利用光中子透射对物体成像的方法以及装置制造方法
【专利摘要】本发明涉及利用光中子透射对物体成像的方法以及装置。本发明的方法使用光中子射线透射所述物体，具有如下步骤：使光中子源工作，发射光中子射线并照射所述物体；利用探测器对来自所述光中子源的光中子射线进行接收；以及根据由所述探测器接收到的光中子射线对所述物体进行成像，所述探测器是以能够使光中子慢化并且能够吸收光中子的方式构成的探测器，来自所述光中子源的光中子射线的入射方向与所述探测器的表面的法线方向所成的角度处于60度～87度的范围。根据本发明，通过使来自光中子源的光中子射线的入射方向与探测器的表面的法线方向所成的角度θ为60度～87度的范围，从而能够将分辨率由10cm提高到2cm左右。
【专利说明】利用光中子透射对物体成像的方法以及装置
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种透射成像技术，特别是涉及一种利用光中子透射对物体成像的方法以及装置。
【背景技术】
[0002]在利用直线电子加速器产生的光中子源进行透射成像时，首先要解决X射线脉冲对光中子探测的干扰问题，由于光中子是X射线的伴生物，而后者的强度远远大于前者(约大4飞个量级)，因此，即使某个探测器对中子非常敏感而对光子又相当不敏感，X射线脉冲的信号幅度也仍会明显超过光中子脉冲的信号幅度，此时所获得的透射成像信息就主要来自于X射线脉冲的贡献，而非光中子的贡献。
[0003]因此，在透射成像时，为了消除X射线脉冲的干扰，在现有技术中提出了“中子慢化体+中子吸收体”的方案(例如，参照
【发明者】杨祎罡, 张勤俭, 李元景, 张智 申请人:同方威视技术股份有限公司