一种产线光谱测量系统的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种产线光谱测量系统，通过控制中心控制光谱测量装置的测量时序与生产线上被测目标的移动时序相同步，可根据测量需要实现被测目标不同发光区域图像光谱的测量，功能强大且测试速度快，满足各种产线的测试要求；同时还可通过灵活配置成像或者阵列探测等采样方式，减小杂散光，提高测量准确度。
【专利说明】一种产线光谱测量系统
[0001]【【技术领域】】
[0002]本实用新型属于光辐射测试领域，具体涉及一种适用于生产线的光谱测量系统。
[0003]【【背景技术】】
[0004]图像光谱测量是评价液晶、IXD、LED等新型显示设备质量的重要手段，通过图像光谱测量可获得多个显示屏技术指标，如亮度均匀性、最大亮度、对比度等。
[0005]然而，在实验室测量中，图像光谱已经可以达到较高的测量准确度，但测试速度较慢，目前国内外均未见能够适用于生产线的图像光谱测量系统，现有的实验室型图像光谱测量装置无法满足生产线的测量要求，造成IXD等产品仅能通过抽检方式评价其品质，不仅测试效率低，且无法实现出厂产品的100%全检，不合格产品流向市场的几率大增。
[0006]【实用新型内容】
[0007]针对上述现有技术的不足，本实用新型旨在提供一种可快速、准确获取生产线上被测目标图像光谱的测量系统，具有测量速度快、准确度高、操作方便等特点。
[0008]本实用新型是通过以下技术方案实现的。一种产线光谱测量系统，其特征在于，包括控制中心和光谱测量装置，所述的被测目标可移动地设置在生产线上，所述的控制中心与光谱测量装置、被测目标均电连接，控制中心控制光谱测量装置的测量时序与生产线上被测目标的移动时序相同步，光谱测量装置接收来自整个被测目标的光线。
[0009]控制中心控制被测目标按一定的移动时序沿生产线移动，待被测目标移动至光谱测量装置的入光口处；控制中心获取被测目标的位置信息并同步触发光谱测量装置，光谱测量装置接收并测量来自被测目标的光线，实现被测目标图像光谱的测量。需要注意的是，被测目标的测量区域可灵活选择，一次测量即可测量被测目标某一个或者多个特征点发出的光，或者某一区域发出的光，或者整个被测目标发出的光的图像光谱，可根据测试需要，一次测量即可实现多种测量目的，功能强大且测量速度快，适用于各种产线的测试要求。
[0010]本实用新型还可以通过以下技术方案进一步完善和优化:
[0011]作为优选，所述的光谱测量装置包括一个以上并列设置的入光口和一个以上阵列光谱仪，且各个入光口均与单个阵列光谱仪相连接；被测目标不同发光区域出射的光线直接或者间接入射到同一入光口或者不同入光口中，入光口将光线导入其对应的阵列光谱仪中。对于仅具备一个入光口的光谱测量装置，根据具体的技术方案，可实现不同的测量功能，例如，可通过调节距离、方位等手段，使得入光口与被测目标的对准区域不同，被测目标部分区域(如显示屏上某点)发出的光直接入射至阵列光谱仪中，实现该区域光谱的测量；或者可利用该入光口与成像装置相配合，被测目标发出的光经成像装置会聚后、间接入射至阵列光谱仪中，阵列光谱仪实现被测目标的图像光谱的测量。此外，对于具有多个入光口的光谱测量装置，通过设置多个入光口来接收被测目标不同发光区域发出的光线，实现被测目标发光区域各点光谱特性的测量分析，每个入光口均与单个阵列光谱仪相连接，即不同的阵列光谱仪测量被测目标不同发光区域发出的光谱，将多个阵列光谱仪的测量结果通过上位机等方式整合，即可实现整个测量对象的图像光谱的测量。该技术方案通过多个阵列光谱仪实现被测目标不同发光区域光谱的测量，不仅测量速度快，一次测量即可得到整个被测目标的图像光谱；而且由于各个区域的光线由不同阵列光谱仪分别测量，有效提高光谱分辨率和测量准确度。
[0012]光谱测量装置的入光口可以光纤或者狭缝，对于单个入光口，光纤和狭缝都能满足测量要求；对于多个入光口的情况，优选光纤。多根光线可编排成任意指定形状，如圆形、正方向、长方形等，以将被测目标不同形状区域内的光线导入到阵列光谱仪中测量，实现多元化测量目的。
[0013]作为优选，一个以上成像装置，所述的成像装置将被测目标发出的光线成像至光谱测量装置的入光口处。成像装置将被测光线会聚，并成像到光谱测量装置的入光口处，经光谱测量装置分析测量后，获得图像光谱。根据光谱测量装置入光口的数目，成像装置的数目也可灵活改变。单个入光口，仅需一个成像装置即可；多个入光口，可在每个入光口前均设置一个成像装置，实现被测目标不同发光区域图像光谱的同时测量，测量准确度高且测量速度快。
[0014]作为优选，包括一个以上遮光装置，所述的遮光装置设置在被测目标和光谱测量装置入光口的光路之间。利用光阑、遮光筒等遮光装置，避免环境杂散光或者各个入光口之间的光线相互干扰，从而减小杂散光，提高测量准确度。
[0015]作为一种技术方案，包括位置驱动机构，所述的位置驱动机构驱动光谱测量装置相对被测目标移动或转动。显示屏等被测目标需要在不同的视角下测试其图像光谱特性，通过位置驱动机构带动光谱测量装置绕被测目标相对转动，即可实现上述测量目的；同时被测目标还可与角度计相联动，角度计记录被测目标的角度信息，结合角度和光谱信息，即可得到被测目标在空间光谱分布。类似显示屏的被测目标，仅需测量其上的某一点或者某几点的光谱特性即可，可通过位置驱动机构带动被测目标沿光谱测量装置移动，使得不同测量点对准光谱测量装置的入光口，以实现不同测量点的光谱特性测量。
[0016]作为一种技术方案，所述的光谱测量装置与被测目标之间的距离可调节。在实际测试时，通过调节光谱测量装置和被测目标之间的距离，即可实现不同距离下被测目标图像光谱的客观评价。
[0017]本实用新型可适用于各种不同的生产流水线，如一字型流水线、环形流水线或者阶梯型流水线等，被测目标沿流水线移动至某固定位置，光谱测量装置对该固定位置处的被测目标进行测量，一次采样即可实现被测目标整个光谱图像的测量，测量速度快。
[0018]综上所述，本实用新型通过控制中心控制光谱测量装置的测量时序与生产线上被测目标的移动时序相同步，可根据测量需要实现被测目标不同发光区域图像光谱的测量，功能强大且测试速度快，满足各种产线的测试要求；同时还可通过灵活配置成像或者阵列探测等采样方式，减小杂散光，提高测量准确度。
[0019]【【专利附图】
【附图说明】】
[0020]附图1是实施例1的示意图；
[0021]附图2是实施例2的示意图。
[0022]1-控制中心；2_光谱测量装置；2-1-入光口 '2-2-阵列光谱仪；3_被测目标；4-生产线；5_成像装置；6_位置驱动机构；7_遮光装置。
[0023]【【具体实施方式】】
[0024] 实施例1[0025]如图1所示，本实施例公开了一种产线光谱测量系统，包括控制中心1、光谱测量装置2、被测目标3、生产线4、成像装置5和位置驱动机构6，被测目标3可移动地设置在生产线4上，控制中心I与光谱测量装置2、被测目标3均电连接，位置驱动机构6与光谱测量装置2电连接。
[0026]测量时，多个被测目标3沿着生产线4依次移动至某指定位置，控制中心I获取被测目标3的位置信息，并将该位置信息发送至控制中心1，控制中心I同步触发光谱测量装置2，光谱测量装置2接收和测量被测目标3发出的、入射到成像装置5入光口 2-1并会聚的光线，即光谱测量装置2 —次采样即可获得被测目标3的全部光谱图像，测量速度快。
[0027]此外，位置驱动机构6带动光谱测量装置2绕被测目标3相对转动，以实现被测目标3需要在不同的视角下图像光谱特性的测量。
[0028]实施例2
[0029]如图2所示，与实施例1不同的是，本实施例通过阵列探测的方式采集整个被测目标3的光信号。光谱测量装置2包括三个并列设置的入光口 2-1和三个阵列光谱仪2-2，每个入光口 2-1与一个阵列光谱仪2-2对应连接；被测目标3不同发光区域发出的光线分别入射到不同的入光口 2-1中，入光口 2-1将光线导入相应的阵列光谱仪2-2中测量分析，有效提高光谱分辨率和测量准确度。
[0030]本实施例还包括遮光装置7，遮光装置7设置在被测目标3和光谱测量装置2入光口的光路之间，用以避免由于各个入光口 2-1之间的光线相互干扰，从而减小杂散光，提高测量准确度。
【权利要求】
1.一种产线光谱测量系统，其特征在于，包括控制中心(I)和光谱测量装置(2)，所述的被测目标(3)可移动地设置在生产线(4)上，所述的控制中心(I)与光谱测量装置(2)、被测目标(3)均电连接，控制中心(I)控制光谱测量装置(2)的测量时序与生产线上被测目标⑶的移动时序相同步，光谱测量装置⑵接收来自被测目标⑶的光线。
2.如权利要求1所述的产线光谱测量系统，其特征在于，所述的光谱测量装置(2)包括一个以上并列设置的入光口(2-1)和一个以上阵列光谱仪(2-2)，且各个入光口(2-1)均与单个阵列光谱仪(2-2)相连接；被测目标(3)不同发光区域出射的光线入射到同一入光口(2-1)或者不同入光口(2-1)中，入光口(2-1)将光线导入其对应的阵列光谱仪(2-2)中。
3.如权利要求2所述的产线光谱测量系统，其特征在于，包括一个以上成像装置(5)，所述的成像装置(5)将被测目标(3)发出的光线成像至光谱测量装置(2)的入光口(2-1)处。
4.如权利要求2所述的产线光谱测量系统，其特征在于，所述的入光口(2-1)为光纤或者狭缝。
5.如权利要求1或2或3所述的产线光谱测量系统，其特征在于，包括位置驱动机构(6)，所述的位置驱动机构(6)驱动光谱测量装置(2)相对被测目标(3)移动或转动。
6.如权利要求1或2或3所述的产线光谱测量系统，其特征在于，所述的光谱测量装置(2)与被测目标(3)之间的距离可调节。
7.如权利要求2或3所述的产线光谱测量系统，其特征在于，包括一个以上遮光装置(7)，所述的遮光装置(7)设置在被测目标(3)和光谱测量装置(2)入光口(2-1)的光路之间。
【文档编号】G01J3/28GK203572575SQ201320698895
【公开日】2014年4月30日 申请日期:2013年11月7日 优先权日:2013年11月7日
【发明者】潘建根, 黄艳, 杨培芳 申请人:杭州远方光电信息股份有限公司