用于真空腔体的密封装置的制造方法

文档序号:10244344阅读:187来源:国知局
用于真空腔体的密封装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明属于密封设备技术领域,具体涉及一种用于真空腔体的密封装置。
【背景技术】
[0002]迷宫密封由若干个依次排列的密封齿组成,齿与密封件形成一系列节流间隙与膨胀空间,气体经过节流间隙时,速度增大,接着在膨胀室中突然膨胀,产生漩涡,气体能量被消耗。如此,气体经过多个曲折的通道,经多次节流而产生很大阻力,使气体难于泄露,达到密封目的。迷宫密封是气相介质的主要密封形式之一,经过长时间发展,其结构上有了很大的改进,使得密封效果大大加强,并且开发出多种形式的迷宫密封,应用广泛。
[0003]目前,对于连续式真空镀膜设备,因待镀膜原料,从进入镀膜设备到开始镀膜,再到最后的出料,整个过程不进行原料的裁切,待镀膜原料贯穿整个镀膜设备,故而设备的进出料口虽然采取一定的密封措施,但由于需要持续的进出料,密封效果不理想。为了达到工艺要求的真空环境,必须增加真空栗的数量、配置高性能的真空栗,成本大幅增加。同时,通过上述方式虽可满足工艺要求的真空条件,但外部气体依然先进入设备内部,而后被真空栗抽除,气体中附带的杂质将对镀膜设备腔体内的洁净度产生一定的影响,导致膜层的质量下降。

【发明内容】

[0004]基于以上描述的问题,本实用新型提供一种用于真空腔体的密封装置,可以在设备原先的密封条件基础上,有效的改善因进出料口不能完全密封而导致的相关问题,且不会对设备正常运转造成影响。
[0005]本实用新型采取的技术方案如下:
[0006]用于真空腔体的密封装置,在真空腔体的开口的内侧相对设置支撑块,用于支撑密封齿座,密封齿座上设有密封齿。
[0007]密封齿座向真空腔体内延伸10-100cm。
[0008]密封齿座优选向真空腔体内延伸30cm。
[0009]密封齿座向真空腔体内延伸的距离以及相邻密封齿之间的间距根据待密封的真空腔体设备的大小选择。
[0010]支撑块通过焊接的方式固定在真空腔体的开口的内侧。
[0011]同一密封齿座上相邻密封齿的齿间距为5-15mm。优选间距为10mm。
[0012]有益效果:
[0013]本实用新型提供的用于真空腔体的密封装置,能有效阻隔外部气体进入设备内部,在相同的真空环境要求下,可减少所需配置真空栗的数量,降低所需配置真空栗的要求,从而达到减少成本的目的;另外也降低了真空栗的负载,减少真空栗的维护成本,同时真空栗出现故障的几率也相应变小;
[0014]有效阻隔携带有灰尘、杂质等的外部气体进入腔体中,腔体内环境更加清洁,从而减少设备维护周期,间接增加设备利用率,提高设备产能。
【附图说明】
[0015]图1用于真空腔体的密封装置结构示意图;其中:1_待镀膜原料,2、2’-密封齿座,3、3’ -密封齿,4、4’ -支撑块,5-真空腔体。
【具体实施方式】
[0016]以下实施例是对本实用新型的进一步解释说明,以便于本领域技术人员的理解,密封齿座向真空腔体内延伸的距离以及相邻密封齿之间的间距根据待密封的真空腔体设备的大小选择,本实施例以连续式真空镀膜设备为示例,在其端口进行密封。
[0017]实施例1
[0018]如图1所示,用于真空腔体的密封装置,在真空腔体5的开口的内侧相对设置支撑块4和4’,支撑块4用于支撑密封齿座2,支撑块4垂直于真空腔体5的开口的内侧壁,密封齿座2上分布有密封齿3,相邻密封齿3之间的间距10mm,支撑块4’用于支撑密封齿座2’,密封齿座2’上分布有密封齿3’,相邻密封齿3’之间的间距10mm,密封齿座2向真空腔体内延伸30cm,密封齿座2’向真空腔体内延伸30cm;
[0019]使用时,将待镀膜原料1放置于真空腔体中,此时待镀膜原料1处于密封齿3与密封齿3’的中间位置,待镀膜原料1与相对的密封齿之间就形成了对称的两个迷宫密封。
[0020]当制程开始后,设备腔体内部处于真空状态,腔体外部气压远远大于腔体内部,此时在进出口处如果没有迷宫密封,虽然设备本身有一定的密封措施,但不能完全密封,则腔体外部将有大量气体灌入腔体中,大大增加了真空栗的负载,并且会严重影响设备腔体内的真空环境,从而降低膜层质量。而如果在入口处增加迷宫密封,则能很好的阻挡腔体外部的气体进入腔体中,减轻真空栗的负载,从而降低真空栗运行及维护等费用;同时腔体内真空环境得到很大改善,使膜层质量得到提高,并且能减少设备维护周期,增加设备运行时间,提尚设备广能。
[0021]实施例2
[0022]如图1所示,用于真空腔体的密封装置,在真空腔体5的开口的内侧相对设置支撑块4和4’,支撑块4用于支撑密封齿座2,支撑块4垂直于真空腔体5的开口的内侧壁,密封齿座2上分布有密封齿3,相邻密封齿3之间的间距5mm,支撑块4’用于支撑密封齿座2’,密封齿座2’上分布有密封齿3’,密封齿座2向真空腔体内延伸10cm,密封齿座2’向真空腔体内延伸10cm;
[0023]使用时,将待镀膜原料1放置于真空腔体中,此时待镀膜原料1处于密封齿3与密封齿3’的中间位置,待镀膜原料1与相对的密封齿之间就形成了对称的两个迷宫密封。
[0024]实施例3
[0025]如图1所示,用于真空腔体的密封装置,在真空腔体5的开口的内侧相对设置支撑块4和4’,支撑块4用于支撑密封齿座2,支撑块4垂直于真空腔体5的开口的内侧壁,密封齿座2上分布有密封齿3,相邻密封齿3之间的间距15mm,支撑块4’用于支撑密封齿座2’,密封齿座2’上分布有密封齿3’,密封齿座2向真空腔体内延伸100cm,密封齿座2’向真空腔体内延伸100cm。
【主权项】
1.用于真空腔体的密封装置,其特征在于:在真空腔体(5)的开口的内侧相对设置支撑块(4,4 ’),用于支撑密封齿座(2,2 ’),密封齿座(2,2 ’)上设有密封齿(3,3 ’)。2.根据权利要求1所述的用于真空腔体的密封装置,其特征在于:密封齿(3,3’)的相邻齿间距为5_15mm03.根据权利要求1所述的用于真空腔体的密封装置,其特征在于:密封齿座(2,2’)向真空腔体内延伸10-100cm。4.根据权利要求1所述的用于真空腔体的密封装置,其特征在于:支撑块(4,4’)通过焊接固定在真空腔体(5)的开口的内侧。5.根据权利要求2所述的用于真空腔体的密封装置,其特征在于:密封齿(3,3’)的相邻齿间距为10mmo6.根据权利要求3所述的用于真空腔体的密封装置,其特征在于:密封齿座(2,2’)向真空腔体内延伸30cm。
【专利摘要】本实用新型公开了一种用于真空腔体的密封装置,在真空腔体的开口的内侧相对设置支撑块,用于支撑密封齿座,密封齿座上设有密封齿;密封齿座向真空腔体内延伸10-100cm,优选向真空腔体内延伸30cm;支撑块通过焊接固定在真空腔体的开口的内侧。同一密封齿座上相邻密封齿的齿间距为5-15mm。本实用新型能有效阻隔外部气体进入设备内部,可减少所需配置真空泵的数量,从而达到减少成本的目的;减少真空泵的维护成本,有效阻隔携带有灰尘、杂质等的外部气体进入腔体中,从而减少设备维护周期,提高设备产能。
【IPC分类】F16J15/447
【公开号】CN205155154
【申请号】CN201520472480
【发明人】黄贤双, 毕磊
【申请人】南京汉能薄膜太阳能有限公司
【公开日】2016年4月13日
【申请日】2015年6月30日
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