专利名称：一种高强度糙面土工膜的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及土工膜生产领域，具体提供一种高强度糙面土工膜。
背景技术：
由于糙面土工膜具有较高的摩擦系数，能够更好地适应陡坡及垂直工程的设计需要，在铁路防震层、垃圾填埋场、隧道、水库、水渠、污水处理池、景观湖等环保防渗领域，糙面土工膜都得到了较好的推广应用。现有技术中的糙面土工膜均是由高密度聚乙烯材料加工而成的多层膜结构，包括基础层、糙面喷涂层等。在该类糙面膜的生产过程中，糙面喷涂原料与基础层原料并排进入挤出机的多层成型机头，在发泡剂、惰性气体等的作用下，高密度聚乙烯材料通过改性和表面破坏性发泡得到糙面多层膜复合结构。 上述糙面土工膜存在以下不足一、高密度聚乙烯通过改性和发泡后，其断裂强度和断裂伸长率都会受到很大影响，断裂强度只能达到同样厚度、同样配方光面膜的55% ;伸长率基本上被完全破坏，只能达到原材料本身伸长率的1/5。二、生产工艺复杂，设备及原料成本高。另外，现有技术中还有一种糙面土工膜，其结构是在光面土工膜的基础上增加喷丝层。这类糙面土工膜虽然不会破坏原光面土工膜的表面，在一定程度上克服了上述不足，但不仅生产工艺复杂，喷丝层还很容易脱落，影响防渗工程的工程质量。
发明内容本实用新型是针对上述现有技术的不足，提供一种生产工艺简单、性能指标优良的高强度糙面土工膜。本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是一种高强度糙面土工膜，包括膜本体，其特点是所述膜本体为单层压延膜结构，膜本体的上表面和/或下表面压延有锥形凸点。锥形凸点的横向间距优选为2-10mm，纵向间距优选为l_5mm，凸点高度优选为
O.2-1. 2mm。为了方便焊接，可以在膜本体纵向两边设置光面搭接边，光面搭接边的宽度为10-25厘米。本实用新型的高强度糙面土工膜与现有技术相比具有以下突出的有益效果(一)单层设计没有复合层，可以有效减少糙面土工膜的应力开裂点，使糙面土工膜拉伸性能稳定，从而大大提高土工膜的拉伸性能和伸长率(二)可一次性压延成型，生产工艺简单、成本低。
附图I是本实用新型高强度糙面土工膜的结构示意图；附图2是图I所示糙面土工膜放大的侧视结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步说明，但不作为对本实用新型的限定。下面给出一个最佳实施例如附图1、2所示，本实用新型的高强度糙面土工膜主要由膜本体I构成。膜本体I为单层压延膜结构，在膜本体I的上表面和下表面均压延有若干锥形凸点2。锥形凸点2的横向间距为5mm,纵向间距为2. 5mm,凸点高度为1mm。在膜本体I纵向两边留有光面搭接边3，光面搭接边3的宽度为20厘米。生产工艺 土工膜原料经混练机进行充分混合后，进入挤出机和T型模具进行挤出的初步成型，然后经两条带有凹点的压延辊进行稳固定型即可得到上述双糙面土工膜。利用一条带有凹点的压延辊和一条光面压延辊进行压延操作，即可得到单糙面土
工膜产品。以上所述的实施例，只是本实用新型较优选的具体实施方式
，本领域的技术人员在本实用新型技术方案范围内进行的通常变化和替换都应包含在本实用新型的保护范围内。
权利要求1.一种高强度糙面土工膜，包括膜本体，其特征在于所述膜本体为单层压延膜结构，膜本体的上表面和/或下表面压延有锥形凸点。
2.根据权利要求I所述的高强度糙面土工膜，其特征在于，锥形凸点的横向间距为 2-10mm,纵向间距为凸点高度为O. 2-1. 2_。
3.根据权利要求I所述的高强度糙面上工膜，其特征在于膜本体纵向两边均为光面搭接边，光面搭接边的宽度为10-25厘米。
专利摘要本实用新型涉及土工膜生产领域，具体提供一种高强度糙面土工膜。其结构包括膜本体，其特点是所述膜本体为单层压延膜结构，膜本体的上表面和/或下表面压延有锥形凸点。与现有技术相比，本实用新型的高强度糙面土工膜具有生产工艺简单、性能指标优良等特点。
文档编号E02D31/00GK202706062SQ20122036868
公开日2013年1月30日 申请日期2012年7月27日 优先权日2012年7月27日
发明者王家栋, 周广庆, 张景英, 赵玉东, 肖明, 张明 申请人:山东天海新材料工程有限公司