用于非晶纳米晶带材生产的氩气加热浇注装置

文档序号:32397119发布日期:2022-11-30 13:02阅读:88来源:国知局
用于非晶纳米晶带材生产的氩气加热浇注装置

1.本实用新型属于非晶纳米晶带材生产用氩气加热浇注技术领域,更具体地说,特别涉及用于非晶纳米晶带材生产的氩气加热浇注装置。


背景技术:

2.非晶纳米晶带材生产是一种新型材料,而其在制造过程中为了更好的制造效果就需要用到氩气进行加热浇注。
3.而现有的氩气加热浇注装置在对液态的氩气进行加热以供浇注作业时,由于液体始终处于罐体的底端进行沉积,使得其在进行加热时加热的效率较为低下,进而存在着局限性,以及在进行浇注作业时缺乏有效的防堵结构,容易因单一的浇注头出现堵塞而导致影响正常的浇注效果。
4.于是,有鉴于此,针对现有的结构及缺失予以研究改良,提供用于非晶纳米晶带材生产的氩气加热浇注装置,以期达到更具有更加实用价值性的目的。


技术实现要素:

5.为了解决上述技术问题,本实用新型提供用于非晶纳米晶带材生产的氩气加热浇注装置,以解决现有的在进行浇注作业时缺乏有效的防堵结构,容易因单一的浇注头出现堵塞而导致影响正常的浇注效果的问题。
6.本实用新型用于非晶纳米晶带材生产的氩气加热浇注装置的目的与功效,由以下具体技术手段所达成:
7.用于非晶纳米晶带材生产的氩气加热浇注装置,包括底座,所述底座的主体为矩形结构,且底座的顶端面上固定连接有弹簧杆,弹簧杆共设有四处,且四处弹簧杆呈矩形阵列固定连接在底座的顶端面上,四处弹簧杆的顶端安装有电磁架,底座为金属材质,当电磁架处于通电产生磁性状态下,电磁架处于对底座吸附并靠近底座的状态。
8.进一步的,所述氩气罐的左侧安装有供给管,氩气罐与供给管共同组成了浇筑结构,底座的顶端面上安装有聚流座,聚流座的右侧开设有纵向槽,且聚流座为内部中空结构,并且聚流座的右侧滑动连接有滑块。
9.进一步的,两处所述气囊为相互贯通结构,且加热器的前端安装有接管,接管用于向气囊内供气及排气,且加热器的内部插入有氩气罐,氩气罐通过气囊膨胀限位。
10.进一步的,所述聚流座的前端安装有泵机,泵机通过软管与接管相连接,且底座的顶端面上固定连接有支架,支架共设有两处,且两处支架的内侧固定连接有浇注座,浇注座为箱体结构,且浇注座的左侧呈直线阵列安装有浇注管,浇注管的内部安装有电磁阀。
11.进一步的,所述电磁架的顶端面上固定连接有加热器,加热器为管状结构,且加热器的内部呈环形阵列开设有通槽,并且加热器的内壁上呈直线阵列安装有两处气囊,两处气囊分别位于加热器中内壁上的左右两端。
12.进一步的,所述滑块与供给管相连接,且滑块的上下两侧均固定连接有遮罩,遮罩
用于密封聚流座,且聚流座的左侧安装有溢流管,溢流管用于排出氩气。
13.与现有技术相比,本实用新型具有如下有益效果:
14.1、本实用新型中,在当需要对氩气进行充分的加热时,可以通过对安装在加热器底端的电磁架进行通电,并通过电磁架通电后产生磁性对底座进行吸附,然后再通过对电磁架进行断电处理,使得电磁架可以在弹簧杆的弹出作用下快速的向上回弹来对安装在加热器中的氩气罐进行震荡处理,进而达到更加实用的目的。
15.2、本实用新型中,通过启动安装在电磁架顶端的加热器对氩气罐进行加热以将氩气进行气化操作,并同步的通过氩气罐一侧所安装的供给管来向着聚流座的内部进行供气操作,并同步的通过溢流管来将氩气通过浇注座外侧所安装的浇注管来快速的将氩气进行浇注作业即可,进而达到更加实用的目的。
16.本实用新型的其它优点、目标和特征将部分通过下面的说明体现,部分还将通过对本实用新型的研究和实践而为本领域的技术人员所理解。
附图说明
17.图1是本实用新型的前侧视结构示意图。
18.图2是本实用新型的俯侧视结构示意图。
19.图3是本实用新型的图2中a处放大结构示意图。
20.图4是本实用新型的图2中b处放大结构示意图。
21.图中,部件名称与附图编号的对应关系为:
22.1、底座;2、弹簧杆;3、电磁架;4、加热器;5、气囊;6、接管;7、氩气罐;8、供给管;9、聚流座;10、滑块;11、遮罩;12、泵机;13、溢流管;14、支架;15、浇注座;16、浇注管。
具体实施方式
23.下面结合附图和实施例对本实用新型的实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型,但不能用来限制本实用新型的范围。
24.在本实用新型的描述中,除非另有说明,“多个”的含义是两个或两个以上;术语“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”、“前端”、“后端”、“头部”、“尾部”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。此外,术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
25.在本实用新型的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
26.实施例:
27.如附图1至附图4所示:
28.本实用新型提供用于非晶纳米晶带材生产的氩气加热浇注装置,包括底座1,底座1的主体为矩形结构,且底座1的顶端面上固定连接有弹簧杆2,弹簧杆2共设有四处,且四处
弹簧杆2呈矩形阵列固定连接在底座1的顶端面上,四处弹簧杆2的顶端安装有电磁架3,底座1为金属材质,当电磁架3处于通电产生磁性状态下,电磁架3处于对底座1吸附并靠近底座1的状态,聚流座9的前端安装有泵机12,泵机12通过软管与接管6相连接,且底座1的顶端面上固定连接有支架14,支架14共设有两处,且两处支架14的内侧固定连接有浇注座15,浇注座15为箱体结构,且浇注座15的左侧呈直线阵列安装有浇注管16,浇注管16的内部安装有电磁阀。
29.参考图1-图2,电磁架3的顶端面上固定连接有加热器4,加热器4为管状结构,且加热器4的内部呈环形阵列开设有通槽,并且加热器4的内壁上呈直线阵列安装有两处气囊5,两处气囊5分别位于加热器4中内壁上的左右两端,两处气囊5为相互贯通结构,且加热器4的前端安装有接管6,接管6用于向气囊5内供气及排气,且加热器4的内部插入有氩气罐7,氩气罐7通过气囊5膨胀限位,通过启动安装在电磁架3顶端的加热器4对氩气罐7进行加热以将氩气进行气化操作,并同步的通过氩气罐7一侧所安装的供给管8来向着聚流座9的内部进行供气操作,并同步的通过溢流管13来将氩气通过浇注座15外侧所安装的浇注管16来快速的将氩气进行浇注作业即可,进而达到更加实用的目的。
30.参考图1-图4,氩气罐7的左侧安装有供给管8,氩气罐7与供给管8共同组成了浇筑结构,底座1的顶端面上安装有聚流座9,聚流座9的右侧开设有纵向槽,且聚流座9为内部中空结构,并且聚流座9的右侧滑动连接有滑块10,滑块10与供给管8相连接,且滑块10的上下两侧均固定连接有遮罩11,遮罩11用于密封聚流座9,且聚流座9的左侧安装有溢流管13,溢流管13用于排出氩气,在当需要对氩气进行充分的加热时,可以通过对安装在加热器4底端的电磁架3进行通电,并通过电磁架3通电后产生磁性对底座1进行吸附,然后再通过对电磁架3进行断电处理,使得电磁架3可以在弹簧杆2的弹出作用下快速的向上回弹来对安装在加热器4中的氩气罐7进行震荡处理,进而达到更加实用的目的。
31.本实施例的具体使用方式与作用:
32.在使用本装置的时候,时候路线在当非晶纳米晶带材生产过程中需要对氩气进行加热并浇注作业时,可以通过将底座1放置到合适位置进行摆放,然后再通过将需要进行加热浇注的液化的氩气放置到固定连接在电磁架3顶端的加热器4内部进行放置即可;
33.而在当氩气罐7放置到加热器4中时,可以同步的将安装在加热器4前端的接管6与安装在聚流座9前端的泵机12进行连接,并同步的通过泵机12对安装在加热器4中的气囊5进行充气膨胀,并通过气囊5的展开来将氩气罐7进行限位即可;
34.然后即可通过启动安装在电磁架3顶端的加热器4对氩气罐7进行加热以将氩气进行气化操作,并同步的通过氩气罐7一侧所安装的供给管8来向着聚流座9的内部进行供气操作,并同步的通过溢流管13来将氩气通过浇注座15外侧所安装的浇注管16来快速的将氩气进行浇注作业即可,进而达到更加实用的目的;
35.并且在当需要对氩气进行充分的加热时,可以通过对安装在加热器4底端的电磁架3进行通电,并通过电磁架3通电后产生磁性对底座1进行吸附,然后再通过对电磁架3进行断电处理,使得电磁架3可以在弹簧杆2的弹出作用下快速的向上回弹来对安装在加热器4中的氩气罐7进行震荡处理,进而达到更加实用的目的;
36.并且在进行浇注作业时,若安装在浇注座15外侧的单个浇注管16存在着异常时,可以通过对另一处浇注管16中的电磁阀进行开启,并同步的通过对浇注管16的切换来达到
提高浇注效率的目的。
37.本实用新型的实施例是为了示例和描述起见而给出的,而并不是无遗漏的或者将本实用新型限于所公开的形式。很多修改和变化对于本领域的普通技术人员而言是显而易见的。选择和描述实施例是为了更好说明本实用新型的原理和实际应用,并且使本领域的普通技术人员能够理解本实用新型从而设计适于特定用途的带有各种修改的各种实施例。
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