可改变透过面积的测试腔结构的制作方法

文档序号:5891677阅读:143来源:国知局
专利名称:可改变透过面积的测试腔结构的制作方法
技术领域
本实用新型涉及一种可改变透过面积的测试腔结构。
背景技术
测试腔是气体渗透设备上的一个主要部件,用来安放测试试样,测试腔的上腔上 安装有密封圈,密封圈内侧的面积为试样的透过面积。有时由于试样外形尺寸比密封圈的 直径小,或者是试样的透过面积过大造成仪器超量程,这时就需要改变试样的透过面积。因 为上腔的密封圈槽是不可改变的,所以传统的常规设备只能做一种透过面积的试验,无法 改变透过面积。
发明内容本实用新型为克服上述现有技术的不足,提供了一种可改变透过面积的测试腔结 构,它通过在上下腔之间安装一个面积变化腔,可以实现多种面积的测试。本实用新型的目的是采用下述技术方案实现的一种可改变透过面积的测试腔结构,它包括上腔和下腔,所述上腔和下腔间设有 面积变化腔;试样置于面积变化腔和下腔之间。所述面积变化腔上设有面积变化腔气孔,它与上腔连通;在面积变化腔气孔下部 是面积变化腔空间,面积变化腔空间周围设有密封圈槽,密封圈槽内设有密封圈II ;面积变 化腔空间与下腔连通。本实用新型将面积变化腔安装在上下腔之间,试样在下腔和面积变化腔之间,安 装了面积变化腔以后的测试腔,其透过面积为面积变化腔上密封圈II的内侧面积。因为面 积变化腔和测试系统的任何件都没有连接,可以很方便地更换,从而可以很方便地实现多 种透过面积的测量。本实用新型的优点为1、可以实现多种透过面积的测试。2、操作简单。3、成本低。

图1是上腔、面积变化腔、试样、下腔分开的结构图;图2是上腔、面积变化腔、试样、下腔闭合的结构图;图3为本实用新型第二种实施方案的结构图。其中1.密封圈I,2.上腔,3.上腔空间,4.上腔气孔I,5.面积变化腔气孔,6.面 积变化腔空间,7.密封圈II,8.密封圈槽,9.面积变化腔,10.试样,11.下腔,12.下腔气孔 I ,13.上腔气孔II,14.下腔气孔II,15.下腔空间。
具体实施方式
以下结合附图和实施例对本实用新型做进一步说明。实施例1:图1-图2中,上腔2上装有密封圈I 1,压在面积变化腔9上,面积变化腔9上安 装有密封圈II 7,压在试样10上,密封圈II 7内侧的试样10的面积为透过面积。试验气 体由上腔气孔I 4进入到上腔空间3,再经过面积变化腔气孔5进入面积变化腔空间6,直 接接触试样10。渗透到下腔11的气体进入下腔气孔I 12。改变面积变化腔9的密封圈槽 8的尺寸,更换相应的密封圈II,就可以实现不同面积的渗透。面积变化腔9上的密封圈槽 8可以在下腔11直径内的任一直径位置。实施例2 图3中,上腔2上装有密封圈I 1,压在面积变化腔9上,面积变化腔9上安装有密 封圈II 7,压在试样10上,密封圈II 7内侧的试样10的面积为透过面积。试验气体由上腔 气孔I 4进入到上腔空间3,由上腔气孔II 13排出,气体分子通过扩散由面积变化腔气孔5 进入面积变化腔空间6,保持气体的浓度,直接接触试样10的上平面。载气由下腔气孔I 12 进入下腔空间15接触试样10的下表面,由下腔气孔II 14排出。改变面积变化腔9的密封 圈槽8的尺寸,更换相应的密封圈II,就可以实现不同面积的渗透。
权利要求一种可改变透过面积的测试腔结构,它包括上腔和下腔,其特征是,所述上腔和下腔间设有面积变化腔;试样置于面积变化腔和下腔之间。
2.如权利要求1所述的可改变透过面积的测试腔结构,其特征是,所述面积变化腔上 设有面积变化腔气孔,它与上腔连通;在面积变化腔气孔下部是面积变化腔空间,面积变化 腔空间周围设有密封圈槽,密封圈槽内设有密封圈II ;面积变化腔空间与下腔连通。
专利摘要本实用新型涉及一种可改变透过面积的测试腔结构,它包括上腔和下腔,所述上腔和下腔间设有面积变化腔;试样置于面积变化腔和下腔之间。通过更换不同的面积变化腔,就可以得到不同的透过面积。本实用新型的优点为1、可以实现多种透过面积的测试。2、操作简单。3、成本低。
文档编号G01N13/04GK201681035SQ201020200098
公开日2010年12月22日 申请日期2010年5月24日 优先权日2010年5月24日
发明者姜允中 申请人:济南兰光机电技术有限公司
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