位弹簧与预留滑槽的内侧相互对接,所述支撑连接杆的外侧嵌套安装有连接轴件,且连接轴件的上端固定连接有抵触对接盘,所述连接轴件的外侧固定连接有传动齿组件;

4、所述预留盖体的内侧粘接连接有预留气囊组件,且预留气囊组件的分别粘接连接有第一对接件和第二对接件,并且第一对接件与抵触对接盘的下端相互接触;

5、所述供给管道的内端贯穿安装有扭力弹簧轴,所述预留盖体的内侧贯穿安装有活动轴,且活动轴的外侧固定连接有预留齿轮,并且预留齿轮与传动齿组件的外侧相互啮合。

6、进一步的,所述输出对接轴与支撑连接杆之间相互嵌套,且支撑连接杆俯视呈异性结构,让支撑连接杆下移的过程中,可始终通过输出对接轴的带动进行旋转工作。

7、进一步的,所述第一磁铁块设置有第一对接拉绳和第二磁铁块,且第一磁铁块的上端对接有第一对接拉绳,并且第一对接拉绳沿着输出对接轴的内侧延伸,同时第一对接拉绳的末端对接有第二磁铁块,并且第二磁铁块与输出对接轴的内侧相互对接。

8、进一步的,所述第一磁铁块受力下移的过程中,将通过第一对接拉绳带动第二磁铁块向上活动,进而随着第一磁铁块的下移让第二磁铁块与其相互接触的面积逐渐增大,增加其活动时的负压力,进而相对应的进一步降速。

9、进一步的,所述预留气囊组件受热时将膨胀,进而推动外侧的第一对接件和第二对接件向下活动,使得第一对接件接触到抵触对接盘推动其下移,让第一对接件受力下移的过程中,可稳定的带动抵触对接盘与连接轴件同步下移。

10、进一步的,所述传动齿组件设置有第一传动齿、第二传动齿和第三传动齿,且传动齿组件由第一传动齿、第二传动齿和第三传动齿组成,其从上至下依次安装在连接轴件的外侧。

11、进一步的,所述第一传动齿的齿圈数小于第二传动齿的齿圈数,并且第二传动齿的齿圈数小于第三传动齿的齿圈数,并且第一传动齿、第二传动齿和第三传动齿均与预留齿轮相互啮合,通过不同齿圈数的第一传动齿、第二传动齿和第三传动齿,可保证其活动过程中的不同转速要求。

12、进一步的,所述扭力弹簧轴设置有密封件和第二对接拉绳,且扭力弹簧轴的外侧对接有密封件,并且密封件的内端固定连接有第二对接拉绳,同时第二对接拉绳沿着预留盖体的内部延伸,并且第二对接拉绳的末端与第二对接件的上端相互对接。

13、进一步的,所述密封件通过扭力弹簧轴轴端的弹性结构沿着供给管道的内端形成转动状态,且密封件通过第二对接拉绳与第二对接件的形成牵引结构,第二对接件下移的过程中,可稳定的通过第二对接拉绳带动密封件向下翻转工作。

14、与现有技术相比,本发明的有益效果是:

15、1.该自适应温差的化工反应釜,设置有变速结构,反应釜本体内部的温度过高时,将通过预留气囊组件的膨胀力推动3个传动齿自动的下移,进而使其不同齿圈数的对应传动齿与活动轴啮合实现变速操作,无需通过电器结构实现温度的控制调整,更不用人工的观察操作和实时人工巡检等,根据反应釜内部因物料数量或反应程度的温度变化,自适应的进行温差的控制,从而根据温差的改变对设备的反应效率进行自调整;

16、2.该自适应温差的化工反应釜,设置有调速结构,在支撑连接杆通过预留气囊组件的膨胀力下移的过程中,与其上端通过第一对接拉绳对接的第二磁铁块将随之活动,进而随着第一磁铁块的下移让第二磁铁块与其相互接触的面积逐渐增大,增加其活动时的相斥负压力,进而相对应的进一步对输出对接轴的整体转速进行降速处理,提高其反应效率;

17、3.该自适应温差的化工反应釜,设置有缓和结构,在预留气囊组件膨胀推动第二对接件下移的过程中,与其外侧对接的第二对接拉绳将随之受力下移,进而带动末端的密封件向下翻转,实现对供给管道的自适应角度的开合,从而实现自动向反应釜本体内部进行物料添加或冷却液的补充工作,提高了装置的实用性。



技术特征:

1.一种自适应温差的化工反应釜,包括反应釜本体(1)、预留盖体(2)、驱动电机(3)和供给管道(4),所述反应釜本体(1)的上端安装有预留盖体(2),且预留盖体(2)的上端安装有驱动电机(3),且预留盖体(2)的外侧开设有供给管道(4);

2.根据权利要求1所述的一种自适应温差的化工反应釜,其特征在于:所述输出对接轴(5)与支撑连接杆(6)之间相互嵌套,且支撑连接杆(6)俯视呈异性结构。

3.根据权利要求1所述的一种自适应温差的化工反应釜,其特征在于:所述第一磁铁块(7)设置有第一对接拉绳(701)和第二磁铁块(702),且第一磁铁块(7)的上端对接有第一对接拉绳(701),并且第一对接拉绳(701)沿着输出对接轴(5)的内侧延伸,同时第一对接拉绳(701)的末端对接有第二磁铁块(702),并且第二磁铁块(702)与输出对接轴(5)的内侧相互对接。

4.根据权利要求3所述的一种自适应温差的化工反应釜,其特征在于:所述第一磁铁块(7)受力下移的过程中,将通过第一对接拉绳(701)带动第二磁铁块(702)向上活动,进而随着第一磁铁块(7)的下移让第二磁铁块(702)与其相互接触的面积逐渐增大,增加其活动时的负压力,进而相对应的进一步降速。

5.根据权利要求1所述的一种自适应温差的化工反应釜,其特征在于:所述预留气囊组件(13)受热时将膨胀,进而推动外侧的第一对接件(14)和第二对接件(15)向下活动,使得第一对接件(14)接触到抵触对接盘(11)推动其下移。

6.根据权利要求1所述的一种自适应温差的化工反应釜,其特征在于:所述传动齿组件(12)设置有第一传动齿(1201)、第二传动齿(1202)和第三传动齿(1203),且传动齿组件(12)由第一传动齿(1201)、第二传动齿(1202)和第三传动齿(1203)组成,其从上至下依次安装在连接轴件(10)的外侧。

7.根据权利要求6所述的一种自适应温差的化工反应釜,其特征在于:所述第一传动齿(1201)的齿圈数小于第二传动齿(1202)的齿圈数,并且第二传动齿(1202)的齿圈数小于第三传动齿(1203)的齿圈数,并且第一传动齿(1201)、第二传动齿(1202)和第三传动齿(1203)均与预留齿轮(18)相互啮合。

8.根据权利要求1所述的一种自适应温差的化工反应釜,其特征在于:所述扭力弹簧轴(16)设置有密封件(1601)和第二对接拉绳(1602),且扭力弹簧轴(16)的外侧对接有密封件(1601),并且密封件(1601)的内端固定连接有第二对接拉绳(1602),同时第二对接拉绳(1602)沿着预留盖体(2)的内部延伸,并且第二对接拉绳(1602)的末端与第二对接件(15)的上端相互对接。

9.根据权利要求8所述的一种自适应温差的化工反应釜,其特征在于:所述密封件(1601)通过扭力弹簧轴(16)轴端的弹性结构沿着供给管道(4)的内端形成转动状态,且密封件(1601)通过第二对接拉绳(1602)与第二对接件(15)的形成牵引结构。


技术总结
本发明公开了一种自适应温差的化工反应釜,包括反应釜本体、预留盖体和供给管道,所述反应釜本体的上端安装有预留盖体,且预留盖体的上端安装有驱动电机,且预留盖体的外侧开设有供给管道;所述驱动电机的输出端固定连接有输出对接轴。该自适应温差的化工反应釜,设置有变速结构,反应釜本体内部的温度过高时,将通过预留气囊组件的膨胀力推动3个传动齿自动的下移,进而使其不同齿圈数的对应传动齿与活动轴啮合实现变速操作,无需通过电器结构实现温度的控制调整,更不用人工的观察操作和实时人工巡检等,根据反应釜内部因物料数量或反应程度的温度变化,自适应的进行温差的控制,从而根据温差的改变对设备的反应效率进行自调整。

技术研发人员:陶跃进,高承先,孙浩
受保护的技术使用者:陶跃进
技术研发日:
技术公布日:2024/1/15
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