一种电镀线镀液槽沉淀物清理装置的制作方法

本技术涉及电镀处理装置，尤其涉及一种电镀线镀液槽沉淀物清理装置。

背景技术：

1、整个电镀行业竞争越演越烈，生产成本越来越高，利润空间越来越薄，保证产品品质与成本降低对于每个企业意义深远。镀液在电镀的过程中占较大的生产成本，也是影响电镀品质的重要因子，所以镀液的管理对电镀品质、成本有着重要的影响。

2、在电镀生产停止后，镀液中的sn4+、杂质会渐渐的沉淀下来，但是恢复生产后镀液随着过滤泵工作，会产生翻滚，翻滚时，镀液中沉淀下来的sn4+、杂质又会重新混入镀液中。随着时间的推移，镀液中sn4+、杂质越来越多，则需将镀液打出，添加新的化试，进行稀释，以达到电镀的要求。这样会造成镀液的浪费，增加生产成本。

技术实现思路

1、本实用新型的目的是提供一种电镀线镀液槽沉淀物清理装置，解决了现有技术的中电镀液长时间使用后杂质处理不方便的技术问题。

2、本申请实施例公开了一种电镀线镀液槽沉淀物清理装置，包括：

3、电镀槽，所述电镀槽的内部设置有一电镀腔；

4、进液管道，一端设置于所述电镀槽中；

5、出液管道，一端设置于所述电镀槽中，且所述出液管道与进液管道对称设置；

6、挡板，设置于所述电镀槽底部，且所述挡板与所述电镀槽的内底侧留有间隙，所述挡板上间隔开设有多个通孔。

7、本申请设置有挡板，用于完成杂质的隔离，同时便于杂质自通孔沉淀于电镀槽的底部，便于后续处理，保证稳定挡板上电镀液的洁净，有利于反复利用。

8、在上述技术方案的基础上，本申请实施例还可以做如下改进：

9、进一步地，所述间隙为30mm，采用本步的有益效果是通过相应高度的间隙保证杂质能够稳定地沉淀。

10、进一步地，所述通孔的直径为1-10mm，采用本步的有益效果是通过通孔便于杂质通过完成沉淀。

11、进一步地，所述挡板为pp板，采用本步的有益效果是通过具体材质的挡板，保证整个装置使用的稳定性。

12、进一步地，所述挡板的侧面设置有竖向向下延伸的通槽，所述通槽的底端与所述电镀槽的内底侧接触，采用本步的有益效果是通过通槽便于挡板表面的电镀液的抽取，同时通槽能够避免与下层的杂质混合，影响电镀效果。

13、进一步地，所述通槽的侧面与所述电镀槽的侧面接触，采用本步的有益效果是在抽取电镀液时，和杂质混合，影响抽液效果。

14、进一步地，所述电镀槽的底部连通有排污管道，所述排污管道与所述间隙连通，采用本步的有益效果是通过排污管道便于实现电镀槽的清理。

15、本申请实施例中提供的一个或者多个技术方案，至少具有如下技术效果或者优点：

16、1.本申请在电镀槽中设置有挡板，用挡板对电镀槽进行分离，使得底部形成的间隙用于沉淀杂质，不影响电镀液的使用。

17、2.本申请中设置有通槽，利用该通槽提高抽取电镀液的效率，同时不会造成杂质的翻滚，提高工作效率。

技术特征：

1.一种电镀线镀液槽沉淀物清理装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的电镀线镀液槽沉淀物清理装置，其特征在于，所述间隙为30mm。

3.根据权利要求1所述的电镀线镀液槽沉淀物清理装置，其特征在于，所述通孔的直径为1-10mm。

4.根据权利要求1所述的电镀线镀液槽沉淀物清理装置，其特征在于，所述挡板为pp板。

5.根据权利要求1所述的电镀线镀液槽沉淀物清理装置，其特征在于，所述挡板的侧面设置有竖向向下延伸的通槽，所述通槽的底端与所述电镀槽的内底侧接触。

6.根据权利要求5所述的电镀线镀液槽沉淀物清理装置，其特征在于，所述通槽的侧面与所述电镀槽的侧面接触。

7.根据权利要求1所述的电镀线镀液槽沉淀物清理装置，其特征在于，所述电镀槽的底部连通有排污管道，所述排污管道与所述间隙连通。

技术总结
本技术公开一种电镀线镀液槽沉淀物清理装置，涉及电镀处理装置技术领域，其具体结构包括：电镀槽，电镀槽的内部设置有一电镀腔；进液管道，一端设置于电镀槽中；出液管道，一端设置于电镀槽中，且出液管道与进液管道对称设置；挡板，设置于电镀槽底部，且挡板与电镀槽的内底侧留有间隙，挡板上间隔开设有多个通孔。本技术解决了现有电镀液长时间使用后杂质处理不方便的技术问题。

技术研发人员：胡园,王秋旭
受保护的技术使用者：扬州虹扬科技发展有限公司
技术研发日：20230310
技术公布日：2024/1/13