线性运动设备和其清洁方法与流程

本公开涉及线性运动设备和其清洁方法，且更具体地说，涉及能够收集由线性轨与可移动块之间的摩擦产生的微粒的线性运动设备以及所述线性运动设备的方法。

背景技术：

1、线性运动设备连接到待转移组件，所述组件根据所述设备的驱动执行线性往复运动。

2、线性运动设备可包含线性轨和沿着线性轨线性地移动的可移动块，且可在可移动块沿着线性轨线性地移动时，归因于可移动块的滚动构件与线性轨之间的接触而发生摩擦，从而产生微粒(或粉尘)。此处，当微粒引入到可移动块中和/或引入到驱动力供应单元中和/或引入到可移动块与线性轨之间时，微粒影响可移动块和/或驱动力供应单元的操作，从而对线性运动设备的操作可靠性产生限制。

3、因此，为了抑止和/或阻止上文所描述的微粒引入，需要收集和移除微粒的技术。

4、[现有技术文件]

5、[专利文件]

6、第20-0129611号韩国实用新型

技术实现思路

1、本公开提供包含用于收集由线性轨和可移动块之间的摩擦产生的微粒的集尘单元的线性运动设备以及清洁所述线性运动设备的方法。

2、根据示范性实施例，一种线性运动设备包含：线性轨，其沿第一方向延伸；可移动块，其至少一部分与所述线性轨接触以沿着所述线性轨移动；以及集尘单元，其连接到所述可移动块以与所述可移动块一起移动并且围绕所述线性轨安置以收集由所述线性轨和所述可移动块之间的摩擦产生的微粒。

3、所述微粒可包含磁性材料，且所述集尘单元可包含被配置成将所述微粒附着到其表面的磁体块。

4、所述磁体块可能可附着到所述可移动块并且可从所述可移动块拆离。

5、所述磁体块可包含相对于所述线性轨对称地布置的多个磁体。

6、所述磁体块可另外包含壳体，所述壳体具有呈门架形状的彼此间隔开的一对支腿和对应于所述一对支腿的在其中容纳所述磁体的容纳空间。

7、所述磁体块可另外包含耦合到所述磁体并且耦合到所述壳体并与所述壳体分离的罩盖。

8、所述可移动块可环绕所述线性轨的外周的一部分并且包含与所述线性轨接触的滚动构件，且所述磁体块可沿所述第一方向连接到所述可移动块的一侧和另一侧中的一侧。

9、所述磁体块可与所述线性轨间隔开。

10、所述磁体块和所述线性轨之间的间隔距离可大于所述滚动构件的直径。

11、所述可移动块可环绕所述线性轨的外周，且所述磁体块可连接到所述可移动块的外周以环绕所述线性轨的所述外周。

12、所述磁体块可另外包含多个经划分的主体，所述多个经划分的主体各自具有在其中容纳所述磁体的容纳空间，并且彼此耦合以环绕所述可移动块的所述外周。

13、所述线性运动设备可另外包含连接到所述可移动块以提供用于移动所述可移动块的驱动力的驱动力供应单元。

14、所述线性运动设备可另外包含：驱动轴，其沿所述第一方向延伸并且与所述线性轨平行地安置；主块，其紧固到所述驱动轴以沿着所述驱动轴移动；以及紧固构件，其被配置成将所述可移动块与所述主块连接和互锁。此处，所述线性轨和所述可移动块中的每一个线性轨和可移动块可设置为多个线性轨和可移动块，且所述线性轨和所述可移动块可沿与所述第一方向交叉的第二方向相对于所述驱动轴分别安置于两侧处。

15、根据另一示范性实施例，一种用于清洁线性运动设备的方法包含：将围绕线性轨安置并且沿第一方向延伸的集尘单元连接到可移动块；在其中所述可移动块的至少一部分接触所述线性轨的状态中，使所述可移动块与所述集尘单元一起沿着所述线性轨移动；在沿着所述线性轨移动所述集尘单元时，通过所述集尘单元收集由所述线性轨和所述可移动块之间的摩擦产生的微粒；以及清除由所述集尘单元收集的所述微粒。

16、所述微粒可包含磁性材料，所述集尘单元可包含磁体块，所述磁体块被配置成将所述微粒附着到其表面且可附着到所述可移动块并且可从所述可移动块拆离，且所述微粒的清除可包含：从所述可移动块拆离附着有所述微粒的所述磁体块；以及去除所述磁体块的磁力。

17、所述磁体块可包含：多个磁体，其相对于所述线性轨对称地布置；以及壳体，其具有在其中容纳所述磁体的容纳空间，且所述去除所述磁体块的所述磁力可包含将所述磁体与所述拆离的磁体块的所述壳体分离。

技术特征：

1.一种线性运动设备，包括：

2.根据权利要求1所述的线性运动设备，其中所述微粒包括磁性材料，以及

3.根据权利要求2所述的线性运动设备，其中所述磁体块能够附着到所述可移动块并且能够从所述可移动块拆离。

4.根据权利要求2所述的线性运动设备，其中所述磁体块包括相对于所述线性轨对称地布置的多个磁体。

5.根据权利要求4所述的线性运动设备，其中所述磁体块还包括壳体，所述壳体具有呈门架形状的彼此间隔开的一对支腿和对应于所述一对支腿的在其中容纳所述磁体的容纳空间。

6.根据权利要求5所述的线性运动设备，其中所述磁体块还包括耦合到所述磁体并且耦合到所述壳体并与所述壳体分离的罩盖。

7.根据权利要求2所述的线性运动设备，其中所述可移动块环绕所述线性轨的外周的一部分并且包括与所述线性轨接触的滚动构件，以及

8.根据权利要求7所述的线性运动设备，其中所述磁体块与所述线性轨间隔开。

9.根据权利要求8所述的线性运动设备，其中所述磁体块和所述线性轨之间的间隔距离大于所述滚动构件的直径。

10.根据权利要求4所述的线性运动设备，其中所述可移动块环绕所述线性轨的外周，以及

11.根据权利要求10所述的线性运动设备，其中所述磁体块还包括多个经划分的主体，所述多个经划分的主体各自具有在其中容纳所述磁体的容纳空间，并且彼此耦合以环绕所述可移动块的所述外周。

12.根据权利要求1所述的线性运动设备，还包括连接到所述可移动块以提供用于移动所述可移动块的驱动力的驱动力供应单元。

13.根据权利要求1所述的线性运动设备，还包括：

14.一种用于清洁线性运动设备的方法，所述方法包括：

15.根据权利要求14所述的方法，其中所述微粒包括磁性材料，

16.根据权利要求15所述的方法，其中所述磁体块包括：

技术总结
本公开涉及能够收集由线性轨和可移动块之间的摩擦产生的微粒的线性运动设备以及清洁所述线性运动设备的方法。所述线性运动设备包含：线性轨，其沿第一方向延伸；可移动块，其至少一部分与所述线性轨接触以沿着所述线性轨移动；以及集尘单元，其连接到所述可移动块以与所述可移动块一起移动并且围绕所述线性轨安置以收集由所述线性轨和所述可移动块之间的摩擦产生的微粒。

技术研发人员：高康国,刘正必,安成洙
受保护的技术使用者：AP系统股份有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/13