一种集中式真空装置的制作方法

文档序号:40470741发布日期:2024-12-27 09:37阅读:44来源:国知局
技术简介:
本专利针对传统真空装置过滤层因细小颗粒吸附导致过滤效率下降的问题,提出通过振动装置与抽吸装置协同清除过滤层杂质的解决方案。清除组件通过支架传递振动使颗粒脱落,并利用抽吸装置吸附处理,实现过滤层循环使用。同时设置缓冲罐体平衡气流,控制器实现智能化管理,提升系统稳定性与真空效果。
关键词:集中式真空装置,过滤层清洁技术

本技术属于真空设备,具体涉及一种集中式真空装置。


背景技术:

1、管材挤出生产需要使用挤出机,挤出机在管材定径等挤出过程中需要真空环境,现有生产过程使用的真空装置会对进入气体进行过滤处理。如,中国专利文献cn204604865u公开了一种挤出机用的集中真空箱,它包括机台真空出口,机台真空出口连接有过滤器,过滤器的出口连接有真空罐a和真空罐b,真空罐a和真空罐b顶部均设置有真空表,真空罐a和真空罐b的中部均设置有视镜口,真空罐a和真空罐b的底部均设置有气动阀,真空罐a和真空罐b的出口分别连接有真空泵a和真空泵b,真空泵a和真空泵b均连接有水箱,水箱顶部设置有补水口,水箱设置有排水口a和排水口b,排水口b均与真空泵a和真空泵b连接,本实用新型设计简单,集中真空箱是连接到管材挤出机上的排气口,原挤出机台自带真空箱因压力小,真空不洁净导致生产管材起气泡、变形,加装集中真空箱后可以避免以上问题。

2、但上述过滤器长期使用后,依旧存在着吸附细小颗粒增多后,而导致过滤效果下降的问题。


技术实现思路

1、本实用新型提供了一种集中式真空装置,以解决现有真空装置的过滤罐体在长期使用后,由于吸附的细小颗粒积累增多而导致过滤效果下降的技术问题。

2、为了解决以上技术问题,本实用新型采用以下技术方案:

3、一种集中式真空装置,包括过滤罐体,所述过滤罐体外侧分设有第一进气口、第一出气口,内设有过滤层;所述第一出气口与真空主机的进气端经管道相连,还包括:清除组件,包括振动装置、支架、抽吸装置;所述振动装置设于所述过滤罐体外侧,所述振动装置的输出端与所述支架端部相连;所述支架设于所述过滤罐体内,所述过滤层设于所述支架侧面;所述抽吸装置设于所述过滤罐体的外侧,吸入端贯穿所述过滤罐体且处于所述过滤层的下方。

4、进一步地,所述支架非连接所述振动装置的一端设有弹性块,所述弹性块设于所述过滤罐体内侧上。

5、进一步地,所述过滤层与所述过滤罐体内侧之间设有密封层。

6、进一步地,所述密封层沿所述支架的长度方向上设有折痕,以使所述密封层展开的最大长度大于所述支架的长度。

7、进一步地,该真空装置还包括设于所述过滤罐体外侧的缓冲罐体,所述缓冲罐体外侧分设有第二进气口、第二出气口;所述第二出气口与所述第一进气口经管道相连。

8、进一步地,所述缓冲罐体设有若干个所述第二进气口,所述第二进气口所处的高度位置低于所述第二出气口所处的高度位置。

9、进一步地,该真空装置还包括设于所述真空主机侧面的控制器,所述控制器分别与所述真空主机、所述振动装置、所述抽吸装置电性相连。与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:

10、1.设置的振动装置在运行时,通过支架将振动传导至过滤层,使得过滤层上吸附的细小颗粒脱落,再通过抽吸装置将脱落下来的细小颗粒吸附处理,如此可使过滤层能循环使用,不仅保证了过滤效率,还能减少过滤层的更换频率。

11、2.设置的密封层可保证在振动装置运行时,过滤层即使有相应的振动也不会使其与过滤罐体之间有间隙产生,避免未经过滤的气体进入真空主机,保证了过滤的充分以及装置运行的安全;设置的弹性块可提高振动效果。

12、3.设置的缓冲罐体使得空气先进入缓冲罐体再进入过滤罐体,使得气体在缓冲罐体内得到缓冲,提高装置运行的稳定性;设置多个第二进气口便于与不同的生产线相连,可满足不同生产线的真空需求。

13、4.在缓冲罐体上设置多个第二进气口,可接入不同生产线的挤出机,满足生产的真空需求,避免需要多台真空装置分别对挤出机抽真空,不仅高效、能耗低,且占地面积较小。



技术特征:

1.一种集中式真空装置,包括过滤罐体(1),所述过滤罐体(1)外侧分设有第一进气口(11)、第一出气口(12),内设有过滤层(13);所述第一出气口(12)与真空主机(2)的进气端经管道相连,其特征在于,还包括:

2.根据权利要求1所述的一种集中式真空装置,其特征在于,所述支架(32)非连接所述振动装置(31)的一端设有弹性块(34),所述弹性块(34)设于所述过滤罐体(1)内侧上。

3.根据权利要求2所述的一种集中式真空装置,其特征在于,所述过滤层(13)与所述过滤罐体(1)内侧之间设有密封层(14)。

4.根据权利要求3所述的一种集中式真空装置,其特征在于,所述密封层(14)沿所述支架(32)的长度方向上设有折痕,以使所述密封层(14)展开的最大长度大于所述支架(32)的长度。

5.根据权利要求1-4任一项所述的一种集中式真空装置,其特征在于,还包括设于所述过滤罐体(1)外侧的缓冲罐体(4),所述缓冲罐体(4)外侧分设有第二进气口(41)、第二出气口(42);所述第二出气口(42)与所述第一进气口(11)经管道相连。

6.根据权利要求5所述的一种集中式真空装置,其特征在于,所述缓冲罐体(4)设有若干个所述第二进气口(41),所述第二进气口(41)所处的高度位置低于所述第二出气口(42)所处的高度位置。

7.根据权利要求6所述的一种集中式真空装置,其特征在于,还包括设于所述真空主机(2)侧面的控制器(5),所述控制器(5)分别与所述真空主机(2)、所述振动装置(31)、所述抽吸装置(33)电性相连。


技术总结
本技术公开了一种集中式真空装置,属于真空设备技术领域。该装置包括过滤罐体,过滤罐体外侧分设有第一进气口、第一出气口,内设有过滤层;第一出气口与真空主机的进气端经管道相连,还包括:清除组件,包括振动装置、支架、抽吸装置;振动装置设于过滤罐体外侧,振动装置的输出端与支架端部相连;支架设于过滤罐体内,过滤层设于支架侧面;抽吸装置设于过滤罐体的外侧,吸入端贯穿过滤罐体且处于过滤层的下方。本技术置的振动装置在运行时,通过支架将振动传导至过滤层,使得过滤层上吸附的细小颗粒脱落,再通过抽吸装置将脱落下来的细小颗粒吸附处理,如此可使过滤层能循环使用,不仅保证了过滤效率,还能减少更换频率。

技术研发人员:陈俊杰,苏收生
受保护的技术使用者:广西国塑管业集团有限公司
技术研发日:20240109
技术公布日:2024/12/26
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