一种用于离心电镀机的离心式排水电镀缸装置的制作方法

文档序号:34084678发布日期:2023-05-07 00:59阅读:32来源:国知局
一种用于离心电镀机的离心式排水电镀缸装置的制作方法

本技术主要涉及离心电镀机领域,特指离心电镀机的电镀缸装置。


背景技术:

1、在微型电子元器件的电镀设备领域,离心电镀机主要包括阳极装置和电镀缸,电镀缸主要包括由电机驱动旋转的缸体,阳极装置接电流阳极,缸体的阴极环接电流阴极。工作时,往缸体内加入带镀层金属离子的电镀药水,阳极装置插入电镀药水中不断向电镀药水补充镀层金属离子,利用缸体旋转产生的离心力,将缸体内的微型电子元器件甩向阴极环内壁并与阴极环内壁碰撞后不断翻滚,使微型电子元器件高效而均匀上镀。

2、电镀过程中,需要源源不断地向缸体内补充新的电镀药水,同时将缸体内的药水向外排出,形成药水的循环流动,以保证药水的质量。现有电镀缸装置的排水方式主要是在缸体的底板向下开几个排水孔,在孔上压上过滤网,靠药水自身重力向下排出。这种排水方式具有以下缺点:当电镀产品尺寸较小时,为避免电镀产品从排水孔掉落,就要求排水孔的过滤网目数很高,即过滤网的网孔要非常小,而由于液体的表面张力作用,会使得靠重力排水很困难,排水速度过慢,影响正常的药水交换要求;而且,排水困难也会造成电镀完成后药水和清洗水都无法排尽,增加了药水的损耗,也增加了与下一工序的药水交叉感染的风险;另外,当过滤网破损时,会导致电镀产品流失的风险。


技术实现思路

1、本实用新型要解决的技术问题在于:针对现有技术存在的不足,提供一种排水速度快,排水干净、可靠性高的用于离心电镀机的离心式排水电镀缸装置。

2、为解决上述技术问题,本实用新型采用以下技术方案:

3、一种用于离心电镀机的离心式排水电镀缸装置,包括由电机驱动旋转的缸体以及盖设于缸体顶部的上盖,所述缸体的内径由底部至顶部逐渐增大,使缸体内侧壁围成倒锥形空腔,所述缸体顶部与上盖接壤处沿缸体圆周方向均匀开设有多个排水孔,所述排水孔水平开设于缸体的顶部端面上并贯穿缸体,所述排水孔位于缸体内壁一侧的孔径小于电镀产品的外围尺寸。

4、进一步,所述上盖底部设有向下凸的挡肩,所述挡肩靠近缸体内壁设置且与缸体内壁之间保持一定距离。

5、进一步,每个所述排水孔包括相连的小槽孔和大槽孔,所述小槽孔与缸体内部相通,所述大槽孔与缸体外部相通,所述小槽孔的孔径小于电镀产品的外围尺寸,所述大槽孔的孔径大于小槽孔的孔径。

6、进一步,所述小槽孔的槽深小于大槽孔的槽深。

7、进一步,所述小槽孔和大槽孔均为方形槽孔。

8、与现有技术相比,本实用新型的优点在于:本实用新型通过在缸体顶部与上盖接壤处开设排水孔,电镀过程中随着缸体高速旋转,缸体内的药水在离心力的作用下沿着缸体内壁斜向上从缸体顶部的排水孔轻松甩出,由于离心力远大于药水的重力,因此相比底部排水,本实用新型的排水更容易,排水速度更快;电镀完成后需要将药水完全排出时,也能在高速旋转产生的强力离心力作用下,轻松地将药水完全排尽,无残留,可避免药水浪费及交叉感染;另外,排水孔位于缸体内壁一侧的孔径小于电镀产品的外围尺寸,以及上盖底部向下凸的挡肩,都能够避免电镀产品流失,提高可靠性。



技术特征:

1.一种用于离心电镀机的离心式排水电镀缸装置,包括由电机驱动旋转的缸体以及盖设于缸体顶部的上盖,其特征在于:所述缸体的内径由底部至顶部逐渐增大,使缸体内侧壁围成倒锥形空腔,所述缸体顶部与上盖接壤处沿缸体圆周方向均匀开设有多个排水孔,所述排水孔水平开设于缸体的顶部端面上并贯穿缸体,所述排水孔位于缸体内壁一侧的孔径小于电镀产品的外围尺寸。

2.根据权利要求1所述的用于离心电镀机的离心式排水电镀缸装置,其特征在于:所述上盖底部设有向下凸的挡肩,所述挡肩靠近缸体内壁设置且与缸体内壁之间保持一定距离。

3.根据权利要求1或2所述的用于离心电镀机的离心式排水电镀缸装置,其特征在于:每个所述排水孔包括相连的小槽孔和大槽孔,所述小槽孔与缸体内部相通,所述大槽孔与缸体外部相通,所述小槽孔的孔径小于电镀产品的外围尺寸,所述大槽孔的孔径大于小槽孔的孔径。

4.根据权利要求3所述的用于离心电镀机的离心式排水电镀缸装置,其特征在于:所述小槽孔的槽深小于大槽孔的槽深。

5.根据权利要求3所述的用于离心电镀机的离心式排水电镀缸装置,其特征在于:所述小槽孔和大槽孔均为方形槽孔。


技术总结
本技术公开了一种用于离心电镀机的离心式排水电镀缸装置,包括由电机驱动旋转的缸体以及盖设于缸体顶部的上盖,所述缸体的内径由底部至顶部逐渐增大,使缸体内侧壁围成倒锥形空腔,所述缸体顶部与上盖接壤处沿缸体圆周方向均匀开设有多个排水孔,所述排水孔水平开设于缸体的顶部端面上并贯穿缸体,所述排水孔位于缸体内壁一侧的孔径小于电镀产品的外围尺寸。本技术排水速度快,排水干净、可靠性高。

技术研发人员:邓才参,陈松深
受保护的技术使用者:肇庆市英拓自动化设备科技有限公司
技术研发日:20211109
技术公布日:2024/1/12
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