真空泵、真空泵用旋转体以及真空泵用平衡修正部件的制作方法

文档序号:39749226发布日期:2024-10-25 13:21阅读:68来源:国知局

本发明涉及例如涡轮分子泵等的真空泵、真空泵用旋转体以及真空泵用平衡修正部件。


背景技术:

1、一般,作为真空泵的一种而知晓涡轮分子泵。该涡轮分子泵中,借助向泵主体内的马达的通电而使旋转叶片旋转,将吸入到泵主体的气体(工艺气体)的气体分子(气体的分子)弹开从而排出气体。此外,在这样的涡轮分子泵中,存在为了适当地管理泵内的温度而具备加热器或冷却管的类型的产品。

2、在像涡轮分子泵这样地使旋转叶片旋转的真空泵中,有必要实现旋转叶片的重量的平衡。在未实现平衡的情况下,进行为了实现平衡的修正作业。作为重量平衡的修正方法,公知有后面揭示的专利文献1~3中记载的那样的方法。

3、在专利文献1中记载有为了对平衡进行修正而削去旋转叶片的一部分的方法(段落0010等)。在专利文献2中记载有在旋转叶片的内侧(用粘结剂等)粘上树脂制的配重的方法(段落0029等)、在旋转叶片等的一部分设置螺纹孔并安装螺纹件的方法(段落0046等)。进而,在专利文献3中记载有在旋转叶片的内侧设置槽而嵌合安装配重的方法(段落0029等)。

4、现有技术文献

5、专利文献

6、专利文献1:日本特开2018-127950号公报

7、专利文献2:日本特开2003-148389号公报

8、专利文献3:日本特开2002-327697号公报。


技术实现思路

1、发明要解决的课题

2、在专利文献1的方法中,需要进行旋转叶片的切削作业的工序。此外,一旦进行了切削,则不能回到原本的状态,无法重新进行平衡修正。

3、在专利文献2的使用粘结剂的方法中,树脂制的配重由于工艺气体而腐蚀或在真空中挥发而随时间变化。此外,在旋转叶片变为高温的情况下,存在会超过树脂的耐热温度的情况。进而,在专利文献2的旋转叶片设置螺纹孔的方法中,由于在旋转中发生应力集中,需要考虑到该应力集中的设计。此外,在电枢盘等设置螺纹孔的情况下,电枢盘等的直径相对地较小,因此在电枢盘上等能够安装螺栓的区域较少。进而,在直径较小的部件上设置螺栓的情况下,距旋转中心(轴心)的距离短,因此难得到平衡修正的效果。

4、在专利文献3的方法中,使用箱状的配重,但箱状的配重难以小型化,为了安装需要较多的空间。

5、本发明的目的在于提供平衡修正部件能够小型化且平衡修正部件容易安装的真空泵以及真空泵用旋转体。此外,本发明的其他的目的在于提供能够小型化且安装容易的真空泵用平衡修正部件。

6、用于解决课题的技术手段

7、(1)为了达成上述目的,本发明所涉及的真空泵具备:

8、外装体;

9、包含在所述外装体内且被支承为旋转自如的旋转体;

10、所述旋转体的驱动机构,

11、所述真空泵的特征在于,

12、在所述旋转体的内周面配设有凹部,在所述凹部设置板状的平衡修正部件。

13、(2)为了达成上述目的,本发明所涉及的真空泵用旋转体包含在外装体内而被支承为旋转自如且被驱动机构驱动,其特征在于,

14、设置板状的平衡修正部件的凹部被配设于内周面。

15、(3)为了达成上述目的,本发明所涉及的真空泵用平衡修正部件安装于真空泵用旋转体,所述真空泵用旋转体包含在外装体内而被支承为旋转自如且被驱动机构驱动,

16、真空泵用平衡修正部件的特征在于,

17、形成为板状,被配置于配设在所述真空泵用旋转体的内周面的凹部。

18、发明效果

19、根据上述发明,能够提供平衡修正部件能够小型化且平衡修正部件容易安装的真空泵以及真空泵用旋转体。此外,根据本发明,能够提供能够小型化且安装容易的真空泵用平衡修正部件。



技术特征:

1.一种真空泵,具备:

2.根据权利要求1所述的真空泵,其特征在于,

3.根据权利要求2所述的真空泵,其特征在于,

4.根据权利要求3所述的真空泵,其特征在于,

5.根据权利要求2至4中任一项所述的真空泵,其特征在于,

6.根据权利要求2至4中任一项所述的真空泵,其特征在于,

7.根据权利要求6所述的真空泵,其特征在于,

8.一种真空泵用旋转体,被包含在外装体内,被支承为旋转自如,被驱动机构驱动,

9.一种真空泵用平衡修正部件,安装于真空泵用旋转体,所述真空泵用旋转体被包含在外装体内而支承为旋转自如且被驱动机构驱动,


技术总结
本申请提供平衡修正部件能够小型化且平衡修正部件容易安装的真空泵。具备主体壳、旋转体(103)、马达(121),旋转体(103)和马达(121)被设置在主体壳之中,在旋转体(103)的内周面(211)形成有槽部(212),在槽部(212)设置板状的配重(220)。配重(220)具有弹性变位部(226a、226b),被槽部(212)夹持固定。弹性变位部(226a、226b)通过在配重(220)空出一端开放的变位容许孔(222a、222b)而形成。

技术研发人员:桦泽刚志
受保护的技术使用者:埃地沃兹日本有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/10/24
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