本技术涉及护肤品原液灌装领域,特别涉及一种用于灌装的等液位真空设备。
背景技术:
1、在护肤品原液灌装领域,现有市场上无抽真空设备,产品灌入原液,加入内塞后活塞式真空管内是有带有空气的。
2、特别是,精华类的产品出料量少,产品内部通常带有空气,需要非常多的起泵次数才能够出料。
3、通常,这类产品是双相,要控制双相产品的出料量和起泵次数。
4、因此,如何把产品内部的空气排除,减少产品出料的起泵次数,成为了本领域技术人员需要努力改进的方向。
5、目前,现有技术中的灌装设备具有如下诸多缺陷:
6、一、人工生产瓶内空气无法排空,使用过程起泵次数过多。
7、二、到达市场易产生客诉和负面市场反应。
8、三、双管不能同时出料,造成原液浪费。
9、有鉴于此,本申请实用新型人设计了一种用于灌装的等液位真空设备,以期克服上述技术问题。
技术实现思路
1、本实用新型要解决的技术问题是为了克服现有技术中产品灌入原液无抽真空设备,起泵次数非常多等缺陷,提供一种用于灌装的等液位真空设备。
2、本实用新型是通过下述技术方案来解决上述技术问题的:
3、一种用于灌装的等液位真空设备,其特点在于,所述等液位真空设备包括底座、支架、密闭模具和真空设备,所述密闭模具的下部分安装在所述底座的上端面上,所述密闭模具的上部分通过所述支架安装在底座的上方;
4、所述支架内设置有第一气缸,用于驱动所述第一气缸驱动所述密闭模具的上部分与所述密闭模具的下部分上下闭合;
5、待加工产品安装在所述密闭模具中,所述真空设备与所述密闭模具的上部分连接,用于对所述待加工产品抽真空。
6、根据本实用新型的一个实施例,所述待加工产品为双相产品,包含有第一管件和第二管件,所述第一管件的直径大于所述第二管件的直径,所述第二管件位于所述第一管件内。
7、根据本实用新型的一个实施例,所述密闭模具的上部分的顶部安装有第二气缸,当所述密闭模具的上部分与所述密闭模具的下部分闭合时,通过所述第二气缸压紧所述待加工产品的第二管件的管盖。
8、根据本实用新型的一个实施例,所述等液位真空设备还包括一支撑座,所述密闭模具的上部分固定在所述支撑座的下端面上,所述第二气缸安装在所述支撑座的上端面上,所述支撑座安装在所述支架上,位于所述密闭模具的下部分上方。
9、根据本实用新型的一个实施例,所述支撑座与所述第一气缸连接,通过所述第一气缸驱动所述支撑座上下升降。
10、根据本实用新型的一个实施例,所述密闭模具的上部分的顶部设置有抽真空气管,所述真空设备与所述抽真空气管连接。
11、根据本实用新型的一个实施例,所述密闭模具的下部分内部设置有多个固定凹槽,用于放置待加工产品。
12、根据本实用新型的一个实施例,所述第二管件的底部开设有进气孔。
13、根据本实用新型的一个实施例,所述底座内设置有伸缩气缸,用于驱动所述密闭模具的下部分上下升降。
14、根据本实用新型的一个实施例,所述底座上设置有启动按钮和停止按钮,所述启动按钮和所述停止按钮与所述第一气缸连接,用于控制所述第一气缸工作。
15、本实用新型的积极进步效果在于:
16、本实用新型用于灌装的等液位真空设备,具有如下诸多优势:
17、一、增加产品的出料效率,减少大小管起泵排空次数和原液浪费。
18、二、减少客户投诉,提高市场满意度,打开精华类产品的市场。
19、三、双管能够同时出料,减少两种产品不能同时出料而造成的原液浪费。
20、四、解决固有的产品灌装问题,有效提高客户及市场的满意度。
1.一种用于灌装的等液位真空设备,其特征在于,所述等液位真空设备包括底座、支架、密闭模具和真空设备,所述密闭模具的下部分安装在所述底座的上端面上,所述密闭模具的上部分通过所述支架安装在底座的上方;
2.如权利要求1所述的用于灌装的等液位真空设备,其特征在于,所述待加工产品为双相产品,包含有第一管件和第二管件,所述第一管件的直径大于所述第二管件的直径,所述第二管件位于所述第一管件内。
3.如权利要求2所述的用于灌装的等液位真空设备,其特征在于,所述密闭模具的上部分的顶部安装有第二气缸,当所述密闭模具的上部分与所述密闭模具的下部分闭合时,通过所述第二气缸压紧所述待加工产品的第二管件的管盖。
4.如权利要求3所述的用于灌装的等液位真空设备,其特征在于,所述等液位真空设备还包括一支撑座,所述密闭模具的上部分固定在所述支撑座的下端面上,所述第二气缸安装在所述支撑座的上端面上,所述支撑座安装在所述支架上,位于所述密闭模具的下部分上方。
5.如权利要求4所述的用于灌装的等液位真空设备,其特征在于,所述支撑座与所述第一气缸连接,通过所述第一气缸驱动所述支撑座上下升降。
6.如权利要求1所述的用于灌装的等液位真空设备,其特征在于,所述密闭模具的上部分的顶部设置有抽真空气管,所述真空设备与所述抽真空气管连接。
7.如权利要求2所述的用于灌装的等液位真空设备,其特征在于,所述密闭模具的下部分内部设置有多个固定凹槽,用于放置待加工产品。
8.如权利要求2所述的用于灌装的等液位真空设备,其特征在于,所述第二管件的底部开设有进气孔。
9.如权利要求1所述的用于灌装的等液位真空设备,其特征在于,所述底座内设置有伸缩气缸,用于驱动所述密闭模具的下部分上下升降。
10.如权利要求2所述的用于灌装的等液位真空设备,其特征在于,所述底座上设置有启动按钮和停止按钮,所述启动按钮和所述停止按钮与所述第一气缸连接,用于控制所述第一气缸工作。