一种均匀涂布机构的制作方法

本技术涉及涂胶机，尤其涉及一种均匀涂布机构。

背景技术：

1、湿膜制备器主要用于涂布规定厚度的湿膜，以测定试样的遮盖力、色泽或制备样板等，在pt膜(玻璃纸)底材上涂布uv胶，湿膜制备器作为涂料配方所需制备涂膜的工具应用非常广泛。

2、1、但是在手刮时可能造成抖动，两端受力不均，刮样时速度不一等，容易对膜层造成影响。

3、2、同时在刮膜的过程中，uv胶一旦过多容易流出到pt膜外，对实验器材造成污染。

技术实现思路

1、针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种均匀涂布机构，通过电动导轨、主架、副架、涂胶辊、弹簧和限位板的相互配合使用，克服了现有技术的不足，有效的解决了手刮容易对膜层造成影响且uv胶过多容易流出到pt膜外的问题。

2、为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

3、一种均匀涂布机构，包括台架，所述台架两侧外壁均安装有电动导轨，且两个电动导轨之间安装有主架，所述主架内壁螺接有第一丝杆，且第一丝杆底部外壁转动连接有副架，所述副架内壁转动连接有涂胶辊，所述副架底部外壁连接有对称分布的弹簧，且弹簧底部外壁安装有限位板。

4、通过上述的方案，当涂胶辊固定在副架和压块之间后，通过电动导轨带动主架移动，实现了薄膜布板的自动涂胶，涂胶辊两端受力均匀，刮样时速度稳定，不会对膜层造成影响，弹簧挤压限位板能够使限位板紧贴在薄膜布板上，限制了uv胶的流向，防止uv胶流出到薄膜布板外对实验器材造成污染。

5、优选的，所述副架两端内壁均螺接有第二丝杆，且第二丝杆底部外壁转动连接有压块。

6、通过上述的方案，转动第二丝杆能够带动压块向下移动，从而将涂胶辊固定在副架和压块之间。

7、优选的，所述台架顶部外壁焊接有限位柱，且限位柱外壁滑动连接有压板，压板内壁螺接有第三丝杆，第三丝杆转动连接在台架的外壁上。

8、通过上述的方案，转动第三丝杆能够带动压板上下移动。

9、优选的，所述台架和压板之间放置有薄膜布板。

10、通过上述的方案，薄膜布板固定在台架和压板之间。

11、优选的，所述台架一侧外壁通过螺栓固定连接有控制器，且控制器与电动导轨之间通过导线连接。

12、通过上述的方案，控制器能够控电动导轨工作。

13、优选的，所述副架两端外壁均滑动连接在主架的滑槽内壁上。

14、通过上述的方案，副架可以沿着主架的内壁上下滑动。

15、本实用新型的有益效果为：

16、1、本设计的均匀涂布机构，当涂胶辊固定在副架和压块之间后，通过电动导轨带动主架移动，实现了薄膜布板的自动涂胶，涂胶辊两端受力均匀，刮样时速度稳定，不会对膜层造成影响；

17、2、本设计的均匀涂布机构，弹簧挤压限位板能够使限位板紧贴在薄膜布板上，限制了uv胶的流向，防止uv胶流出到薄膜布板外对实验器材造成污染。

技术特征：

1.一种均匀涂布机构，包括台架(1)，其特征在于，所述台架(1)两侧外壁均安装有电动导轨(2)，且两个电动导轨(2)之间安装有主架(3)，所述主架(3)内壁螺接有第一丝杆(4)，且第一丝杆(4)底部外壁转动连接有副架(5)，所述副架(5)内壁转动连接有涂胶辊(6)，所述副架(5)底部外壁连接有对称分布的弹簧(7)，且弹簧(7)底部外壁安装有限位板(8)。

2.根据权利要求1所述的一种均匀涂布机构，其特征在于，所述副架(5)两端内壁均螺接有第二丝杆(9)，且第二丝杆(9)底部外壁转动连接有压块(10)。

3.根据权利要求1所述的一种均匀涂布机构，其特征在于，所述台架(1)顶部外壁焊接有限位柱(11)，且限位柱(11)外壁滑动连接有压板(12)，压板(12)内壁螺接有第三丝杆(13)，第三丝杆(13)转动连接在台架(1)的外壁上。

4.根据权利要求1所述的一种均匀涂布机构，其特征在于，所述台架(1)和压板(12)之间放置有薄膜布板(14)。

5.根据权利要求1所述的一种均匀涂布机构，其特征在于，所述台架(1)一侧外壁通过螺栓固定连接有控制器(15)，且控制器(15)与电动导轨(2)之间通过导线连接。

6.根据权利要求1所述的一种均匀涂布机构，其特征在于，所述副架(5)两端外壁均滑动连接在主架(3)的滑槽内壁上。

技术总结
本技术属于涂胶机技术领域，尤其是一种均匀涂布机构，针对背景技术提出的手刮容易对膜层造成影响且UV胶过多容易流出到PT膜外的问题，现提出以下方案，包括台架，所述台架两侧外壁均安装有电动导轨，且两个电动导轨之间安装有主架，所述主架内壁螺接有第一丝杆，且第一丝杆底部外壁转动连接有副架，所述副架内壁转动连接有涂胶辊。本技术当涂胶辊固定在副架和压块之间后，通过电动导轨带动主架移动，实现了薄膜布板的自动涂胶，涂胶辊两端受力均匀，刮样时速度稳定，不会对膜层造成影响，弹簧挤压限位板能够使限位板紧贴在薄膜布板上，限制了UV胶的流向，防止UV胶流出到薄膜布板外对实验器材造成污染。

技术研发人员：宋正治
受保护的技术使用者：重庆恒昌印务有限公司
技术研发日：20230621
技术公布日：2024/1/15