本申请涉及反应釜领域,具体而言,涉及一种压力平衡装置和反应设备。
背景技术:
1、反应釜内的反应需要置于某种气氛中进行,如通入氧气使得反应釜内为氧化性气氛,或通入氮气/稀有气体隔绝空气形成保护性气氛以防止物料被氧化,或通入其他气体实现不同的作用或参与反应等,上述的气体常称为氛围气体,反应釜内的氛围气体通常为单一的气体。
2、反应釜在运行过程中,因化学反应、搅拌扰动、温度变化以及进出料液位不平衡等问题,使得反应釜内部产生压力起伏,易破坏反应釜搅拌轴位置的水封,导致外界的空气与反应釜内的氛围气体进行混合,破坏反应釜内部的反应氛围,影响产品质量。
3、目前常通过对反应釜的压力进行实时监测,通过向反应釜内直接补偿气体或主动泄压的方式解决反应釜内压力波动的问题,即在反应釜内压力过高时释放内部气体降低压力,反应釜内压力降低时向反应釜内输送氛围气体维持压力,这种方法存在氛围气体浪费严重且控制复杂的问题。
技术实现思路
1、本申请的目的在于提供压力平衡装置和反应设备,能够对压力进行自动调节,保护反应设备,维护反应氛围,节约氛围气体,提高产品质量。
2、第一方面,本实用新型提供一种压力平衡装置包括:包括:容器,密封组件,第一管和第二管,密封组件设置于容器,与容器形成第一容纳腔,密封组件能够响应预设条件在第一位置和第二位置之间移动;第一管,用于连通第一容纳腔和外界;第二管,用于连通第二容纳腔和待平衡压力的设备;
3、其中,密封组件在第一位置时,第一管处于密封状态;密封组件在第二位置时,第一管处于非密封状态。
4、在可选的实施方式中,容器用于容纳液体,容纳液体时第一容纳腔由液体和密封组件形成;密封组件包括密封件和第三管,第三管的第一端与密封件连接,第三管的第二端与第一管的管口相对设置;
5、在第一位置,第三管的第二端与第一管形成密封连接;在第二位置,第三管的第二端与第一管形成有出气通道。
6、在可选的实施方式中,预设条件包括预设压力;压力平衡装置还包括至少一个配重块,配重块设置于密封件远离第三管的一端,配重块用于调节预设压力的数值。
7、在可选的实施方式中,配重块的数量为多个。
8、在可选的实施方式中,容器与密封组件形成第二容纳腔,密封组件位于第一容纳腔和第二容纳腔之间;压力平衡装置还包括第四管;第四管连接于所述第一管和第二容纳腔之间。
9、在可选的实施方式中,还包括第一限位件和第二限位件;第一限位件和第二限位件设置于所述容器,用于限制密封组件在第一位置和第二位置之间移动。
10、在可选的实施方式中,压力平衡装置还包括:传感器和第一控制器,传感器设置于第一限位件,用于测量密封组件与第一位置的距离;第一控制器用于与传感器和待平衡压力的设备电连接。
11、在可选的实施方式中,还包括至少一个第五管,所述第五管设置于所述容器,用于调整所述容器所容纳的所述液体的高度。
12、第二方面,本实用新型提供一种反应设备,包括:上述任一实施方式的压力平衡装置和反应釜和方应釜,反应釜,与所述第二管连通。
13、在可选的实施方式中,反应设备还包括:压力检测器,用于检测反应釜内压力值;进气阀,用于向反应釜内补充气体;第二控制器,分别与压力检测器和进气阀电连接。
14、相比于现有技术,本申请的有益效果是:
15、本申请利用容器和密封组件的配合,以及第一管、第二管的设置,实现气体的泄放和回流补偿,形成运行有效的压力平衡装置,为反应釜提供泄放压力的场所,并能为反应釜反向补偿氛围气体,对氛围气体进行回收再利用,减少氛围气体用量,降低反应成本;本申请主要通过装置结构实现压力的平衡调节,解决了现有技术反应釜压力平衡调节复杂繁琐的技术问题;另外本申请有利于维护反应釜稳定的反应氛围,提高产品质量。
1.一种压力平衡装置,其特征在于,包括:
2.如权利要求1所述的压力平衡装置,其特征在于,所述容器用于容纳液体,容纳液体时,所述第一容纳腔由所述液体与所述密封组件形成;
3.如权利要求2所述的压力平衡装置,其特征在于,所述预设条件包括预设压力;
4.如权利要求3所述的压力平衡装置,其特征在于,所述配重块的数量为多个。
5.如权利要求2所述的压力平衡装置,其特征在于,所述容器与密封组件形成第二容纳腔,所述密封组件位于所述第一容纳腔和所述第二容纳腔之间;
6.如权利要求1-5中任一项所述的压力平衡装置,其特征在于,还包括第一限位件和第二限位件;
7.如权利要求6所述的压力平衡装置,其特征在于,还包括:
8.如权利要求2-5中任一项所述的压力平衡装置,其特征在于,还包括至少一个第五管,所述第五管设置于所述容器,用于调整所述容器所容纳的所述液体的高度。
9.一种反应设备,其特征在于,包括:
10.如权利要求9所述的反应设备,其特征在于,还包括: