一体式电解次氯酸钠发生器布局结构的制作方法

文档序号:33485145发布日期:2023-03-17 17:32阅读:70来源:国知局
一体式电解次氯酸钠发生器布局结构的制作方法

1.本实用新型涉及一种一体式电解次氯酸钠发生器布局结构,属于电解氯酸钠发生器技术领域。


背景技术:

2.次氯酸钠发生器是水处理消毒设备中使用比较广泛的一种,该次氯酸钠发生器是选用无隔膜电解法,经过电解3-5%低浓度的食盐水,生成低浓度次氯酸钠消毒液的设备。该设备在市场上小型设备大多为集成式的,例如中国专利公开号为cn206359629u公开的一种半自动式次氯酸钠发生器一体机,采用竖向分布的集成分布结构。但对大于500g/h次氯酸钠产量后,由于各单元部件体积会增大,设备大多作为组合式,各单元部件单独制作后运到现场进行集成安装连接,容易存在现场连接不正确不能及时使用的问题,导致设备停摆在现场占用大面积场地,同时增加了现场安装的时间。


技术实现要素:

3.为解决上述技术问题,本实用新型提供了一种一体式电解次氯酸钠发生器布局结构。
4.本实用新型通过以下技术方案得以实现。
5.本实用新型提供的一种一体式电解次氯酸钠发生器布局结构,包括:
6.主框架,主框架分为两侧,一侧有一层,另一侧有两层;
7.安装在有两层侧的第一层的组合水箱、泵体;
8.安装在有两层侧的第二层的电解槽、整流电源、排氢风机;
9.安装在有一层侧的第一层的控制柜、软水器、溶盐箱,控制柜内安装有单片机或plc制作而成的自动控制系统。
10.所述主框架上安装有硬质塑料封板,对主框架有两层侧的部件进行封装。
11.所述泵体为前后同列分布的四个,分布在组合水箱远离主框架只有一层的侧边上。
12.所述组合水箱包括三个独立的储药箱、清水箱以及酸洗箱组合而成。
13.所述电解槽分布于前方,所述整流电源、排氢风机分布于后方。
14.所述控制柜分布于前方,所述软水器、溶盐箱分布于后方。
15.所述控制柜内的自动控制系统电源控制输出端与电解槽、整流电源、排氢风机、泵体、软水器电源电性连接。
16.所述软水器进水口经管道与手动阀连通空置,备用连接自来水管;所述软水器出水口经管道与组合水箱的清水箱进水口、酸洗箱进水口、溶盐箱进水口连通,清水箱出水口经管道连通第一个泵体,溶盐箱的出水口经管道连接第二个泵体,第二个泵体和第一个泵体的出水口经管道连通管道混合器而后连通电解槽进水口;电解槽出水口经管道与储药箱连通,储药箱出水口经管道与第三个泵体连通,第三个泵体出水口经管道连接至手动阀空
置,用于与加药点的管道进行连通进行加药;
17.所述电解槽的酸洗口经管道连通有第四个泵体,第四个泵体将酸洗液打至电解槽中清洗水垢。
18.本实用新型的有益效果在于:由于各单元部件在制作后已经集成安装连接,解决了现场连接不正确不能及时使用的问题,避免了设备停摆占用大面积场地,降低了现场安装的时间;平常使用中,只有第三个泵体出口经管道连接至手动阀空置,以及软水器进水口经管道与手动阀连通空置,通过这两个空置的接头直接使用,便于现场操作。
附图说明
19.图1是本实用新型的主视布局结构示意图;
20.图2是本实用新型的俯视布局结构示意图;
21.图中:1-主框架;2-组合水箱;3-电解槽;4-整流电源;5-排氢风机;6-泵体;7-控制柜;8-软水器;9-溶盐箱。
具体实施方式
22.下面进一步描述本实用新型的技术方案,但要求保护的范围并不局限于所述。
23.如图1至图2所示。
24.本实用新型的一种一体式电解次氯酸钠发生器布局结构,包括:
25.主框架1,主框架1分为两侧,一侧有一层,另一侧有两层;
26.安装在有两层侧的第一层的组合水箱2、有计量功能的泵体6;泵体6为前后同列分布的四个,分布在组合水箱2远离主框架1只有一层的侧边上;组合水箱2采用pvc板制作成一个水箱,中间分隔成三个独立的容纳液体的水箱空间,以此来形成储药箱、清水箱以及酸洗箱;
27.安装在有两层侧的第二层的电解槽3、整流电源4、排氢风机5,电解槽3分布于前方,整流电源4、排氢风机5分布于后方;
28.安装在有一层侧的第一层的控制柜7、软水器8、溶盐箱9,控制柜7内安装有单片机或plc制作而成的自动控制系统,控制柜7分布于前方,软水器8、溶盐箱9分布于后方;
29.主框架1上经螺钉安装有硬质塑料封板,对主框架1有两层侧的部件进行封装。
30.所述控制柜7内的自动控制系统电源控制输出端与电解槽3、整流电源4、排氢风机5、泵体6、软水器8电源电性连接。
31.所述软水器8进水口经管道与手动阀连通空置,备用连接自来水管;所述软水器8出水口经管道与组合水箱2的清水箱进水口、酸洗箱进水口、溶盐箱9进水口连通,清水箱出水口经管道连通第一个泵体6,溶盐箱9的出水口经管道连接第二个泵体6,第二个泵体6和第一个泵体6的出水口经管道连通管道混合器而后连通电解槽3进水口;电解槽3出水口经管道与储药箱连通,储药箱出水口经管道与第三个泵体6连通,第三个泵体6出水口经管道连接至手动阀空置,用于与加药点的管道进行连通进行加药;电解槽3的酸洗口经管道连通有第四个泵体6,第四个泵体6将酸洗液打至电解槽3中清洗水垢。
32.本申请的各单元部件在制作后已经集成安装连接,解决了现场连接不正确不能及时使用的问题,避免了设备停摆占用大面积场地,降低了现场安装的时间。
33.平常使用中,只有第三个泵体6出口经管道连接至手动阀空置,以及软水器8进水口经管道与手动阀连通空置,通过这两个空置的接头直接使用,便于现场操作。
34.工作流程:
35.第一步:将食盐倒入溶盐箱9内,溶解后固体盐达到溶盐箱9四分之一高度;
36.第二步:控制柜内的自动控制系统对设备进行供电,软水器8启动生产软化水,对溶盐箱9自动补水,组合水箱2内的清水箱自动补水;
37.第三步:清水箱及溶盐箱9液位达到设计水位后进行生产次氯酸钠,第一个泵体6抽取清水箱内的液体和第二个泵体6抽取溶盐箱内的液体至管道混合器进行混合,形成低盐浓度液体排至电解槽3内;
38.第四步:当电解槽3内稀盐水液位达到高位时,启动整流电源4、排氢风机5,电解槽3生产出的次氯酸钠溶液流进组合水箱2的储药箱内,当储药箱液位达到高液位时,第一个泵体6、第二个泵体6、整流电源4停止运行,排氢风机5停止10分钟后自动停止;
39.第五步:第三个泵体6启动,从储药箱内将次氯酸钠溶液打制投加点,当储药箱低于中位时,重新开始电解次氯酸钠溶液工作,当储药箱液位低于低液位时,进行投加计量工作的第三个泵体6停止工作并报警。


技术特征:
1.一种一体式电解次氯酸钠发生器布局结构,其特征在于,包括:主框架(1),主框架(1)分为两侧,一侧有一层,另一侧有两层;安装在有两层侧的第一层的组合水箱(2)、泵体(6);安装在有两层侧的第二层的电解槽(3)、整流电源(4)、排氢风机(5);安装在有一层侧的第一层的控制柜(7)、软水器(8)、溶盐箱(9),控制柜(7)内安装有自动控制系统。2.如权利要求1所述的一体式电解次氯酸钠发生器布局结构,其特征在于:所述主框架(1)上安装有硬质塑料封板,对主框架(1)有两层侧的部件进行封装。3.如权利要求1所述的一体式电解次氯酸钠发生器布局结构,其特征在于:所述泵体(6)为前后同列分布的四个,分布在组合水箱(2)远离主框架(1)只有一层的侧边上。4.如权利要求1所述的一体式电解次氯酸钠发生器布局结构,其特征在于:所述组合水箱(2)包括三个独立的储药箱、清水箱以及酸洗箱组合而成。5.如权利要求1所述的一体式电解次氯酸钠发生器布局结构,其特征在于:所述电解槽(3)分布于前方,所述整流电源(4)、排氢风机(5)分布于后方。6.如权利要求1所述的一体式电解次氯酸钠发生器布局结构,其特征在于:所述控制柜(7)分布于前方,所述软水器(8)、溶盐箱(9)分布于后方。7.如权利要求1所述的一体式电解次氯酸钠发生器布局结构,其特征在于:所述控制柜(7)内的自动控制系统电源控制输出端与电解槽(3)、整流电源(4)、排氢风机(5)、泵体(6)、软水器(8)电源电性连接。8.如权利要求7所述的一体式电解次氯酸钠发生器布局结构,其特征在于:所述软水器(8)进水口经管道与手动阀连通空置,备用连接自来水管;所述软水器(8)出水口经管道与组合水箱(2)的清水箱进水口、酸洗箱进水口、溶盐箱(9)进水口连通,清水箱出水口经管道连通第一个泵体(6),溶盐箱(9)的出水口经管道连接第二个泵体(6),第二个泵体(6)和第一个泵体(6)的出水口经管道连通管道混合器而后连通电解槽(3)进水口;电解槽(3)出水口经管道与储药箱连通,储药箱出水口经管道与第三个泵体(6)连通,第三个泵体(6)出水口经管道连接至手动阀空置,用于与加药点的管道进行连通进行加药。9.如权利要求8所述的一体式电解次氯酸钠发生器布局结构,其特征在于:所述电解槽(3)的酸洗口经管道连通有第四个泵体(6),第四个泵体(6)将酸洗液打至电解槽(3)中清洗水垢。

技术总结
本实用新型公开了一种一体式电解次氯酸钠发生器布局结构,包括:主框架,主框架分为两侧,一侧有一层,另一侧有两层;安装在有两层侧的第一层的组合水箱、泵体;安装在有两层侧的第二层的电解槽、整流电源、排氢风机;安装在有一层侧的第一层的控制柜、软水器、溶盐箱,控制柜内安装有单片机或PLC制作而成的自动控制系统。由于各单元部件在制作后已经集成安装连接,解决了现场连接不正确不能及时使用的问题,避免了设备停摆占用大面积场地,降低了现场安装的时间;平常使用中,只有第三个泵体出口经管道连接至手动阀空置,以及软水器进水口经管道与手动阀连通空置,通过这两个空置的接头直接使用,便于现场操作。便于现场操作。便于现场操作。


技术研发人员:陈豪 李恒祥 黄光伦 陶进秋 任世武
受保护的技术使用者:贵州楚天两江环境股份有限公司
技术研发日:2021.08.16
技术公布日:2023/3/16
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