一种具有稳定机构的高压反应容器的制作方法

文档序号:35836349发布日期:2023-10-25 12:56阅读:16来源:国知局
一种具有稳定机构的高压反应容器的制作方法

本技术涉及高压反应器,尤其涉及一种具有稳定机构的高压反应容器。


背景技术:

1、高压反应器称为小型高压反应釜,催化反应釜,聚合反应釜,加氢反应釜,该产品适用于进行化学、化工反应时,需要同时测定温度,添加惰性气体,压力,ph值,电导,氧化还原电位的精密化学合成反应的实验。应用实例:催化,高温高压合成,动力学检测,fischer-tropsch反应,加氢反应。

2、现有的高压反应器底部结构简单,由四条柱状的支撑腿对高压反应器进行支撑固定,但是由于高压反应器体积大且运行时会产生震动,简单的底部结构是无法对其进行稳定支撑的,极易在高压运行产生震动时倾倒,从而产生人力物力消耗。


技术实现思路

1、针对现有技术中对于存在的上述问题,现提供一种具有稳定机构的高压反应容器。

2、具体技术方案如下:

3、设计一种具有稳定机构的高压反应容器,包括主体、稳定组件以及固定座,所述主体的底部设有所述稳定组件,所述稳定组件包括有固定块,所述固定块的顶部固定连接在所述主体的底部且呈对称状分布,所述固定块之间固定连接有连接杆且呈对称状分布,所述固定座剖面呈凹字形且顶部固定连接有减震柱,所述减震柱的顶部固定连接有限位块。

4、优选的,所述固定座的底部固定连接在底板的顶部,所述底板的两侧固定连接有支架的一端且呈对称状分布。

5、优选的,所述固定块的底部固定连接在所述限位块的顶部,所述限位块的剖面呈凹字形且所述减震柱的顶部固定连接在所述限位块的凹槽顶部。

6、优选的,所述限位块的底部不与所述固定座的顶部接触,所述减震柱均匀的分布在所述固定座与所述限位块之间。

7、优选的,所述底板的一端固定连接有立架,所述立架呈u形,所述立架远离所述底板的一端固定连接有挡板,所述挡板呈圆形且紧贴所述主体的一侧贴合所述主体。

8、优选的,所述支架远离所述底板的一端固定连接在所述固定块的一侧,所述支架的内壁上固定连接有支杆。

9、上述技术方案具有如下优点或有益效果:主体的底部固定连接有稳定机构,当主体运行时,产生震动,震动传达到减震柱处,减震柱对主体运行产生的震动进行减震,有利于提高主体在地面上的稳定性,设有稳定机构便于对主体进行固定,提高主体在地面上的稳定性,使主体运行的更加稳定,从而减少人力物力的损耗。



技术特征:

1.一种具有稳定机构的高压反应容器,其特征在于:包括主体(1)、稳定组件(2)以及固定座(3),所述主体(1)的底部设有所述稳定组件(2),所述稳定组件(2)包括有固定块(21),所述固定块(21)的顶部固定连接在所述主体(1)的底部且呈对称状分布,所述固定块(21)之间固定连接有连接杆(22)且呈对称状分布,所述固定座(3)剖面呈凹字形且顶部固定连接有减震柱(31),所述减震柱(31)的顶部固定连接有限位块(32)。

2.根据权利要求1所述的一种具有稳定机构的高压反应容器,其特征在于:所述固定座(3)的底部固定连接在底板(20)的顶部,所述底板(20)的两侧固定连接有支架(23)的一端且呈对称状分布。

3.根据权利要求1所述的一种具有稳定机构的高压反应容器,其特征在于:所述固定块(21)的底部固定连接在所述限位块(32)的顶部,所述限位块(32)的剖面呈凹字形且所述减震柱(31)的顶部固定连接在所述限位块(32)的凹槽顶部。

4.根据权利要求1所述的一种具有稳定机构的高压反应容器,其特征在于:所述限位块(32)的底部不与所述固定座(3)的顶部接触,所述减震柱(31)均匀的分布在所述固定座(3)与所述限位块(32)之间。

5.根据权利要求2所述的一种具有稳定机构的高压反应容器,其特征在于:所述底板(20)的一端固定连接有立架(25),所述立架(25)呈u形,所述立架(25)远离所述底板(20)的一端固定连接有挡板(26),所述挡板(26)呈圆形且紧贴所述主体(1)的一侧贴合所述主体(1)。

6.根据权利要求2所述的一种具有稳定机构的高压反应容器,其特征在于:所述支架(23)远离所述底板(20)的一端固定连接在所述固定块(21)的一侧,所述支架(23)的内壁上固定连接有支杆(24)。


技术总结
本技术涉及高压反应器技术领域,尤其是一种具有稳定机构的高压反应容器,包括主体、稳定组件以及固定座,所述主体的底部设有所述稳定组件,所述稳定组件包括有固定块,所述固定块的顶部固定连接在所述主体的底部且呈对称状分布,所述固定块之间固定连接有连接杆且呈对称状分布,所述固定座剖面呈凹字形且顶部固定连接有减震柱,所述减震柱的顶部固定连接有限位块;减震柱采用橡胶材质制成,设有减震柱有利于对主体运行产生的震动进行减震,提高主体在稳定组件上的稳定性。

技术研发人员:刘炎,卢捷敏,李智颖
受保护的技术使用者:上海贯新科技有限公司
技术研发日:20230505
技术公布日:2024/1/15
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