专利名称：斐索干涉仪检测工作台的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种光学元件的检测设备，尤其是检测平面光学元件 面形的斐索干涉仪的配套设备，属于光学检测和机械领域。
技术背景目前，斐索干涉仪作为平面光学元件表面面形的检测设备，在平面 光学元件的生产过程中承担着极为重要的检验任务，特别是在大尺寸高精 度光学工件的检测中尤其如此。由于检测精度要求高，被测工件在运送、 装夹、擦洗过程受到挤压、震动、人体接触等使得工件受力或温度场的变 化会明显影响其面形的检测结果，因此工件在检测前需要恒温等待一段时 间使其面形达到稳定后再进行检测。现有的检测方法是将工件装调后直接 在干涉仪检测位进行恒温等待，并且一次只能放置一个工件。恒温等待过程一般需要2 8小时，特殊情况需要近24小时，但实际有效的检测时间 只需要几分钟至十几分钟，检测过程中的大部分时间都用于恒温等待，致 使干涉仪的检测效率大大降低，从而限制了平面光学元件的生产效率。 实用新型内容为了克服现有的大口径平面光学工件面形检测效率低的缺陷，本实用 新型提供一种可大大提高检测效率的斐索干涉仪检测工作台。本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:斐索干涉仪检测工作台，包括承载台1、工件支架2和检测底座3，承载台1上设有导轨l-2， 工件支架2的底部设有滑动滚珠2-7，检测底座3的一端设有插槽3-1， 承载台i与检测底座3连接处设有插头1-5。本实用新型实现了斐索干涉仪检测平面光学元件面形时恒温等待过 程和检测过程的分离，具有安全装夹、多向位移、精密调节的特点。待检 工件安全装夹在工作台上进行检测前恒温等待，而不占用干涉仪的检测 位，工作台提供多工位，可同时静置多个工件。达到恒温要求后，通过 工作台位移导轨可将装夹工件平稳移动至干涉仪检测位，并通过检测底座 精密调节工件空间位置达到检测要求。 本实用新型的有益效果是，恒温等待过程和检测过程分离，多工位 设计縮短了干涉仪的检测周期，大大提高了干涉仪的检测效率，实现了工 件的连续检测，较原始的检测效率提高了4 5倍，从而也大大提高了精 密光学元件的生产效率。
图1是本实用新型总体结构示意图；图2是图1的A—A剖面图；图3是本实用新型工件支架主视图；图4是本实用新型工件支架左视图；图5是本实用新型工件支架仰视图； _图6是本实用新型工件支架底板部分主视图图7是本实用新型工件支架底板部分俯视图。
具体实施方式
以下结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。斐索干涉仪检测工作台，包括承载台l、工件支架2和检测底座3， 承载台1上设有导轨1-2，工件支架2的底部设有滑动滚珠2-7，检测底 座3的一端设有插槽3-1，承载台1与检测底座3连接处设有插头l-5。如图1、 2，承载台1上安装有导轨板1-1，上面设有导轨1-2，承载 台1上面可放置多个工件支架2，每个工件支架2上夹装一个工件5，工 件支架2底部的滑动滚珠2-7在导轨卜2中可平稳滑动，工件5在达到恒 温状态时，推动工件支架2沿着承载台1的长度方向移动，到导轨1-2 的交点处时，沿承载台1的宽度方向移动，此时推动检测底座3向承载台 1靠近(图1中箭头表示)，承载台1的插头1-5插入检测底座3的插槽 3-1中，此时两者相接并在同一平面，再推动工件支架2到检测底座3上， 推动检测底座3到检测位(图1中虚线位置)并固定。本实用新型实现了用 斐索干涉仪检测平面光学元件面形时恒温等待过程和检测过程的分离。承载台2两外侧边缘设有限位条1-3、卜4,防止工件支架2脱轨滑向工作台两侧边缘，限位条1-4上设有锁定旋钮1-6，左、右两端的锁定旋 钮1-6阻止工件支架2滑向工作台的两端边缘，中间的锁定旋钮1-6可将 工件支架2锁定在任意位置。
工作台可以同时放置8个工件支架2，可在任意位置将其夹紧锁定； 移动过程可控，工件不倾斜、摇晃、碰撞；承载设计满足装载工件的最大负荷要求，承重X).5T;导轨1-2为L形，节省检测空间，上下台方便、 可靠，易于操作、调节；承载台1具有很好的稳定性，不滑动、不倾倒、 不变形。如图3—7，工件支架2由底板2-1、顶板2-2、螺杆2-3及旋钮2-4 组成，顶板2-2上设有聚四氟乙烯夹紧块2-5:底板2-l上设有聚四氟乙 烯垫板2-6;垫板2-6上设有聚四氟乙烯夹紧块2-5。工件2置于垫板2-6 上，根据工件2的高度，用旋钮2-4调节顶板2-2的高度，顶板2-2与工 件2之间留有空隙，根据工件2的厚度，移动夹紧块2-5接触工件2，旋 紧螺栓2-9将工件2固定；根据工件的宽度，将夹紧块2-5置于垫板2-6 和底板2-1以及顶板2-2相应的连接孔2-8处。工件支架2可以满足不同尺寸工件2的装夹要求，最大可装夹尺寸为 600mmx500mmxlOOmm的工件，且在此规格内装夹范围可调；与工件接 触的垫板2-6和夹紧块2-5采用聚四氟乙烯材料制作，夹紧块2-5的楔口 为V形结构并且可以调节，既保证了装夹安全又不会造成工件的应力变 形。检测底座3可承重120Kg，可垂直方向升降，升降范围为0 150mm; 可手动精密调节其倾斜角度，水平角度转动范围0 70°，垂直俯仰调节 范围±5°，水平移动距离土40mm;调节精度由调节螺杆实现，采用螺距 为0.25mm超细牙螺杆。工件2的检测位置调整合适后，即可在检测室4-2中由斐索干涉仪4 通过标准镜4-1进行其面形检测。上面已结合附图对本实用新型的具体实施方式
进行了示例性的描述， 显然本实用新型不限于此，在本实用新型范围内进行的各种改型均没有超 出本实用新型的保护范围。
权利要求1、一种斐索干涉仪检测工作台，包括承载台(1)、工件支架(2)和检测底座(3)，其特征在于，承载台(1)上设有导轨(1-2)，工件支架(2)的底部设有滑动滚珠(2-7)，检测底座(3)的一端设有插槽(3-1)，承载台(1)与检测底座(3)连接处设有插头(1-5)。
2、 根据权利要求l所述的斐索干涉仪检测工作台，其特征在于，所述的 导轨(1-2)设在置于承载台(1)上面的导轨板(1-1)上，在承载台(1)的长度方向和宽度方向上均有两条，在承载台(1)的一端相交。
3、 根据权利要求l所述的斐索干涉仪检测工作台，其特征在于，所述的 承载台(1)两外侧边缘设有限位条(卜3)、 (1-4)。
4、 根据权利要求3所述的斐索干涉仪检测工作台，其特征在于，所述的 限位条U-4)上设有锁定旋钮(1-6)。
5、 根据权利要求l所述的斐索干涉仪检测工作台，其特征在于，所述的 工件支架(2)由底板(2-1)、顶板(2-2)、螺杆(2-3)及旋钮(2-4) 组成。
6、 根据权利要求5所述的斐索干涉仪检测工作台，其特征在于，所述的 底板(2-1)的底部设有4个滚珠套(2-10)，滑动滚珠(2-7)置于其中。
7、 根据权利要求5所述的斐索干涉仪检测工作台，其特征在于，所述的 顶板(2-2)上设有聚四氟乙烯夹紧块(2-5)。
8、 根据权利要求5所述的斐索干涉仪检测工作台，其特征在于，所述的 底板(2-l)上设有聚四氟乙烯垫板(2-6)。
9、 根据权利要求8所述的斐索干涉仪检测工作台，其特征在于，所述的 的垫板(2-6)上设有聚四氟乙烯夹紧块(2-5)。
专利摘要本实用新型公开了一种斐索干涉仪检测工作台，旨在提供一种检测平面光学元件面形配套设备。它包括承载台、工件支架和检测底座，承载台上设有导轨，工件支架的底部设有滑动滚珠。本实用新型使工件的恒温等待过程和检测过程分离，实现了工件的连续检测，大大提高了检测效率，较原始的检测效率提高了4-5倍，提高了光学元件的生产效率。本实用新型适合大口径斐索干涉仪检测大型平面光学元件面形时使用。
文档编号G01M11/04GK201053919SQ20072007990
公开日2008年4月30日 申请日期2007年6月12日 优先权日2007年6月12日
发明者杰 于, 刘夏来, 光 巨, 宁 张, 李瑞洁, 杨李茗, 敏 段, 石琦凯 申请人:成都精密光学工程研究中心