一种GIS填充SF6气体装置的制作方法

文档序号:34077232发布日期:2023-05-06 22:31阅读:150来源:国知局
一种GIS填充SF6气体装置的制作方法

本技术属于电力工程施工领域,尤其涉及一种gis填充sf6气体装置。


背景技术:

1、gis是气体绝缘全封闭组合电器的英文简称,gis是运行可靠性高、维护工作量少、检修周期长的高压电气设备,在gis中常在其气室内部填充sf6绝缘气体,以实现gis设备的绝缘性,同时还需要在气室放入吸附剂,通过吸附剂吸收sf6气体中的水分和因电弧作用产生的有毒分解物。在现有的操作步骤中,使在气室抽真空前将吸附剂加入到气室中,由于气室对含水率有非常苛刻的要求,部分水分容易通过吸附剂进入到气室中,因此需要一种gis填充sf6气体装置,其可以在气室抽真空后,再加入到气室中,减少气室的水含量,提高设备的可靠性。


技术实现思路

1、为解决上述技术问题,本实用新型提供了一种gis填充sf6气体装置,可以解决现有技术吸附剂只能在气室抽真空前加入的问题。

2、本实用新型通过以下技术方案得以实现。

3、本实用新型提供的一种gis填充sf6气体装置,包括气瓶、真空泵、气室,所述气室上设有管道a,管道a一端与气室连接,管道a另一端分别通过管道b和管道c与真空泵和气瓶连接,所述管道a上设有吸附剂放置管,吸附剂放置管一端设有端盖,吸附剂放置管另一端与管道a连通,所述管道a下部伸入到气室内部,且管道a下部设有多孔板,管道a下部设有多个气孔。

4、所述气瓶上设有气阀,气阀与管道c连接,且管道c上设有截止阀a,管道a上设有截止阀d。

5、所述真空泵通过过滤器与管道b连通,管道b上设有截止阀b和截止阀c。

6、所述截止阀c与管道a之间设有压力表,截止阀b与截止阀c之间设有真空表。

7、所述吸附剂放置管下部设有挡板,挡板两侧通过安装槽安装在吸附剂放置管下部,且吸附剂放置管在挡板上部设有预留槽。

8、所述挡板上部设有磁铁,挡板为铝制,吸附剂放置管为不锈钢材质。

9、所述吸附剂放置管外部包裹有加热套。

10、本实用新型的有益效果在于:通过真空泵对气室抽真空后,再通过气瓶向气室内加入sf6气体,实现气室充sf6的操作,在抽真空后,可以通过磁铁将挡板向上抬升,使得吸附剂放置管内的吸附剂滑落到气室中,从而避免吸附剂将水分带入到气室中,降低装置的含水率。



技术特征:

1.一种gis填充sf6气体装置,其特征在于:包括气瓶(1)、真空泵(2)、气室(3),所述气室(3)上设有管道a(4),管道a(4)一端与气室(3)连接,管道a(4)另一端分别通过管道b(5)和管道c(6)与真空泵(2)和气瓶(1)连接;所述管道a(4)上设有吸附剂放置管(7),吸附剂放置管(7)一端设有端盖(8),吸附剂放置管(7)另一端与管道a(4)连通;所述管道a(4)下部伸入到气室(3)内部,且管道a(4)下部设有多孔板(16),管道a(4)下部设有多个气孔。

2.如权利要求1所述的一种gis填充sf6气体装置,其特征在于:所述气瓶(1)上设有气阀,气阀与管道c(6)连接,且管道c(6)上设有截止阀a(9),管道a(4)上设有截止阀d(15)。

3.如权利要求1所述的一种gis填充sf6气体装置,其特征在于:所述真空泵(2)通过过滤器(10)与管道b(5)连通,管道b(5)上设有截止阀b(11)和截止阀c(12)。

4.如权利要求3所述的一种gis填充sf6气体装置,其特征在于:所述截止阀c(12)与管道a(4)之间设有压力表(13),截止阀b(11)与截止阀c(12)之间设有真空表(14)。

5.如权利要求1所述的一种gis填充sf6气体装置,其特征在于:所述吸附剂放置管(7)下部设有挡板(17),挡板(17)两侧通过安装槽安装在吸附剂放置管(7)下部,且吸附剂放置管(7)在挡板(17)上部设有预留槽(18)。

6.如权利要求5所述的一种gis填充sf6气体装置,其特征在于:所述挡板(17)上部设有磁铁(19),挡板(17)为铝制,吸附剂放置管(7)为不锈钢材质。

7.如权利要求1所述的一种gis填充sf6气体装置,其特征在于:所述吸附剂放置管(7)外部包裹有加热套(20)。


技术总结
本技术公开了一种GIS填充SF6气体装置,包括气瓶、真空泵、气室,所述气室上设有管道A,管道A一端与气室连接,管道A另一端分别通过管道B和管道C与真空泵和气瓶连接,所述管道A上设有吸附剂放置管,吸附剂放置管一端设有端盖,吸附剂放置管另一端与管道A连通,所述管道A下部伸入到气室内部,且管道A下部设有多孔板,管道A下部设有多个气孔。本技术通过真空泵对气室抽真空后,再通过气瓶向气室内加入SF6气体,实现气室充SF6的操作,在抽真空后,可以通过磁铁将挡板向上抬升,使得吸附剂放置管内的吸附剂滑落到气室中,从而避免吸附剂将水分带入到气室中,降低装置的含水率。

技术研发人员:上官文路,田忠,乔业,田敏,韦全,代传飞,林晨
受保护的技术使用者:中国水利水电第九工程局有限公司
技术研发日:20221226
技术公布日:2024/1/11
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