一种DMC生产用立式反应釜的制作方法

本技术涉及化工原料生产设备，尤其涉及一种dmc生产用立式反应釜。

背景技术：

1、碳酸二甲酯是一种低毒、环保性能优异、用途广泛的化工原料，英文简称dmc，由于其分子结构中含有羰基、甲基、甲氧基和羰基甲氧基，因而可广泛用于羰基化、甲基化、甲氧基花和羰基甲氧基花等有机合成反应，是重要的有机化工中间体，dmc在回收、生产过程中，常需要用到反应釜。

2、目前，公告号为cn217068886u的中国专利公告的一种dmc生产用立式反应釜，其包括：机架；安装在机架上且顶部开设有安装孔的罐体；安装在罐体顶部的安装板；竖直安装在安装板上且从安装孔竖直插入罐体内的延伸筒；滑动穿插在延伸筒内的活动杆；设置在延伸筒外端部上对活动杆进行固定的固定件；设置在活动杆处于罐体内部一端上的搅拌组件；以及安装在安装板上用于驱动延伸筒进行旋转的驱动组件。本申请在使用时，能对罐体内的液体进行搅动，使得罐体内的液体可以较为充分的反应，从而有效的节省了时间，提高了产品质量。

3、在实际使用中发现，现有反应釜在化学反应后反应产物会残留在反应釜的内壁上，如果不及时清理，则会影响到下次制备的碳酸二甲酯的质量，存在不能对反应釜内壁的反应物残留进行及时清理，从而导致影响后期生产反应质量的问题，因此我们提出了一种dmc生产用立式反应釜用于解决上述问题。

技术实现思路

1、本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在：不能对反应釜内壁的反应物残留进行及时清理，从而导致影响后期生产反应质量的缺点，而提出的一种dmc生产用立式反应釜。

2、为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

3、一种dmc生产用立式反应釜，包括反应釜本体，所述反应釜本体顶部固定安装有防护箱，防护箱底部内壁固定安装有正反转电机，正反转电机输出轴与防护箱顶部内壁转动连接，反应釜本体两侧内壁滑动安装有升降板，防护箱与升降板之间设置有升降机构；升降板与反应釜本体之间设置有滑动机构，升降板底部固定安装有电机箱，电机箱顶部内壁固定安装有搅拌电机，搅拌电机输出轴延伸至电机箱下方，搅拌电机输出轴上设置有搅拌机构和第二清理机构。

4、优选的，所述升降机构包括两个升降丝杆和杆筒，所述防护箱顶部内壁转动安装有两个升降丝杆，两个升降丝杆分别位于正反转电机两侧，两个升降丝杆设置有旋向相反的外螺纹，升降板顶部固定安装有杆筒，升降丝杆与杆筒螺纹连接，反应釜本体顶部与防护箱底部开设有同一个杆孔，杆筒与杆孔滑动连接，正反转电机与两个升降丝杆之间设置有齿动机构。

5、优选的，所述滑动机构包括滑块和滑槽，所述升降板两侧均设置有滑块，反应釜本体两侧内壁开设有滑槽，滑块与滑槽滑动连接。

6、优选的，所述搅拌机构包括搅拌杆和搅拌叶，所述搅拌电机输出轴上固定安装有搅拌杆，搅拌杆上设置有搅拌叶，搅拌杆上设置有第一清理机构。

7、优选的，所述第一清理机构包括第一清理座和第一清理刷，所述搅拌杆靠近反应釜本体内壁一侧固定安装有第一清理座，第一清理座靠近反应釜本体内壁一侧设置有第一清理刷，第一清理刷与反应釜本体两侧内壁相适配。

8、优选的，所述第二清理机构包括第二清理座和第二清理刷，所述搅拌电机输出轴底端固定安装有第二清理座，第二清理座底部设置有第二清理刷，第二清理刷与反应釜本体底部内壁相适配。

9、优选的，所述反应釜本体左侧设置有进料口，所述进料口位于升降板下方，反应釜本体右侧底部设置有出料口，出料口上设置有开启阀。

10、优选的，所述齿动机构包括第一齿轮和两个第二齿轮，所述正反转电机输出轴上固定安装有第一齿轮，两个升降丝杆上固定安装有第二齿轮，第一齿轮与两个第二齿轮相啮合。

11、本实用新型的有益效果：

12、1、通过搅拌电机、搅拌杆和搅拌叶的配合，能够实现搅拌叶对反应物进行不断搅拌，能够实现加快反应物进行反应的目的，通过第一清理座、第一清理刷、第二清理座和第二清理刷的配合，能够实现在对反应物搅拌的同时能够对反应釜本体内壁上的反应物残留进行清理的目的；

13、2、通过正反转电机、第一齿轮和第二齿轮的配合，能够实现带动两个升降丝杆进行升降，通过升降丝杆、升降筒、升降板、电机箱和搅拌电机的配合，能够实现通过搅拌电机带动搅拌杆和搅拌叶进行升降，能够带动第一清理座和第一清理刷进行升降，能够实现对反应物进行充分搅拌，能够实现缩短反应物反应时间，能够实现提高生产效率的目的，能够实现通过第一清理刷对反应釜本体内壁进行上下充分清理，能够实现避免导致后期使用时影响反应物生产质量的目的。

技术特征：

1.一种dmc生产用立式反应釜，其特征在于，包括反应釜本体(1)，所述反应釜本体(1)顶部固定安装有防护箱(2)，所述防护箱(2)底部内壁固定安装有正反转电机(3)，所述正反转电机(3)输出轴与防护箱(2)顶部内壁转动连接，所述反应釜本体(1)两侧内壁滑动安装有升降板(4)，所述防护箱(2)与升降板(4)之间设置有升降机构；

2.根据权利要求1所述的一种dmc生产用立式反应釜，其特征在于，所述升降机构包括两个升降丝杆(5)和杆筒(6)，所述防护箱(2)顶部内壁转动安装有两个升降丝杆(5)，两个所述升降丝杆(5)分别位于正反转电机(3)两侧，两个所述升降丝杆(5)设置有旋向相反的外螺纹，所述升降板(4)顶部固定安装有杆筒(6)，所述升降丝杆(5)与杆筒(6)螺纹连接，所述反应釜本体(1)顶部与防护箱(2)底部开设有同一个杆孔，所述杆筒(6)与杆孔滑动连接，所述正反转电机(3)与两个升降丝杆(5)之间设置有齿动机构。

3.根据权利要求1所述的一种dmc生产用立式反应釜，其特征在于，所述滑动机构包括滑块(17)和滑槽(18)，所述升降板(4)两侧均设置有滑块(17)，所述反应釜本体(1)两侧内壁开设有滑槽(18)，所述滑块(17)与滑槽(18)滑动连接。

4.根据权利要求1所述的一种dmc生产用立式反应釜，其特征在于，所述搅拌机构包括搅拌杆(11)和搅拌叶(12)，所述搅拌电机(10)输出轴上固定安装有搅拌杆(11)，所述搅拌杆(11)上设置有搅拌叶(12)，所述搅拌杆(11)上设置有第一清理机构。

5.根据权利要求4所述的一种dmc生产用立式反应釜，其特征在于，所述第一清理机构包括第一清理座(13)和第一清理刷(14)，所述搅拌杆(11)靠近反应釜本体(1)内壁一侧固定安装有第一清理座(13)，所述第一清理座(13)靠近反应釜本体(1)内壁一侧设置有第一清理刷(14)，所述第一清理刷(14)与反应釜本体(1)两侧内壁相适配。

6.根据权利要求1所述的一种dmc生产用立式反应釜，其特征在于，所述第二清理机构包括第二清理座(15)和第二清理刷(16)，所述搅拌电机(10)输出轴底端固定安装有第二清理座(15)，所述第二清理座(15)底部设置有第二清理刷(16)，所述第二清理刷(16)与反应釜本体(1)底部内壁相适配。

7.根据权利要求1所述的一种dmc生产用立式反应釜，其特征在于，所述反应釜本体(1)左侧设置有进料口(19)，所述进料口(19)位于升降板(4)下方，所述反应釜本体(1)右侧底部设置有出料口(20)，所述出料口(20)上设置有开启阀。

8.根据权利要求2所述的一种dmc生产用立式反应釜，其特征在于，所述齿动机构包括第一齿轮(7)和两个第二齿轮(8)，所述正反转电机(3)输出轴上固定安装有第一齿轮(7)，所述两个升降丝杆(5)上固定安装有第二齿轮(8)，所述第一齿轮(7)与两个第二齿轮(8)相啮合。

技术总结
本技术属于化工原料生产设备技术领域，尤其是一种DMC生产用立式反应釜，包括反应釜本体，所述反应釜本体顶部固定安装有防护箱，防护箱底部内壁固定安装有正反转电机，正反转电机输出轴与防护箱顶部内壁转动连接，反应釜本体两侧内壁滑动安装有升降板，防护箱与升降板之间设置有升降机构。本技术设计合理，通过设置有搅拌机构和第一清理机构、第二清理机构，能够实现在对反应物搅拌的同时能够对反应釜本体内壁上的反应物残留进行清理的目的，通过设置有升降机构，能够实现通过第一清理刷对反应釜本体内壁进行上下充分清理，能够实现避免导致后期使用时影响反应物生产质量的目的。

技术研发人员：翟兵強,王婧,周献贵
受保护的技术使用者：枣阳市信锋胶业有限公司
技术研发日：20230619
技术公布日：2024/1/15